“中谷政次”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果19个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]液剂涂敷方法、液剂涂敷机以及液态垫圈-CN202211459934.2在审
发明人：堀裕多;中谷政次 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2020-02-18 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B05D1/26 文献下载
摘要：本发明提供呈有端状地连续涂敷液剂的涂敷方法，包括：将涂敷结束的状态下的液剂的第一端部以及第二端部之间的中途部分中的任一位置决定为涂敷开始位置及涂敷结束位置的工序；从上述涂敷开始位置至上述第一端部为止涂敷液剂的第一涂敷工序；从上述第一端部折回而至上述第二端部为止涂敷液剂的第二涂敷工序；以及从上述第二端部折回而至上述涂敷结束位置为止涂敷液剂的第三涂敷工序，在上述第二涂敷工序中要涂敷的液剂的至少一部分与在上述第一涂敷工序中涂敷的液剂在高度方向上重叠，并且在上述第三涂敷工序中要涂敷的液剂的至少一部分与在上述第二工序中涂敷的液剂在高度方向上重叠。
液剂方法涂敷机以及液态垫圈

[发明专利]液体涂敷装置-CN201980063511.9有效
发明人：前田贤司;中谷政次;石谷明;中村耕史;西村明浩 -专利权人：兵神装备株式会社
申请日： 2019-08-28 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：液体涂敷装置具有：液室；隔膜，其通过变形而使液室的容积变化；以及压电元件，其使隔膜沿厚度方向变形。液体涂敷装置具有加压壳体底壁部，其位于压电元件与隔膜之间，支承压电元件的隔膜侧。液体涂敷装置具有固定壳体底壁部，其支承压电元件的与隔膜相反侧的端部。液体涂敷装置具有棒状的柱塞，其贯通加压壳体底壁部，向隔膜传递压电元件的伸缩。液体涂敷装置具有螺旋弹簧，其位于压电元件与加压壳体底壁部之间并且被所述第一支承部支承，对压电元件赋予压缩力。
液体装置

[发明专利]液体涂敷装置-CN201980063419.2有效
发明人：李鹏抟;中谷政次;石谷明;中村耕史;西村明浩 -专利权人：兵神装备株式会社
申请日： 2019-08-28 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：液体涂敷装置具有：液体贮存部，其贮存液体；压力传感器，其检测液体贮存部内的液体余量；排出部，其向外部排出液体贮存部内的所述液体；负压用泵，其产生比大气压低的负压；负压调整容器，其内部被负压用泵调整为规定的负压；压力调整控制部，其根据压力传感器的检测结果控制负压用泵的驱动；以及压力切换部，其能够将液体贮存部内的压力切换为负压调整容器内的所述规定的负压。
液体装置

[发明专利]涂敷装置-CN201980056529.6有效
发明人：李鹏抟;中谷政次 -专利权人：兵神装备株式会社
申请日： 2019-08-28 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：涂敷头具备：涂敷液室，其填充有所述涂敷液；以及喷嘴室，其是从所述涂敷液室连续的流路，其前端开口是所述排出口。控制部具备排出参数决定部，该排出参数决定部将能够与所述涂敷头的排出动作并行地从涂敷液供给部向所述涂敷液室内补给的所述涂敷液的每单位时间的体积作为补给流量，根据所述补给流量和所述喷嘴室的容积，决定所述液滴从所述涂敷头连续排出的连续排出期间的排出参数。所述连续排出期间包含从所述排出口排出的所述涂敷液的每单位时间的体积比所述补给流量大的增量排出期间，并且，在所述连续排出期间从所述排出口排出的所述涂敷液的总体积为所述喷嘴室的容积与在所述连续排出期间从所述涂敷液供给部向所述涂敷液室内补给的所述涂敷液的总体积的和以下。
装置

[发明专利]涂布装置-CN202010323597.9有效
发明人：李鹏抟;中谷政次 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2020-04-22 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明提供能够形成所期望形状的垫片的涂布装置。涂布装置(100)具备：针筒(10)，其储存液剂；温度传感器(40)，其测定针筒(10)周边的针筒周边温度；以及控制器(50)，其控制对液剂赋予的压力。控制器(50)具有：液剂温度估算部(52)，其基于液剂的传热特性和针筒周边温度的推移，估算液剂的液剂温度；以及压力设定部(53)，其基于估算出的液剂温度，设定对液剂赋予的压力。
装置

[发明专利]涂敷装置和气泡去除方法-CN201880006795.3有效
发明人：李鹏抟;中谷政次;前田贤司 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2018-01-11 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：涂敷装置具有：涂敷头，其具有填充有涂敷液的内部空间和与所述内部空间连续的吐出口；涂敷液供给部，其向所述涂敷头的所述内部空间提供所述涂敷液；涂敷液排出部，其具有与所述内部空间连接的排出流路，将所述内部空间的所述涂敷液经由所述排出流路排出；液体下滴检测部，其检测从所述吐出口下滴的所述涂敷液；以及控制部，所述控制部根据所述液体下滴检测部的输出而对所述涂敷液供给部和所述涂敷液排出部中的至少一方进行控制，由此形成所述涂敷液从所述吐出口下滴的液体下滴状态。
装置气泡去除方法

[发明专利]液剂涂敷方法、液剂涂敷机以及液态垫圈-CN202010098088.0在审
发明人：堀裕多;中谷政次 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2020-02-18 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： B05D1/26 文献下载
摘要：本发明提供呈有端状地连续涂敷液剂的涂敷方法，包括：将涂敷结束的状态下的液剂的第一端部以及第二端部之间的中途部分中的任一位置决定为涂敷开始位置及涂敷结束位置的工序；从上述涂敷开始位置至上述第一端部为止涂敷液剂的第一涂敷工序；从上述第一端部折回而至上述第二端部为止涂敷液剂的第二涂敷工序；以及从上述第二端部折回而至上述涂敷结束位置为止涂敷液剂的第三涂敷工序，在上述第二涂敷工序中要涂敷的液剂的至少一部分与在上述第一涂敷工序中涂敷的液剂在高度方向上重叠，并且在上述第三涂敷工序中要涂敷的液剂的至少一部分与在上述第二工序中涂敷的液剂在高度方向上重叠。
液剂方法涂敷机以及液态垫圈

[发明专利]等离子体处理装置-CN202010097903.1在审
发明人：高桥大辅;中谷政次 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2020-02-18 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置，具备工作台、和与载置在上述工作台上的被处理物对置地配置的对置电极部，利用在上述对置电极部与上述被处理物之间产生的等离子体对上述被处理物进行处理，上述等离子体处理装置具备：通过使上述工作台与上述对置电极部相对移动来调整上述被处理物与上述对置电极部之间的距离的移动机构；以及根据通过由电源部对上述对置电极部施加电压而产生的电流来控制上述移动机构的控制部。
等离子体处理装置

[发明专利]液剂涂布装置-CN201880057350.8在审
发明人：前田贤司;中谷政次;高崎正也 -专利权人：日本电产株式会社;国立大学法人埼玉大学
申请日： 2018-07-03 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：提供能够调整隔膜的位移量的液剂涂布装置。液剂涂布装置(10)具有：隔膜(12)，其使液剂贮存部(11)的内部容积变化；以及驱动部(13)，其位于隔膜(12)上。驱动部(13)具有：驱动用压电元件(20)，其根据驱动电压信号的施加而振动；以及变幅器(21)，其与驱动用压电元件(20)一起振动。
液剂装置

[发明专利]移动体、位置推断装置以及计算机程序-CN201880053276.2在审
发明人：铃木慎治;佐伯哲夫;中谷政次 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2018-08-14 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： G05D1/02 文献下载
摘要：本公开的位置推断装置具有：外界传感器(102)；存储装置(104)，其存储多个部分环境地图，该多个部分环境地图包含通过坐标变换的关系而连结的第1部分环境地图和第2部分环境地图；以及位置推断装置(106)，其进行来自外界传感器(102)的扫描数据与部分环境地图的匹配，推断移动体的位置和姿势。位置推断装置(106)在移动体(10)的推断位置从第1部分环境地图上移动到第2部分环境地图上时，根据坐标变换的关系来确定第1部分环境地图上的移动体的推断位置和推断姿势在第2部分环境地图上的对应位置和对应姿势，根据第1部分环境地图上的移动体的推断位置和推断姿势的历史来校正开始进行用于推断第2部分环境地图上的移动体的位置和姿势的匹配的时机下的第2部分环境地图上的对应位置和对应姿势，将校正后的对应位置和对应姿势作为初始值而进行匹配。
移动位置推断装置以及计算机程序

[发明专利]液剂涂敷装置-CN201880053399.6在审
发明人：前田贤司;中谷政次 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2018-06-28 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：本发明提供能够抑制压电元件的损伤的液剂涂敷装置。液剂涂敷装置(10)具备使液剂存积部(11)的内部容积产生变化的膜片(12)、位于膜片(12)之上的压电元件(13)、以及位于压电元件(13)之上的预压弹簧(14)。
液剂装置

[发明专利]移动体、位置推断装置以及计算机程序-CN201880053450.3在审
发明人：铃木慎治;佐伯哲夫;中谷政次 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2018-08-14 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： G05D1/02 文献下载
摘要：本公开的装置具有：外界传感器(102)，其扫描环境并周期性地输出扫描数据；存储装置(104)，其存储环境地图；以及位置推断装置(106)，其进行传感器数据与从存储装置(104)读出的环境地图的匹配，推断移动体(10)的位置和姿势。位置推断装置(106)根据移动体(10)的推断位置和推断姿势的历史来确定当前的移动体(10)的位置和推断的预测值，使用预测值而进行匹配。
移动位置推断装置以及计算机程序

[发明专利]位置推断系统和具有该位置推断系统的移动体-CN201880053209.0在审
发明人：铃木慎治;佐伯哲夫;中谷政次 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2018-08-14 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G05D1/02 文献下载
摘要：本公开的位置推断系统(115)具有：处理器(106)；以及存储器(107)，其存储使处理器(106)进行动作的计算机程序。处理器(106)执行以下内容：从外界传感器(102)取得扫描数据，根据扫描数据而制作参照地图；进行新取得的最新扫描数据与参照地图的匹配，由此推断参照地图上的位置和姿势，并将最新扫描数据追加到参照地图中而更新所述参照地图；从多次更新后的参照地图中删除包含最新扫描数据的一部分以外的部分而进行参照地图的复位；以及根据复位前的参照地图而更新环境地图。
位置推断系统具有移动

[发明专利]液滴喷出装置-CN201880021185.0在审
发明人： 中谷政次;前田贤司;李鹏抟;宋燃 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2018-02-20 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：本发明提供液滴喷出装置，能够在维持压电元件的响应性的同时增大移位量。液滴喷出装置(10)具有：液体贮存部(11)，其具有液体喷出口(11b)；隔膜(12)，其使液体贮存部(11)的容积改变；承受部件(13)，其固定于隔膜(12)；以及压电元件(14)，其对承受部件(13)施加加压振动。压电元件(14)相对于承受部件(13)不是固定或紧固的。
承受部件压电元件液滴喷出装置液体贮存部隔膜喷出口响应性移位量紧固加压施加

[发明专利]液滴喷出装置-CN201880015643.X在审
发明人：前田贤司;中谷政次;李鹏抟 -专利权人：日本电产株式会社
申请日： 2018-02-20 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： F04B43/04 文献下载
摘要：提供能够通过简单的结构而顺畅地喷出液滴的液滴喷出装置。液滴喷出装置(10)具有：液体贮存部(11)，其具有液体喷出口(11e)；隔膜(12)，其使液体贮存部(11)的容积改变；压电元件(13)，其对隔膜(12)施加加压振动；以及控制部(14)，其向压电元件(13)输出驱动电压信号(VR)。驱动电压信号(VR)包含喷出信号(VP)和振幅比喷出信号(VP)的振幅小的高频信号(VQ)。
液滴喷出装置液体贮存部压电元件喷出隔膜驱动电压信号输出驱动电压高频信号喷出口喷出液振幅比加压施加

1
2
下一页»
尾页
共 19 条