专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种用于扩散炉的加热装置-CN202221877522.6有效
  • 王作义;朱莉;高万智;何立新;陈家胜;毛明兴 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2022-07-21 - 2022-12-30 - F27D11/00
  • 本实用新型公开了一种用于扩散炉的加热装置,包括扩散炉本体,所述扩散炉本体的表面固定连接有加热装置,所述加热装置的顶部设置有光伏板,所述光伏板底部的前侧和后侧均固定连接有凸块一,所述加热装置顶部的前侧和后侧均固定连接有凸块二,所述加热装置的顶部固定连接有双轴电机,所述双轴电机的两个输出轴均固定连接有长杆,所述长杆的一端与凸块二转动连接。本实用新型具备角度可调节的优点,在实际使用过程中,可以对扩散炉表面所安装的光伏板可以根据太阳所移动的位置对其角度进行调节,使得光伏板始终可以吸收到太阳所散发出的能量,进而提高了对太阳能的利用率,同时提高了扩散炉的实用性。
  • 一种用于扩散加热装置
  • [实用新型]一种离子注入机用真空系统改造装置-CN202221866514.1有效
  • 王作义;朱莉;高万智;何立新;陈家胜;毛明兴 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2022-07-21 - 2022-12-20 - H05K7/20
  • 本实用新型涉及真空系统技术领域,尤其为一种离子注入机用真空系统改造装置,包括壳体,所述壳体的正表面开设有安装槽,所述安装槽的内腔滑动连接有PLC程序控制器本体,所述PLC程序控制器本体右侧的顶部与底部均开设有定位槽,所述定位槽的内腔滑动连接有定位块。本实用新型具备散热效率高、拆装便利和防尘的优点,在实际使用过程中,通过安装槽、定位槽、定位块、风机和固定块的配合使用,不仅能够实现高效散热的效果,而且还能够便于使用者将PLC程序控制器本体拆除进行维护,通过套管和滤网还能够起到防尘效果,避免壳体的内部进入大量的灰尘,进而延长PLC程序控制器本体的使用寿命,提高了PLC程序控制器本体的实用性。
  • 一种离子注入真空系统改造装置
  • [实用新型]一种基于SEMIX模块的液位探测装置-CN202221974294.4有效
  • 王作义;朱莉;高万智;何立新;陈家胜;毛明兴 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2022-07-29 - 2022-12-06 - G01F23/00
  • 本实用新型涉及液位探测技术领域,尤其为一种基于SEM IX模块的液位探测装置,包括:外管,所述外管的内部滑动连接有内管,所述内管的前端贯穿至外管的外侧并固定连接有液位探测装置,所述液位探测装置的内部设置有SEM IX模块,所述外管表面的前侧固定连接有连接块,所述连接块的顶部开设有活动槽一,所述连接块的后侧固定连接有外壳,所述外壳内腔的后侧固定连接有电机。本实用新型具备可调节的优点,在实际使用过程中,通过在测量过程中,对液位探测装置的延伸长度进行调整,使其能适应于不同液位高度的测量,同时能更精准的与液位高度贴合,从而得到更准确的测量数据,进一步实现更高效的操作水准。
  • 一种基于semix模块探测装置
  • [发明专利]一种全自动清洗机用通讯接口-CN202210889664.2在审
  • 王作义;朱莉;高万智;何立新 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2022-07-29 - 2022-11-11 - H01R13/52
  • 本发明涉及全自动清洗机技术领域,尤其为一种全自动清洗机用通讯接口,包括控制器本体和开设于控制器本体内部的空腔,所述控制器本体的背面设置有连接板,所述连接板的一侧固定连接有通讯安装座,所述通讯安装座位于空腔的内部并与空腔的内壁滑动连接,所述连接板的一侧嵌设有挡板,所述连接板和挡板之间滑动连接有活动板。本发明提出的全自动清洗机用通讯接口,具有防护性能好,便于拆卸维护的优点,在使用过程中,能够防止外界的灰尘进入通讯接口,避免灰尘影响通讯接口的通讯效率,同时安全性较强,能够防止通讯接口之间的连接出现脱落,造成通讯中断,还给通讯接口的维护带来了便利,进而具有良好的使用前景。
  • 一种全自动清洗通讯接口
  • [发明专利]一种离子注入机用真空系统及工艺优化方法-CN202210896753.X在审
  • 王作义;朱莉;高万智;何立新 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2022-07-29 - 2022-11-04 - H01J37/18
  • 本发明涉及真空技术领域,尤其为一种离子注入机用真空系统及工艺优化方法,包括:真空处理容器,固定机构,固定机构包括有设置于真空处理容器一侧的固定杆,所述固定杆的内部开设有腔体,所述腔体内腔的顶部固定连接有电机,所述电机的输出轴固定连接有螺纹杆,所述螺纹杆的底端与腔体转动连接,所述螺纹杆表面的底部螺纹连接有螺纹套,所述螺纹套的前侧固定连接有连接凸块,所述固定杆的前侧开设有与连接凸块配合使用的活动槽一。本发明在实际使用过程中,首先在真空连接管的端部增设过滤机构,使其首先对气体的传输进行多次过滤,进一步保持气体的洁净性和真空处理效果,且拆装较为方便,便于使用者对其进行更换清理。
  • 一种离子注入真空系统工艺优化方法
  • [发明专利]一种ICP等离子体刻蚀用清洗机构-CN202010557666.2有效
  • 王作义;吕晓东 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2020-06-18 - 2021-09-10 - B08B3/02
  • 本发明公开了一种ICP等离子体刻蚀用清洗机构,包括上料箱,所述上料箱的内腔设置有送料机构,所述上料箱左侧的内腔设置有导料机构一,所述送料机构包括开设在上料箱内腔前侧和后侧的两个导向滑槽。本发明通过送料机构和导料机构一的配合使用,将上料箱内腔中的硅片传递至清洗箱的内腔进行清洗,最终通过擦拭机构的设置,对硅片进行擦拭,即可达到自动上料、清洗全面和自动擦拭脱水的目的,该ICP等离子体刻蚀用清洗机构,解决了现有的对硅片的清洗方式,大多通过人工对硅片表面进行简单的擦拭,此种清洗的方式,清洗效果较差,人工对硅片表面进行擦拭存在较大的遗漏风险,且人工擦拭效率低,费时费力的问题。
  • 一种icp等离子体刻蚀清洗机构
  • [实用新型]一种具有辅助进气装置的气相外延炉-CN202021107985.5有效
  • 王作义;马洪文;魏关成;高万智;杨虎;陈小铎 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2020-06-18 - 2021-02-02 - C30B25/08
  • 本实用新型公开了一种具有辅助进气装置的气相外延炉,包括气相外延炉本体,所述气相外延炉本体的顶部连通有进气管,所述进气管的顶端设置有过滤机构,所述进气管的内腔设置有风机本体,所述风机本体的表面设置有固定机构,所述固定机构的两侧均设置有滑块。本实用新型通过固定机构的设置,可以将外部空气抽入气相外延炉本体的内腔,通过转动旋钮,最终使得上方插杆与下方插杆分别脱离上方和下方的内腔,进而对盖板和滑块同步解锁,即可依次将盖板和风机本体拆卸,该具有辅助进气装置的气相外延炉,具备便于拆装的优点,提高了气相外延炉本体的进气效率,进一步提高了该气相外延炉的工作效率。
  • 一种具有辅助装置外延
  • [实用新型]一种气相外延炉用过滤机构-CN202021128049.2有效
  • 王作义;马洪文;魏关成;高万智;杨虎;陈小铎 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2020-06-18 - 2021-02-02 - B01D46/10
  • 本实用新型公开了一种气相外延炉用过滤机构,包括进风管道本体,所述进风管道本体内腔的顶部设置有过滤机构,所述过滤机构包括开设在进风管道本体内壁顶部的环形凹槽。本实用新型通过过滤机构的设置,对空气中的灰尘及杂质进行过滤,随后通过限位机构的设置,对框架进行移动,对过滤网本体进行更换,即可达到便于更换和清理滤网的目的,该气相外延炉用过滤机构,解决了现有的气相外延炉在使用过程中,进气口位置多通过螺纹紧固的安装方式对过滤层进行安装,此种安装方式需要频繁转动螺栓对滤网进行拆装,且由于炉内的吸附力,过滤网的表面较容易堆积灰尘杂质,使用者的清理周期较短,不利于使用者使用的问题。
  • 一种外延过滤机构
  • [实用新型]一种便于维护的光刻机-CN202021107984.0有效
  • 王作义;马洪文;魏关成;高万智;杨虎;陈小铎 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2020-06-18 - 2020-12-22 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种便于维护的光刻机,包括光刻机本体,所述光刻机本体正表面的两侧均通过铰链转动连接有柜门,所述光刻机本体正表面的两侧均固定连接有固定结构。本实用新型通过固定结构起到了对柜门的固定和释放,进行使用六角扳手操作固定结构,将柜门进行释放,即可将柜门开启,该便于维护的光刻机具备方便启闭的优点,在使用过程中能够使用结构小巧,精密的部件进行传动,进而对柜门进行限位,能够有效的取代螺栓的作用,同时不与发生锈蚀,使用寿命长,提高了光刻机的实用性,解决了现有的光刻机在使用过程中,大多没有设置专门的维护窗口,不利于工作人员进行维护的问题。
  • 一种便于维护光刻
  • [实用新型]一种光刻机的清理机构-CN202021128047.3有效
  • 王作义;马洪文;魏关成;高万智;杨虎;陈小铎 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2020-06-18 - 2020-12-22 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种光刻机的清理机构,包括连接座,所述连接座的底部固定连接有电机一,所述电机一的输出轴固定连接有连接架,所述连接架的底部固定连接有转动架,所述转动架的内腔活动连接有转动块。本实用新型通过开启电机一,电机一的输出轴带动连接架、转动架、转动块、风泵结构和调节结构旋转一定的角度,进而调节风泵结构的轴向角度,通过调节结构调节风泵结构的水平角度,最终实现了方便调节的目的,该光刻机的清理机构具备方便调节的优点,在实际使用过程中能够任意调节风泵结构的角度,从而多角度的对光刻机的工作台进行清理,该清理机构结构简单,适用范围广,方便了使用者使用,提高了光刻机的实用性。
  • 一种光刻清理机构
  • [实用新型]一种离子注入机的冷却机构-CN202021128048.8有效
  • 王作义;马洪文;魏关成;高万智;杨虎;陈小铎 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2020-06-18 - 2020-12-22 - H05K7/20
  • 本实用新型公开了一种离子注入机的冷却机构,包括铝制导热板,所述铝制导热板的顶部固定连接有连接架,所述连接架表面的四角均开设有凹槽,所述连接架的顶部固定连接有顶板。本实用新型通过铝制导热板和导热铜座进行导热,导热结构将铝制导热板和导热铜座积蓄的热量转移,开启风冷结构,风冷结构能加快导热结构表面的空气流速,进而起到了散热的作用,该离子注入机的冷却机构局别散热效果好的优点,在实际使用过程中而机构相对简单,适用范围广,通过直接接触电子元件,能很好的压制住电子元件的工作温度,保证了离子注入机内部电子元件的稳定性,保证了离子注入机能够稳定的运行,方便了使用者使用,提高了离子注入机的实用性。
  • 一种离子注入冷却机构
  • [实用新型]一种用于离子注入机的校对装置-CN202021129524.8有效
  • 王作义;马洪文;魏关成;高万智;杨虎;陈小铎 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2020-06-18 - 2020-12-22 - H01J37/20
  • 本实用新型公开了一种用于离子注入机的校对装置,包括工作台,所述工作台的顶部设置有放置机构,所述工作台的内部开设有活动腔,所述活动腔内腔的后侧设置有导向机构,所述活动腔内腔的底部固定连接有电机,所述电机的输出轴设置有移动机构。本实用新型通过将加工件本体放置于放置台的顶部,开启电机,电机的输出轴最终带动两个夹板和夹块进行以导向块一侧转轴为轴心相向的弧形运动,进而对加工件本体进行定位校正,即达到了方便使用的目的,该用于离子注入机的校对装置具备方便使用的优点,操作便捷,无需使用人力对加工件进行定位校正,节省了人力,并且提高了加工件的稳定性。
  • 一种用于离子注入校对装置
  • [发明专利]一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构-CN202010545884.4在审
  • 吕晓东;王作义 - 上海广奕电子科技股份有限公司
  • 2020-06-18 - 2020-09-18 - H01J37/30
  • 本发明公开了一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构,包括刻蚀机本体,所述刻蚀机本体的左侧设置有前后移动机构,所述刻蚀机本体的上方设置有左右移动导向机构,所述左右移动导向机构的内腔设置有左右移动机构一和左右移动机构二,所述刻蚀机本体的顶部固定连接有刻蚀基板。本发明通过前后移动机构的设置,使得监控设备能够跟随左右移动导向机构移动,从而使得监控设备与左右移动机构二之间的连接线不需要太长,从而就不易因连接线缠绕而出现事故,也能够减少对刻蚀机的损坏,延长刻蚀机的使用寿命,还能够控制左右移动机构一对刻蚀机上淤积的药水进行风力吹干,从而使得刻蚀基板的表面能够快速干燥,也方便后续的使用。
  • 一种icp高密度等离子刻蚀监控机构

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