“上海微高精密机械工程有限公司”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果144个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种多尺寸的晶圆预对准定心装置-CN202211302495.4在审
发明人：焦培俊;马很很;郎小虎;姜晨;周勇宇 -专利权人： 上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2022-10-24 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：一种多尺寸的晶圆预对准定心装置，包括转盘、基板、晶圆固定座以及夹持机构，基板通过连接轴转动连接在转盘上方，夹持机构包括多个沿基板周向设置的夹持机构，晶圆固定座设置在多个夹持机构的中心处，每一个夹持结构均包括用于夹持晶圆的第一夹持板和第二夹持板，第一夹持板通过弹簧杆转动连接在第二夹持板上，第一夹持板的内测设有第一弧形槽，夹持机构下方还固定有支撑杆，基板上设有通槽，转盘上设有与通槽对应的弧形槽，支撑杆的一端穿过通槽并延伸至所述弧形槽内，基板上还设有用于限制支撑杆向基板外沿运动的压力弹簧，本发明通过设置第一夹持板和第二夹持板可以实现两种不同尺寸晶圆的预对准定心，提高设备利用率，节省成本，实用性强。
一种尺寸晶圆预对准定心装置

[发明专利]一种多规格晶片盒及其定位机构-CN202310187142.2在审
发明人：任高远;王鹏举;陆宇琦 -专利权人： 上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2023-03-01 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明提供了一种多规格晶片盒及其定位机构，晶片盒包括晶片盒本体，晶片盒本体包括两块侧板以及设置在所述两块侧板上的顶板，顶板上设置有开口，两块侧板之间形成用于放置晶片的放置腔，晶片盒本体根据两块侧板之间的间距形成不同规格的晶片盒本体，两块侧板之间设置有定位横杆，两块侧板底部还设有定位槽，定位机构包括固定承载台、晶片盒定位块以及横杆定位块，晶片盒定位块和横杆定位块均固定在固定承载台上表面，横杆定位块上设有用于卡接定位横杆的水平卡槽，晶片盒定位块的两侧分别设有与不同规格晶片盒本体的定位槽配合的梯形台，本发明提供的晶片盒可以放置不同规格的晶片，且定位机构可以对不同尺寸规格的晶片盒进行工装定位。
一种规格晶片及其定位机构

[发明专利]一种针对多规格缺口晶片的预对准装置-CN202310187134.8在审
发明人：王鹏举;马很很;曾美芹 -专利权人： 上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2023-03-01 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供了一种针对多规格缺口晶片的预对准装置，包括吸盘和对准装置，吸盘的一面为吸附面，吸附面上设置有同心的第一吸附槽和第二吸附槽，对准装置固定安装在吸盘的另一面，对准装置包括支撑板、翘板、上板以及下板，支撑板和翘板分别铰接在上板和下板的两端并与上板和下板之间形成四连杆结构，下板和支撑板之间设置有压簧，支撑板上设有调节顶丝，调节顶丝穿过支撑板并与下板抵接，下板通过调节顶丝的旋进绕支撑板和翘板的铰接处转动，支撑板上设有第一凸轮轴承随动器，翘板上设有第二凸轮轴承随动器，第一凸轮轴承随动器顶部低于吸附面，第二凸轮轴承随动器顶部高于吸附面，本发明能实现不同尺寸规格的缺口晶片的预对准，节约了时间和经济成本。
一种针对规格缺口晶片对准装置

[发明专利]一种针对多规格平边晶片的预对准装置-CN202310187621.4在审
发明人：王鹏举;马很很;普伟 -专利权人： 上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2023-03-01 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供了一种针对多规格平边晶片的预对准装置，包括吸盘和对准装置，吸盘的一面为吸附面，吸附面上设置有同心的第一吸附槽和第二吸附槽，对准装置固定安装在吸盘的另一面，对准装置包括支撑板、翘板、上板以及下板，支撑板和翘板分别铰接在上板和下板的两端并与上板和下板之间形成四连杆结构，下板和支撑板之间设置有压簧，支撑板上设有调节顶丝，调节顶丝穿过支撑板并与下板抵接，支撑板上转动连接有至少两个长帽轴，翘板上转动连接有至少两个短帽轴，所述至少两个长帽轴和至少两个短帽轴分别在同一水平高度上，短帽轴顶部低于吸附面，长帽轴顶部高于吸附面，本发明能实现不同尺寸规格的缺口晶片的预对准，节约了时间和经济成本。
一种针对规格晶片对准装置

[发明专利]一种掩模版传输的非对称吸附及吸附补偿装置-CN202211279034.X在审
发明人：周勇宇;郭鹏;姜晨;焦培俊 -专利权人： 上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2022-10-19 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： B65G49/05 文献下载
摘要：一种掩模版传输的非对称吸附及吸附补偿装置，包括连接底板、非对称式吸附装置以及吸附补偿装置，非对称式吸附装置相对设置在连接底板的上下两侧，吸附补偿装置相对设置在连接底板左右两侧的中间位置，非对称式吸附装置上设有第一吸附孔，吸附补偿装置上设有第二吸附孔，设于连接底板上下两侧的非对称式吸附装置上的第一吸附孔之间沿连接底板的中心线呈不对称分布，非对称式吸附装置内设置有与第一吸附孔连通的第一真空通道，吸附补偿装置设有与第二吸附孔连通的第二真空通道，本发明结构上改变掩模版传输过程中的吸附方式，掩模版在被吸附的过程中受力点不对称，减小了掩模版在传输过程中产生的变形，减少了掩模版的损伤，提高传输精度。
一种模版传输对称吸附补偿装置

[发明专利]一种兼容flat/notch晶片的预对准定位装置-CN202211279036.9在审
发明人：陆宇琦;马很很;孙璐;王鹏举;吕东洋 -专利权人： 上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2022-10-19 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： B65G49/07 文献下载
摘要：一种兼容flat/notch晶片的预对准定位装置，包括安装座和调节机构，安装座包括顶板和底板，顶板和底板之间设有安装台，安装台上设有notch预对准块，安装台的两侧设有沿安装台对称布置的两条摆臂，两条摆臂转动连接在顶板和底板之间，摆臂的一端固定有flat预对准块，flat预对准块的水平高度大于notch预对准块的水平高度，调节机构用于调节flat预对准块的水平高度并使flat预对准块的水平高度小于notch预对准块的水平高度，本发明同时设置有notch预对准块和flat预对准块，在常规形态下可以通过notch预对准块对notch晶片进行定位，通过调节flat预对准块的水平高度还可以对flat晶片进行定位，从而能兼容flat/notch晶片的预对准定位，方便使用。
一种兼容 flat notch 晶片对准定位装置

[发明专利]一种多规格晶片中心检测装置-CN202211228328.X在审
发明人：王鹏举;马很很;普伟;陆宇琦;任高远 -专利权人： 上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2022-10-09 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种多规格晶片中心检测装置，包括对称设置的光源及信号采集单元、用于放置晶片的旋转台、表面反射镜片以及反射镜片，光源及信号采集单元发出的检测光束依次经表面反射镜片和反射镜片的反射后竖直投射在固定在旋转台的晶片边缘，反射镜片上设有高度调节机构，反射镜片通过高度调节机构的上下动作改变投射在晶片上的位置，本发明通过设置表面反射镜片以及反射镜片，可以将光源及信号采集单元发出的检测光束投射在边缘，进而完成晶片中心位置检测，其次，本发明通过高度调节机构的上下动作可以改变反射镜片投射在晶片上的位置，从而可以实现不同尺寸规格晶片的边缘数据检测采集。
一种规格晶片中心检测装置

[发明专利]一种适用于光刻机照明系统的匀光方法-CN202211174406.2在审
发明人：王童讴;张华杰;王洪卫;谢纪辰;刘玉国 -专利权人： 上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于光刻机照明系统的匀光方法，属于光刻机照明系统技术领域，包括以下步骤：首先利用lighttools建立该校正板的模型，在校正板表面镀上圆点；设定所述圆点的半径、厚度、X方向间距和Y方向间距；再设定lighttools中的光源属性，并使得不均匀的光通过所述校正板到达接收表面的接收器；然后再分别将所述圆点在XY两个方向上的间距添加为优化变量，并在接收器上添加网格评价函数，将网格数据中的变化设置为基于总功率的缩放目标这一功能进行光均匀性的调整；之后lighttools会对当前建立的模型进行优化，得到优化后的XY方向间距；本发明提供的方法适用性更广，且能使光均匀性提升到90％以上，同时也可以避免光强产生过大的损耗，从而保证光刻的稳定性。
一种适用于光刻照明系统方法

[发明专利]一种光刻机的快门叶片-CN201511022925.7有效
发明人：陈梦来;刘国淦;章富平 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2015-12-30 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机的快门叶片，快门叶片接受光源照射的一面设有用于增大照射光的反射光线与水平线的夹角的光路转换件。通过设置光路转换件，使快门叶片上形成底部具有V形或倒V形斜坡的环形凹槽或条形凹槽，以及表面呈弧形的球形凸起，使照射在快门叶片表面的光线在经快门叶片反射后远离灯室的保护玻璃，以减少反射光线进入灯室，从而使位于灯室顶部的能量传感器能稳定工作，实现精密控制曝光剂量的目的。此外，设置V形或倒V形斜坡还具有增大散热面积，减少快门叶片的热量吸热，提高其使用寿命的效果；而设置球形凸起增加了快门叶片的强度，缓解反射光过于集中导致的局部温度过高的现象，进一步提高了快门叶片的使用寿命。
一种光刻快门叶片

[发明专利]一种光刻机的挡光板装置-CN201910653028.8在审
发明人：郎小虎 -专利权人： 上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及集成电路生产设备技术领域，具体公开了一种光刻机的挡光板装置，包括两块前挡光板，前挡光板上端前后两侧分别通过一第一滑块与一第二滑块和对应的一上导轨连接，上导轨内设有一滚珠丝杠，前挡光板下方对应设有两块后挡光板，且后挡光板下端左右两侧分别通过一第一滑块与一第二滑块和对应的一下导轨连接，下导轨内设有一滚珠丝杠。本发明通过上导轨内的滚珠丝杠来带动前挡光板在水平方向进行左右移动，同时通过下导轨内的滚珠丝杠来带动后挡光板在水平方向进行前后移动，进而通过后挡光板与前挡光板的配合使用来构成一个透光口，结构简单，解决了现有的光刻机的挡光板装置结构较为复杂且空间占用率较高的问题。
光板前挡滚珠丝杠后挡挡光板光刻机上导轨第二滑块第一滑块下导轨集成电路生产设备导轨连接空间占用前后移动装置结构左右两侧左右移动透光口上端下端

[发明专利]一种吸盘及其吸附方法-CN201510731089.3有效
发明人：郑清泉;方洁;夏海 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2015-10-30 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明公开了一种吸盘及其吸附方法，包括吸盘主体，所述吸盘主体的中心设有用于基底交接的通孔，所述吸盘主体上设有至少一个凸出吸盘主体且与所述通孔同心分布的密封环，所述密封环上开设有环形凹槽，所述环形凹槽内设有若干与外部真空源连通的真空孔，吸附所述基底时，从所述真空孔通入真空，位于所述密封环与所述基底之间的环形凹槽形成为真空腔。本发明采用环形真空腔的结构，能够逐步改善基底与环形真空腔之间的间隙，内圈的环形真空腔吸附后会减小相邻外圈环形真空腔与基底之间的间隙，最终实现对翘曲基底的有效吸附。
一种吸盘及其吸附方法

[发明专利]一种调焦调平测量系统及其校准方法-CN201511025832.X有效
发明人：杨宣华;陈楠鹏;王海江 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2015-12-30 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种调焦调平测量系统及其校准方法，该系统包括测量分系统和校准分系统，测量分系统包括第一照明单元、第一投影单元、第一探测透镜组及第一调焦探测器，校准分系统包括第二照明单元、第二投影单元、第二探测透镜组及第二调焦探测器，测量分系统与校准分系统关于硅平面的上表面呈轴对称分布，第一照明单元发出的光源经所述第一投影单元入射至硅平面的上表面，经反射后入射至第一探测透镜组并被第一调焦探测器接收；第二照明单元发出的光源经第二投影单元入射至硅平面的下表面，经反射后入射至第二探测透镜组并被第二调焦探测器接收。本发明在同一个系统中设置两套三角测量装置，能够进行交叉测量，从而快速识别漂移部位并进行有效补偿。
一种调焦测量系统及其校准方法

[发明专利]一种光刻机同步控制系统及方法-CN201511026460.2有效
发明人：方欣 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2015-12-30 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机同步控制系统及方法，所述光刻机同步控制系统包括干涉仪分系统和外部分系统，所述干涉仪分系统包括通过同步总线连接的同步控制卡、多通道光纤卡及干涉仪计数卡，所述同步控制卡通过外同步通道与所述外部分系统连接，所述多通道光纤卡通过光纤通道与所述外部分系统连接。本发明提供的技术方案，通过将干涉仪分系统和工件台掩模台分系统的硬件解耦，使干涉仪分系统的同步控制卡可以连接更多的测量轴和外部分系统，增加了干涉仪分系统以及工件台掩模台分系统的扩展性。通过提供格式和接口标准统一的外同步通道，实现外部分系统的扩展，提高了同步控制系统的通用性。
一种光刻同步控制系统方法

[发明专利]一种对准系统及对准方法-CN201510859907.8有效
发明人：于大维;杜荣 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2015-11-30 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提出一种对准系统及对准方法，该对准系统包括：掩模版，提供投影曝光图案和对准标记；投影物镜焦面测量标记，设置于所述掩模版上；投影物镜，对掩模版上的曝光图案、标记成像到硅片方像方焦面；工件台，承载有同轴镜头、基准板和硅片，其中同轴镜头对对准标记、投影物镜焦面测量标记和调焦标记进行成像，基准板承载有调焦标记和参考标记，并提供水平向和垂向测量基准，硅片承载有硅片对准标记；调焦调平系统，对硅片表面调平，控制硅片上表面与硅片焦面重合；离轴对准系统，对硅片图案对准。本发明旨在为调焦调平、对准、焦面探测建立统一的测量基准，提高垂向、水平向测量分系统对温度变化等情况的适应能力。
一种对准系统方法

[发明专利]调焦调平的离焦倾斜补偿装置与方法-CN201511024259.0有效
发明人：顾俊;王海江 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2015-12-30 - 公布日： 2019-03-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种调焦调平的离焦倾斜补偿装置与方法，该装置包括：照明单元、投影单元、探测单元及中继单元，所述投影单元包括投影狭缝整列，该投影狭缝阵列包括若干用于形成精测试光斑的第一狭缝，和设置在所述第一狭缝周围用于形成倾斜测试光斑的第二狭缝，所述第二狭缝沿调节调平系统的投影方向设置。本发明在沿着调焦调平系统的投影方向在第一狭缝的附近增加第二狭缝，进而在精测试光斑周围增设倾斜测试光斑，从而改变光斑布局，通过该倾斜测试光斑实现对硅片面上每个精测试光斑沿调焦调平系统投影方向的倾斜量进行实时测量，并使用软件模块根据倾斜量对单点的测量结果进行补偿。
调焦倾斜补偿装置方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
下一页»
尾页
共 144 条