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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]周缘曝光装置、涂敷显影装置及周缘曝光方法-CN200610080318.0有效
发明人：岩下泰治;下村一郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-05-09 - 公布日： 2006-11-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明中包括：第1光路形成部件和第2光路形成部件，各自的入口侧配置在来自光源的光电子束的通路内；第1放置台，放置基板，绕垂直轴自由旋转，并且基板的周缘部位于来自第1光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；第2放置台，基板的周缘部位于来自第2光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；遮光机构，用于遮挡来自第1和第2光路形成部件的光的照射。由于可例如可采用共通的光源对第1放置台和第2放置台上的基板进行周缘曝光，所以具有较强的处理能力，并且能够抑制装置的大型化。
周缘曝光装置显影方法

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