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- [发明专利]一种光波导模斑转换装置及其制造方法-CN202211689044.0在审
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田斌;冯大增;武爱民
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上海羲禾科技有限公司
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2022-12-27
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2023-06-09
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G02B6/122
- 本申请涉及集成光芯片技术领域,特别涉及一种光波导模斑转换装置及其制造方法,该装置包括半导体衬底、下波导、包层和上波导层;包层设置于半导体衬底上;楔形结构的下波导设置于包层内;上波导层设置于包层上,上波导层用于在下波导的小头端与光纤耦合;上波导层的第一折射率小于下波导的第二折射率,且大于包层的第三折射率;上波导层上表面且靠近下波导的小头端处设置有刻蚀条纹;刻蚀条纹基于下波导的小头端的位置设置,并从上波导层的端面沿着下波导的延伸方向延伸;刻蚀条纹用于限制上波导层的端面上的模斑尺寸。可以降低模斑尺寸转换时对楔形波导的小头端尺寸的敏感性;降低光偏振相关损耗;降低工艺难度,降低模斑转换的失配损耗。
- 一种波导转换装置及其制造方法
- [发明专利]一种波导的刻蚀方法-CN202211004985.6有效
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王奕琼;冯大增;梁虹;武爱民
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上海羲禾科技有限公司
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2022-08-22
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2023-04-07
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G02B6/136
- 本申请涉及半导体制造技术领域,特别涉及一种波导的刻蚀方法,该方法包括:提供表面具有波导材料层的半导体衬底;波导材料层基于化学气相沉积技术得到;采用光刻工艺在波导材料层表面形成图形化的掩膜层;掩膜层用于确定波导材料层的待刻蚀面;基于掩膜层,采用干法刻蚀工艺刻蚀波导材料层的待刻蚀面,以形成波导;其中,在刻蚀波导材料层的待刻蚀面的过程中,通过实时测量波导材料层的刻蚀深度和波导材料层剩余的衬底厚度,来确定刻蚀终点。如此,可以提高波导的刻蚀精度,减少刻蚀所得波导深度的尺寸偏差,并提高波导的性能。
- 一种波导刻蚀方法
- [发明专利]一种波分复用器-CN202211326307.1在审
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辛田;冯大增;武爱民
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上海羲禾科技有限公司
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2022-10-27
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2023-01-17
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G02B6/293
- 本申请涉及一种波分复用器,该波分复用器包括多个马赫泽德分光模块;各马赫泽德分光模块包括第一定向耦合器和第二定向耦合器;第一定向耦合器的透过率为预设值,第二定向耦合器的透过率根据各马赫泽德分光模块的透过率确定;针对相邻两个马赫泽德分光模块:其中一个马赫泽德分光模块的第一定向耦合器的输出端,与另一个马赫泽德分光模块的第一定向耦合器的输入端连接;或者;其中一个马赫泽德分光模块的第二定向耦合器的输出端,与另一个马赫泽德分光模块的第二定向耦合器的输入端连接。本申请可以实现马赫泽德分光模块整体的分光性能对工艺误差不敏感,可以解决工艺误差对波分复用器性能的恶化影响。
- 一种波分复用器
- [发明专利]一种晶圆掺杂浓度调整方法和装置-CN202211114685.3在审
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梁虹;冯大增;王奕琼;武爱民
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上海羲禾科技有限公司
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2022-09-14
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2023-01-13
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H01L21/66
- 本申请涉及一种晶圆掺杂浓度调整方法和装置,该方法包括:获取在初始掺杂浓度下制备的初始掺杂晶圆;将初始掺杂晶圆作为当前待测晶圆;通过对当前待测晶圆施加不同波长的光信号,测量当前待测晶圆上功能区的吸收光谱;吸收光谱包括光信号波长与光电流强度的对应关系;对吸收光谱进行分析处理,得到当前待测晶圆的当前工作波长;基于目标工作波长和当前工作波长,对初始掺杂浓度进行调整,得到目标掺杂浓度;目标掺杂浓度用于制备目标掺杂晶圆,目标掺杂晶圆的工作波长为目标工作波长。如此,可以在芯片制作初期,及时地发现掺杂不符合要求的晶圆,可以为晶圆掺杂工艺提供改进的方向,可以加快芯片开发的进度。
- 一种掺杂浓度调整方法装置
- [发明专利]一种波分复用器-CN202210934510.0有效
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辛田;冯大增;武爱民
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上海羲禾科技有限公司
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2022-08-04
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2022-11-18
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G02B6/293
- 本申请涉及一种波分复用器,该波分复用器包括光栅、马赫泽德干涉仪和调相模块;调相模块与马赫泽德干涉仪连接;调相模块用于根据当前环境温度对马赫泽德干涉仪进行相位调制;马赫泽德干涉仪的输出端与光栅的输入端连接;马赫泽德干涉仪,用于在调相模块的调制下,对光信号进入光栅的输入路径进行校准;或者;马赫泽德干涉仪的输入端与光栅的输出端连接;马赫泽德干涉仪,用于在调相模块的调制下,对光栅所输出的光信号的输出路径进行校准。如此,可以有效解决现有技术中不同温度环境下,光栅输出通道中心波长易发生漂移的问题。
- 一种波分复用器
- [发明专利]一种光波导模斑转换装置及其制造方法-CN202211038179.0有效
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冯大增;仇超;田斌;王奕琼
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上海羲禾科技有限公司
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2022-08-29
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2022-11-08
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G02B6/14
- 本申请涉及集成光芯片技术领域,特别涉及一种光波导模斑转换装置及其制造方法,该装置包括硅衬底、氧化硅埋层、绝缘体层、楔形波导、电介质层和辅助波导;楔形波导设置于绝缘体层上;绝缘体层设置于氧化硅埋层上;氧化硅埋层设置于衬底上;楔形波导的大头端用于与硅光波导连接;电介质层设置于绝缘体层上,并包围楔形波导;辅助波导设置于电介质层上;辅助波导用于在楔形波导的小头端与光纤耦合;楔形波导的大头端用于与硅光波导连接;辅助波导的第一折射率小于楔形波导的第二折射率,且大于电介质层的第三折射率。可以降低模斑尺寸转换时对楔形波导的小头端尺寸的敏感性;降低光偏振相关损耗;降低硅光波导与光纤之间模斑转换的失配损耗。
- 一种波导转换装置及其制造方法
- [发明专利]一种波分复用器-CN202211030061.3在审
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辛田;冯大增;武爱民
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上海羲禾科技有限公司
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2022-08-26
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2022-09-27
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G02B6/293
- 本申请涉及一种波分复用器,该波分复用器包括多个马赫泽德分光模块;各马赫泽德分光模块包括第一定向耦合器和第二定向耦合器;第一定向耦合器的透过率为预设值,第二定向耦合器的透过率根据各马赫泽德分光模块的透过率设计值确定;针对相邻两个马赫泽德分光模块:其中一个马赫泽德分光模块的第一定向耦合器的输出端,与另一个马赫泽德分光模块的第一定向耦合器的输入端连接;或者;其中一个马赫泽德分光模块的第二定向耦合器的输出端,与另一个马赫泽德分光模块的第二定向耦合器的输入端连接。本申请可以实现马赫泽德分光模块整体的分光性能对工艺误差不敏感,可以解决工艺误差对波分复用器性能的恶化影响。
- 一种波分复用器
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