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[实用新型]用于光栅扫描电子束曝光机的曝光校正图形结构-CN202320148821.4有效
发明人：王国荃 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2023-01-19 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于光栅扫描电子束曝光机的曝光校正图形结构，曝光校正图形结构包括至少一根沿第一方向延伸的第一条状图形以及至少一根沿第二方向延伸的第二条状图形，第一条状图形和第二条状图形交叉排布，第一条状图形的长度为光栅扫描电子束曝光带的带宽的两倍以上，第二条状图形的长度为光栅扫描电子束曝光带的带宽的两倍以上。本实用新型通过对标准图形和本实用新型的曝光校正图形结构实际曝光的曝光图形的对比，可以获得不同方向上的光栅扫描电子束的拼接偏移量，并通过多个拼接偏移量的加权，得到更加精准的修正量，依据修正量实现光栅扫描电子束的有效校正，从而大大提高电子束曝光机的稳定性和精确性。
用于光栅扫描电子束曝光校正图形结构

[实用新型]用于掩模版多线宽均匀性检测的图形结构-CN202221765803.2有效
发明人：王国荃 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2022-07-08 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于掩模版多线宽均匀性检测的图形结构，其在图形掩模层中设置检测单元，检测单元包括相邻排布的遮光区域和透光区域，遮光区域内设置有透光图形，透光区域内设置有遮光图形，透光图形包括线宽依次递增的透光矩形以形成透光宝塔图形，遮光图形包括线宽依次递增的遮光矩形以形成遮光宝塔图形。在检测过程中，只需通过对相邻排布的透光宝塔图形和遮光宝塔图形的检测，就可以同时对掩模版上多个不同线宽的透光区域和多个不同线宽遮光区域同时进行相应线宽的检测，大大节省了掩模版线宽检测的时间，并大大减低了检测的工艺难度。
用于模版多线宽均匀检测图形结构

[实用新型]一种用于掩模版制作中的等离子体刻蚀装置-CN202220508408.X有效
发明人：王国荃 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2022-03-09 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于掩模版制作中的等离子体刻蚀装置，所述装置至少包括：圆筒，所述圆筒包括圆筒本体以及所述圆筒本体的内部空间形成的反应室；底架，设于所述反应室内，待处理的所述掩模版固定于所述底架上；射频电极，安装于所述圆筒本体的外壁。通过在显影后追加本实用新型的等离子体刻蚀装置，利用等离子体刻蚀装置就可以消除抗蚀剂底膜溶胀造成的毛刺及残膜现象，从而使得抗蚀剂图形边缘平整光滑，提高图形分辨率。
一种用于模版制作中的等离子体刻蚀装置

[实用新型]一种微颗粒的测量装置-CN202120350644.9有效
发明人：王国荃 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2021-02-08 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： G01N15/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种微颗粒的测量装置，测量装置包括：透明基板；基板支架，用于固定支撑透明基板并使得透明基板悬空；颗粒检测仪，用于检测透明基板的原始颗粒参数以及在待测定区域放置预设时间后的透明基板的最终颗粒参数；处理单元，用于依据最终颗粒参数及原始颗粒参数获得待测定区域的洁净度。本实用新型的测量装置非常适合小空间环境，洁净度要求很高的测量，可以放置任何位置并且不会对环境造成无污染，通过特殊的支架支撑透明基板，可使透明基板悬空，同时透明基板放置位置可以十分精确，从而使得三维空间的定位非常精确，颗粒的数量、大小、形状可精确定位。
一种颗粒测量装置

[实用新型]一种带有滤光片的光学设备-CN202121557974.1有效
发明人：骆庆生;成立炯;蒙文科;胡平 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2021-07-09 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种带有滤光片的光学设备，包括载物台、第一光学系统、具有黄色滤光片的第二光学系统及光学放大装置；该光学设备能够替代现有的图形曝光机，通过第一光学系统提供的白光光束，即可通过反射光实现对相移掩模版中光刻胶的曝光，实现对COM缺陷的修复，具有成本低、操作简单、修复周期短的优点，且通过具有黄色滤光片的第二光学系统可提供虑光光束，以在对COM缺陷进行定位的同时，避免透射光对光刻胶的曝光。
一种带有滤光光学设备

[实用新型]一种光学设备-CN202121559447.4有效
发明人：骆庆生;成立炯;蒙文科;胡平 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2021-07-09 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光学设备，包括载物台、第一光学系统、第二光学系统及光学放大装置；载物台具有通孔，载物台用以承载样品，样品为表面具有光刻胶的相移掩模版，且相移掩模版中具有COM缺陷；通过第一光学系统中的第一光学镜头和第一反射镜，提供第一白光光束，以入射样品，通过反射光对光刻胶进行曝光，用以修复COM缺陷；以及通过第二光学系统中的第二光学镜头及第二反射镜，提供第二白光光束，以经载物台中的通孔入射样品，通过透射光对COM缺陷进行定位；通过光学放大装置观测样品。该光学设备能够替代现有的图形曝光机，可实现对相移掩模版中的COM缺陷的修复，具有成本低、操作简单、修复周期短的优点。
一种光学设备

[发明专利]适用于JBX光刻机的图案修正方法、装置、介质、及系统-CN201910790651.8在审
发明人：俞叶丽 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2019-08-26 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本申请提供适用于JBX光刻机的图案修正方法、装置、介质、及系统，所述方法包括：获取设计图案的设计尺寸数据和所述设计图案在经JBX光刻机进行光掩模制作处理后所获得的光掩模图案的关键尺寸数据；建立用于描述所述设计尺寸数据和测量尺寸数据间关系的拟合模型；根据所述设计尺寸数据与测量尺寸数据之间的差异数据对所述设计尺寸数据做反向修正，以使尺寸数据修正后的设计图案在经所述JBX光刻机处理后所获得的光掩模图案与尺寸数据修正前的设计图案一致。本申请提供一种使用光掩模曝光图案修正的技术来抵消JBX光刻机误差的技术方案，通过计算机软件模拟结果验证其效果，从而能够有效修正小线宽处的线性误差，且调整周期短、消耗少、效率更高。
适用于 jbx 光刻图案修正方法装置介质系统

[实用新型]具有反光识别区的光掩模夹具-CN202020592068.4有效
发明人：王国荃 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2020-04-20 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种具有反光识别区的光掩模夹具，用于光掩模工作台，所述光掩模工作台上方具有反光识别探测器，所述光掩模夹具包括：夹具框体；光掩模窗口，位于所述夹具框体中；以及反光识别区，位于所述夹具框体上，并与所述反光识别探测器对准设置。本实用新型在夹具框体上设置具有高反光率的反光识别区，使得不再需要整个光掩模夹具的材质都具有高反射率，可以使用价格较低的金属替代原来昂贵的高反射金属材质，仅需在反光识别区设置高反射材料即可，从而大大降低了光掩模夹具的材料成本及制造成本。
具有反光识别光掩模夹具

[实用新型]一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具-CN201922356261.8有效
发明人：陈杰;姜巍 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具，包括六吋底座、五吋板、光罩夹、底座、站脚、第一滑块、压板和第二滑块，所述六吋底座内侧安装有五吋板，六吋底座外侧安装有底座，底座底端安装有站脚，底座侧边中部安装有第一滑块，第一滑块上端安装有压板，压板上端安装有第二滑块，五吋板上方设有光罩夹，光罩夹连接底座侧边。本实用新型结构合理，操作简单，能够有效的对6英寸的掩膜版进行修补工艺，避免将6英寸的掩膜版报废后重新生产，提高了掩膜版的生产效率。
一种适用于光刻模版缺陷修补

[实用新型]激光折射镜罩子-CN201921393040.1有效
发明人：陈健清;成立炯;胡平;陈朔;郑宏 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2019-08-26 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： B23K26/70 文献下载
摘要：本实用新型提供一种激光折射镜罩子，激光折射镜罩子包括底板、环形侧板、激光进口、激光出口及压缩气进口；其中，环形侧板位于底板上，且环形侧板与底板形成容纳腔；激光进口、激光出口及压缩气进口位于环形侧板上，且激光进口、容纳腔与激光出口相连通，压缩气进口与容纳腔相连通。本实用新型的激光折射镜罩子，通过激光折射镜罩子与机器的全面覆盖设计，可提高折射镜的镜面洁净度，降低激光功率的衰减，延长光刷组件的使用寿命；进一步的，可通过压缩气进口向容纳腔持续的进行压缩气充气，以形成正压，可更好的避免污染物进入容纳腔，以进一步的提高折射镜的镜面洁净度。
激光折射罩子

[发明专利]光掩模制造方法-CN201310354226.7有效
发明人：张沧岂 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2013-08-14 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模制造方法。根据本发明的方法，首先，采用包含曝光及蚀刻等在内的工艺来形成待检光掩模；随后，在待检光掩模经过清洗后，进行图案检查以确定所述待检光掩模是否能采用修补设备进行修补，当确定所述待检光掩模采用修补设备已无法修补时，基于缺陷的相关信息来判断缺陷是否能通过再加工来消除，并当确定缺陷能通过再加工消除时，基于缺陷的位置对所述待检光掩模重新进行加工处理以消除相应缺陷，并于检验合格后进行贴膜处理。本发明能有效消除孤立且巨大之缺陷，提高光掩模的生产良率。
光掩模制造方法

[发明专利]一种光掩模及光掩模套刻精度的监测方法-CN201310371397.0有效
发明人：李晓梅 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2013-08-23 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模及光掩模套刻精度的监测方法，所述监测方法包括步骤：1）提供一包括图形区域及外围区域的光掩模，至少于所述外围区域四个角落的预设中心坐标制作标记图形，其中，所述标记图形由两个垂直相交的横向矩形与纵向矩形组成；2）测量各该标记图形的实际中心坐标，并计算出各该标记图形的实际中心坐标与预设中心坐标的偏移量。本发明可以有效提高套刻精度监测的简易度、降低监测的出错概率、缩短工作周期；图形标记放置在光掩模板子的四个角上，远离光刻的主图形，既能很好的监测位置精度，又不会对光刻的主图形有任何影响。本发明步骤简单实用，适用于生产监测。
一种光掩模光掩模套刻精度监测方法

[实用新型]一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置-CN201821090704.2有效
发明人：姜巍;王豪;胡平;成立炯 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2018-07-11 - 公布日： 2019-03-12 - 主分类号： B08B1/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置，包括固定底座，所述固定底座上端安装有固定柱，固定柱上端安装有固定板，所述固定板上端右侧安装有转轴，转轴上端安装有光掩模载台，所述固定板上端左侧安装有第一支架导轨，第一支架导轨上端设有第二支架导轨，第二支架导轨上端安装有移动块，移动块右端安装有棉签支架。本实用新型，结构合理，设计新颖，将棉签放置在棉签支架上，移动推杆，就可以将整个掩模版的侧壁擦拭干净，并且光掩模载台可以360度旋转，不用人工调整光掩模位置，大大减少了人工擦拭侧壁时带来的掉版、划伤、铬面化学品残留的风险，实用性强，可靠性高。
上端支架导轨侧壁固定板掩模版棉签本实用新型固定底座固定柱光掩模移动块载台脏污支架转轴擦拭光掩模位置人工调整移动推杆化学品划伤残留

[发明专利]基于化学增强光刻胶及电子束曝光的掩模版的制造方法-CN201710212027.0在审
发明人：李勇;倪惠彬 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2017-04-01 - 公布日： 2018-10-16 - 主分类号： G03F1/78 文献下载
摘要：本发明提供一种基于化学增强光刻胶及电子束曝光的掩模版的制造方法，包括步骤：步骤1），于掩模版上形成正型化学增强光刻胶，对所述光刻胶进行曝光；步骤2），对曝光后的光刻胶进行前烘及冷却；步骤3），对所述光刻胶进行显影形成图形光刻胶，并对所述掩模版进行湿法腐蚀以形成图形掩模版；步骤4），去除所述图形光刻胶；以及步骤5），对所述图形掩模版进行关键尺寸测量。本发明取消了传统后烘和打胶两个步骤，将传统工艺中独立的两个程序显影和腐蚀合并成了连续的步骤，并考虑到取消了后烘和打胶两个步骤，将显影时间下降一部分以补偿关键尺寸的变化趋势，使得最终的线宽保持在一个良好的范围，大大简化了整个工艺流程，并大大提高了产品良率。
光刻胶掩模版化学增强显影电子束曝光图形光打胶后烘关键尺寸测量变化趋势产品良率传统工艺湿法腐蚀曝光工艺流程前烘线宽正型去除制造冷却腐蚀合并

[发明专利]光掩膜版的清洗方法及去胶方法-CN201610855735.1在审
发明人：马志平;成立炯 -专利权人： 上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2016-09-27 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩膜版的清洗方法及去胶方法，所述光掩膜版的清洗方法至少包括以下步骤1）使用硫酸及双氧水的混合液对所述光掩膜版进行清洗；2）使用氨水、双氧水及去离子水的混合溶液对所述光掩膜版进行清洗；3）使用超声波对所述光掩膜版进行清洗；4）使用热去离子水对所述光掩膜版进行清洗。本发明的光掩膜版的清洗方法可以实现对光掩膜版进行有效地清洗，能够去除所述光掩膜版表面残留的光刻胶，保证所述光掩膜版表面的清洁度，从而放宽了对去胶步骤中清洁度的要求，可以在去胶过程中避免氨水的使用。
光掩膜版清洗方法

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