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[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN201980086223.5有效
发明人：畠山直也;米久田康智;椿英明;富贺敬充;东耕平;大石康史 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： C07C43/10 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有作为由特定的通式(1)表示的化合物和由特定的通式(2)表示的化合物中的至少一个的化合物(P)，并且，相对于感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总质量，上述化合物(P)的含量为1ppm以上且1000ppm以下，上述化合物(P)的分子量为500以下。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]超声波处置器具装置及其驱动方法-CN202280014259.4在审
发明人： 东耕平;中村孝一郎 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： A61B17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够通过已有的装置、设备使结构物的温度在短时间内上升的超声波处置器具装置及其驱动方法。超声波振子(51a、51b)发出超声波。超声波用驱动部(19)驱动超声波振子(51a、51b)，以使超声波在结构物(S)中沿着从一侧朝向另一侧的第1方向(D1)传播，且沿着与第1方向(D1)相反的第2方向(D2)传播。超声波用驱动部(19)使超声波振子(51a、51b)的频率发生变化来驱动超声波振子(51a、51b)，以使流过超声波振子(51a、51b)的电流值成为极大电流值。
超声波处置器具装置及其驱动方法

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN201880059342.7有效
发明人：吉村务;米久田康智;畠山直也;东耕平;西田阳一 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2018-09-07 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用了感光化射线性或感放射线性的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂(A)且用于形成膜厚为2μm以上的膜，上述树脂(A)包含具有酸性基团的重复单元及具有酸分解性基团的重复单元，上述具有酸性基团的重复单元的含量相对于上述树脂(A)中的所有重复单元为15摩尔％以上，上述具有酸分解性基团的重复单元的含量相对于上述树脂(A)中的所有重复单元大于20摩尔％，上述树脂(A)的玻璃化转变温度为145℃以下。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]图案形成方法、离子注入方法、层叠体、试剂盒及电子器件的制造方法-CN201880056528.7有效
发明人：畠山直也;米久田康智;东耕平;西田阳一;藤田光宏 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2018-08-15 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：通过本发明，可以提供一种图案形成方法及使用该图案形成方法的离子注入方法以及用于上述图案形成方法的层叠体、试剂盒、抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂组合物及电子器件的制造方法，该图案形成方法包括：(1)在被处理基板上形成抗蚀剂下层膜的工序；(2)利用含有(A)具有选自包括Si原子及Ti原子的组中的原子的树脂的抗蚀剂组合物，在抗蚀剂下层膜上形成抗蚀剂膜的工序；(3)曝光抗蚀剂膜的工序；(4)对经曝光的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；及(5)将抗蚀剂图案作为掩模，对抗蚀剂下层膜进行加工来形成图案的工序，该图案形成方法中，抗蚀剂下层膜的膜厚为2.5μm以上，抗蚀剂膜的膜厚为1μm以下。
图案形成方法离子注入层叠试剂盒电子器件制造

[发明专利]超声波处置器具及内窥镜系统-CN202180070352.2在审
发明人： 东耕平;中村孝一郎 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-10-14 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： A61B1/018 文献下载
摘要：本发明提供一种能够有效地将超声波振动传递至血管等结构物并且使其吸收，且通过提高供给电力向超声波振动的转换效率，能够抑制器件的温度上升的超声波处置器具及内窥镜系统。超声波处置器具(18)具备：把持部(33)，把持受检体内的结构物；及超声波振子单元(34)，设置于把持部(33)，且配置于与所把持的结构物相面对的位置。构成超声波振动单元(34)的压电材料的机械品质因数为500以上。
超声波处置器具内窥镜系统

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法、图案形成方法、电子器件的制造方法-CN202180021154.7在审
发明人：富贺敬充;东耕平;吉野文博;楜泽佑真;田中匠 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-03-01 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种降低了颗粒的含量的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且，提供一种图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法包括：工序1，制备包含光产酸剂和溶剂的中间体溶液；及工序2，将上述中间体溶液与至少树脂进行混合，制备粘度为10mPa·s以上的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。
感光射线放射线性树脂组合制造方法图案形成电子器件

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080060658.5在审
发明人：畠山直也;米久田康智;富贺敬充;东耕平;吉野文博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：(A)通过酸的作用而极性增大的树脂；(B)光产酸剂；及阴离子(P)，其为选自由NO3‑、SO42‑、Cl‑及Br‑组成的组中的1种以上的阴离子，其中，相对于感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总质量，上述阴离子(P)的含量为0.01ppb以上且100ppm以下。
感光射线放射线性树脂组合图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080054129.4在审
发明人：畠山直也;米久田康智;富贺敬充;东耕平;吉野文博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-08-12 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： G03F7/085 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成抑制灵敏度降低且对基板的密合性(特别是干燥状态下的密合性)优异的感光化射线性或感放射线性膜的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)通过酸的作用而极性增大的树脂、(B)光产酸剂、(P)氧化胺及(D)酸扩散控制剂(其中，相当于氧化胺的除外)，相对于感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总质量，上述氧化胺(P)的含量为0.01ppm以上且1000ppm以下，上述酸扩散控制剂(D)相对于上述氧化胺(P)的质量比率大于1且为10000以下。
感光射线放射线性树脂组合图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN201980055055.3在审
发明人：米久田康智;畠山直也;椿英明;富贺敬充;东耕平 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2019-07-09 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法。上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：树脂，包含源自设为均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体的非酸分解性的重复单元和具有酸分解性基团的重复单元；及化合物，由通式(P‑1)表示。环Q1是4～6元环。其中，环Q1可以与其他环形成稠合环。作为环元素，环Q1具有至少2个碳原子，与S+直接键合的环元素的原子为碳原子。RP1～RP5分别独立地表示氢原子、羟基、卤原子、烷基、芳基、杂芳基或烷氧基。RP1～RP5中的至少2个可以键合而形成环。Z‑表示非亲核性阴离子。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]导电性层叠体的制造方法、层叠体及导电性层叠体-CN201780018488.2有效
发明人： 东耕平;笠原健裕;村井大午 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-03-09 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： C23C18/20 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种能够在与图案状被镀层对应的位置形成低电阻的金属层的导电性层叠体的制造方法、层叠体及导电性层叠体。本发明的导电性层叠体的制造方法具有：使用规定的被镀层形成用组合物，在基材上形成被镀层形成用层的工序；对被镀层形成用层以图案状实施曝光处理及显影处理，而形成包含线宽小于3μm的部分的图案状被镀层的工序；使用含有镀覆催化剂或其前体的碱性的镀覆催化剂赋予液，将镀覆催化剂或其前体赋予到图案状被镀层的工序；及使用含有氨基羧酸类的镀覆液，对赋予有镀覆催化剂或其前体的图案状被镀层进行镀覆处理，而在图案状被镀层上形成金属层的工序。
导电性层叠制造方法

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及固体摄像元件的制造方法-CN201880047273.8在审
发明人： 东耕平;高桑英希 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成可抑制离子注入工序中的离子泄漏的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。还提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法。并且提供一种利用了上述图案形成方法的固体摄像元件的制造方法。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物在离子注入工序中用于形成用作掩模的图案，该组合物包含：树脂，包含具有酸分解性基团的重复单元；光产酸剂；及添加剂，熔点或玻璃化转变温度小于25℃，并且分子量为180以上，上述添加剂的含量相对于组合物中的总固体成分为1质量％以上。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法固体摄像元件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN201880024097.6在审
发明人：畠山直也;米久田康智;吉村务;东耕平;西田阳一 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2018-05-11 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种作为掩模而能够适用于蚀刻时，能够形成耐龟裂性及耐蚀刻性优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物为含有树脂且固体成分浓度为10质量％以上的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，上述树脂包含：以制成均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体为来源的重复单元A；及具有酸分解性基的重复单元B，上述重复单元B的含量相对于树脂中的所有重复单元为20摩尔％以下，且上述树脂所具有的重复单元中的任一至少1种为具有芳香族环的重复单元。
树脂感放射线性树脂组合物感光射线蚀刻玻璃化转变电子器件芳香族环抗蚀剂膜耐龟裂性耐蚀刻性酸分解性图案形成均聚物掩模图案制造

[发明专利]导电性薄膜、触摸面板传感器以及触摸面板-CN201680027956.8有效
发明人： 东耕平;塚本直树;佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2016-05-26 - 公布日： 2019-04-23 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：本发明提供一种具有由金属细线构成的网状金属层、金属细线的视觉辨认得到抑制、且金属层的导电特性优异的导电性薄膜、触摸面板传感器以及触摸面板。本发明的导电性薄膜具有：基板；图案状被镀覆层，以网状配置于基板上，且具有与镀覆催化剂或其前体相互作用的官能团；以及网状金属层，配置于图案状被镀覆层上，且由多个金属细线交叉而成，图案状被镀覆层的平均厚度为0.05～100μm，金属层的平均厚度为0.05～0.5μm，构成金属层的网的金属细线的交点的平均交点粗率为1.6以下。
导电性薄膜触摸面板传感器以及

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