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[发明专利]流体回路器具及细胞培养用器具-CN202280019655.6在审
发明人：熊泽博嗣;矢泽智之 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2022-01-14 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C12M3/00 文献下载
摘要：该流体回路器具具备模块，所述模块具有能够装拆配管的引导部，所述配管能够使从泵输送的流体流通，所述引导部包含下述的凹部和孔部中的至少一者，所述凹部引导所述配管沿着所述模块的表面，所述孔部引导所述配管穿过所述模块的内部。
流体回路器具细胞培养

[发明专利]负型感光性组合物以及中空结构体的制造方法-CN202280013308.2在审
发明人：山形宪一;中村亮辅;今井洋文 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2022-01-31 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明涉及一种负型感光性组合物，是用于形成中空结构体的顶板部的负型感光性组合物，其含有含环氧基化合物、阳离子聚合引发剂、多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和光自由基聚合引发剂。
感光性组合以及中空结构制造方法

[发明专利]感光性组合物-CN202310303053.X在审
发明人：古谷和之;引田二郎;居岛洋一郎 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2023-03-27 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种提供高折射率、溶剂抗性优异的透明的固化物的感光性组合物、该感光性组合物的固化物、使用上述感光性组合物的固化膜的形成方法。在包含碱可溶性树脂(A)、光聚合性化合物(B)与光聚合引发剂(C)的感光性组合物中，将包含交联性(甲基)丙烯酸酯单元(a1)与芳香族单元(a2)的(甲基)丙烯酸树脂(a‑1)用作碱可溶性树脂(A)，所述交联性(甲基)丙烯酸酯单元(a1)具有乙烯性不饱和双键，所述芳香族单元(a2)为源自在芳香环上可具有取代基的N‑乙烯基咔唑或者源自在芳香环上可具有取代基的9‑乙烯基芴的单元。
感光性组合

[发明专利]具有磁致伸缩特性的组合物及其固化物-CN202280016045.0在审
发明人：先崎尊博;栗田大树;成田史生 -专利权人： 东京应化工业株式会社;国立大学法人东北大学
申请日： 2022-03-01 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： H01F1/28 文献下载
摘要：具有磁致伸缩特性的组合物，其含有(P)成分：包含聚合性基团的化合物、(M)成分：粉末状的磁致伸缩材料、和(R)成分：自由基聚合引发剂。
具有伸缩特性组合及其固化

[发明专利]光固性液态组合物、固化物、及固化物的制造方法-CN202280016577.4在审
发明人：居岛洋一郎;千坂博树;三隅浩一;浦川一树 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2022-02-21 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C08F2/46 文献下载
摘要：本发明提供能够形成金属氧化物纳米粒子的局部存在被抑制的固化物的光固性液态组合物、该光固性液态组合物的固化物、和使用前述光固性液态组合物的固化物的制造方法。在包含光聚合性单体(A)、金属氧化物纳米粒子(B)和光聚合引发剂(C)的光固性液态组合物中，作为光聚合性单体(A)，含有具有3个以上的烯键式不饱和双键的多官能单体(A1)。
光固性液态组合固化制造方法

[发明专利]金属氧化物粒子分散用组合物及金属氧化物粒子的分散方法-CN202080059990.X有效
发明人：张媛婧;千坂博树;盐田大 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2020-08-28 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： C09D11/38 文献下载
摘要：本发明提供金属氧化物粒子分散用组合物，其能够制备耐热性优异、可适用喷墨法、用于形成OLED显示元件等显示器用途等或OLED照明等中的高折射率层的高折射率材料。金属氧化物粒子分散用组合物，其含有：萘环键合于芴而成的特定的甲硅烷基改性芴化合物；和，特定的(甲基)丙烯酸酯化合物。甲硅烷基优选为三甲氧基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基、甲基二甲氧基甲硅烷基、乙基二甲氧基甲硅烷基、甲基二乙氧基甲硅烷基、或乙基二乙氧基甲硅烷基。
金属氧化物粒子分散组合方法

[发明专利]化合物、环氧固化催化剂、以及化合物的制造方法-CN201880061422.6有效
发明人：野田国宏;千坂博树;铃木一生;引田二郎;盐田大;花野贵江子;石田恭平;渡边努;上原和浩 -专利权人： 东京应化工业株式会社;株式会社大赛璐
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： C07D233/60 文献下载
摘要：提供适合用作环氧固化催化剂的新型化合物、使用了该化合物的环氧固化催化剂、以及该化合物的制造方法。提供由下述式(1)表示的化合物。下述式(1)中，Xm+表示m价的抗衡阳离子，R1表示可具有取代基的芳香族基团，R2表示可具有取代基的亚烷基，R3表示卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸酯基、膦基、氧膦基、膦酸酯基、或有机基团，m表示1以上的整数，n表示0以上且3以下的整数，R2可与R1进行键合而形成环状结构。#imgabs0#
化合物固化催化剂以及制造方法

[发明专利]感光性组合物、固化物形成方法、固化物、图像显示装置用面板及图像显示装置-CN201810990984.0有效
发明人：田所惠典;盐田大 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2018-08-28 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F7/031 文献下载
摘要：本发明提供：感光性组合物，其即使包含内酰胺系颜料，也能同时实现低曝光量下的与基板良好地密合的图案的形成、和所形成的图案的理想截面形状；使用该感光性组合物的固化物形成方法；该感光性组合物的固化物；具备由该固化物形成的黑色矩阵或黑色柱状间隔物的图像显示装置用面板；及具备该图像显示装置用面板的图像显示装置等。在包含光聚合引发剂(A)、和含有内酰胺系颜料的着色剂(C)的感光性组合物中，组合使用2种以上在吸收光谱中在320nm以上且低于400nm的波长区域中具有峰、且该峰的最大波长各不相同的肟酯化合物作为光聚合引发剂(A)，不使用在400nm以上的波长区域中的任意波长处显示10以上的克吸光系数的化合物。
感光性组合固化形成方法图像显示装置面板

[发明专利]抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法-CN202180083350.7在审
发明人：高木大地;中村刚;板垣友祐 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2021-11-19 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种抗蚀剂组合物，含有基材成分(A)、产酸剂成分(B)、可光降解的碱(D0)，可光降解的碱(D0)包含以通式(d0‑1)表示的化合物(D01)及以通式(d0‑2)表示的化合物(D02)。式中，Rd01为可具有取代基的链状或环状的脂肪族烃基。n01为1～10的整数。Rd02为具有氧原子(＝O)的环状的脂肪族烃基。m为1以上的整数，Mm+为m价的有机阳离子。#imgabs0#
抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]指纹认证用光学元件-CN202310204812.7在审
发明人：矶部信吾;张媛婧 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2023-03-06 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供指纹认证用光学元件、该指纹认证用光学元件的制造方法及适合用于该指纹认证用光化学元件的制造的热固性组合物的制造方法，其不仅具有基板、光电二极管及微透镜，还具有透光性间隔层，透光性间隔层在抑制翘曲的同时被形成，耐化学药品性、耐溶剂性优异，并且具有足够的厚度。具备基板、光电二极管、微透镜及透光性间隔物的指纹认证用光学元件中，由包含丙烯酸树脂的热固性组合物的固化物构成透光性间隔层，使热固性组合物的固态成分浓度大于30质量％，作为丙烯酸树脂使用以规定的比率包含分别为规定的结构的作为含有酚式羟基的(甲基)丙烯酸系单元的结构单元和作为含有环氧基的(甲基)丙烯酸系单元的结构单元的树脂。
指纹认证用光元件

[发明专利]保护膜形成剂及半导体芯片的制造方法-CN202180089485.4在审
发明人：木下哲郎;涩田裕介 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： H01L21/301 文献下载
摘要：本发明提供保护膜形成剂，在半导体晶圆的切割中为了在半导体晶圆的表面形成保护膜而使用，能够形成可通过激光照射形成直进性优异的加工槽且氟屏蔽性优异的保护膜，以及提供使用该保护膜形成剂的半导体芯片的制造方法。该保护膜形成剂包含水溶性树脂(A)、吸光剂(B)与溶剂(S)，其中水溶性树脂(A)包含水溶性树脂(A1)，水溶性树脂(A1)具有芳香环与水溶性基。水溶性树脂(A)优选为具有苯环作为芳香族单环。
保护膜形成半导体芯片制造方法

[发明专利]光学元件的制造方法、光学元件及感光性组合物-CN202310129399.2在审
发明人：佐藤梓实 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制具备透镜与位于透镜的周缘且至少覆盖透镜的曲面的一部分的遮光层的光学元件的漏光的光学元件的制造方法、能够在该光学元件的制造方法中使用的感光性组合物。在该光学元件的制造方法中，将感光性组合物涂布于透镜的曲面而形成涂布膜，对涂布膜中的形成有遮光层的位置进行位置选择性曝光，对曝光后的涂布膜进行显影，加热显影后的涂布膜而使其固化，作为感光性组合物，使用包含碱可溶性树脂、光聚合性单体、光聚合引发剂、遮光剂与有机溶剂的具有特定的触变指数及粘度的感光性组合物，或者使用包含碱可溶性树脂、光聚合性单体、光聚合引发剂、遮光剂、增粘剂与有机溶剂的感光性组合物。
光学元件制造方法感光性组合

[发明专利]抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法-CN202180087260.5在审
发明人：平山文武;平野智之;吉田裕三;河野绅一;中川裕介 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种抗蚀剂组合物，包含：树脂成分(A1)，具有包含酚性羟基的结构单元(a10)；化合物(B0)，以通式(b0‑1)表示，所述树脂成分(A1)中的所述结构单元(a10)的比例相对于构成所述树脂成分(A1)的全部结构单元的合计(100摩尔％)为超过5摩尔％～小于45摩尔％，式中，Rb1为碳原子数为1以上30以下的烃基，n、m为0～3的整数，Ra1及Ra2为氢原子或有机基团，Q1及Q2为氟原子或碳原子数为1以上6以下的全氟烷基，L为酯键。
抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]感光性组合物和其中使用的光聚合引发剂-CN201811026248.X有效
发明人：田所惠典;盐田大 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2018-09-04 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供固化后的粘性(发粘)得以抑制、且固化性优异的感光性组合物、其中使用的化合物及光聚合引发剂。本发明的解决手段为一种感光性组合物，其包含(A)光聚合引发剂和(B)光聚合性化合物，其中，前述(A)光聚合引发剂包含下述式(1)表示的化合物，下述式(1)中，各符号与说明书中含义相同；前述式(1)表示的化合物满足下述1)～3)中的至少一项：1)n1为1以上且4以下的整数，Ra1中的至少1个为包含HX2C‑或H2XC‑表示的基团的取代基。2)Ra4为包含HX2C‑或H2XC‑表示的基团的取代基。3)Ra5为包含HX2C‑或H2XC‑表示的基团的取代基。其中，X各自独立地为卤素原子。
感光性组合其中使用聚合引发

[发明专利]半导体基板或装置的洗涤液及洗涤方法-CN202310594076.0在审
发明人：并木拓海;原口高之;施仁杰 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2017-03-01 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C11D7/32 文献下载
摘要：本申请涉及半导体基板或装置的洗涤液及洗涤方法。提供尤其是将由含有硅原子的无机物形成的残余物或膜除去的洗涤性能优异、且闪点高的用于半导体基板或装置的洗涤液及洗涤方法。洗涤液，其是含有水溶性有机溶剂、季铵氢氧化物、及水的用于半导体基板或装置的洗涤液，该水溶性有机溶剂是闪点为60℃以上的二醇醚系溶剂或非质子性极性溶剂。洗涤方法，所述洗涤方法包括下述步骤：使用该洗涤液，从半导体基板或装置将在该半导体基板上形成的残余物或膜、或者在该装置上附着的残余物或膜进行洗涤，所述残余物或膜是由选自由抗蚀剂、及含有硅原子的无机物组成的组中的至少1种形成的。
半导体装置洗涤液洗涤方法

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