专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种TTFC网络的发送调度方法及系统-CN201911213533.7有效
  • 解军;王琳 - 成都成电光信科技股份有限公司
  • 2019-12-02 - 2023-05-30 - H04L41/026
  • 本发明提供了一种TTFC网络的发送调度方法及系统,对VL消息进行发送调度,所述VL消息的类型包括TT‑VL消息、RC‑VL消息、BE‑VL消息,包括以下过程:步骤1:根据VL消息类型配置发送请求参数和设计发送缓存区,发送缓存区存储相应的类型的VL消息;步骤2:各VL消息根据发送请求参数发起发送请求;步骤3:根据VL消息的类型及响应条件响应发送请求,完成发送调度;所述VL消息的响应优先级由高到低为TT‑VL、RC‑VL、BE‑VL;在响应高优先级消息的发送请求时不响应低优先级消息的发送请求。本发明综合了发送缓存设计、缓存数据排序存储、发送调度流程的多个方面,实现了对于TTFC三种业务消息的发送调度,尤其对于TT‑VL消息,真正满足了其低时延和高定时精度的要求。
  • 一种ttfc网络发送调度方法系统
  • [发明专利]使用红外成像的颜色标识-CN201580036209.6有效
  • L·梁;C·F·休特玛 - 微软技术许可有限责任公司
  • 2015-06-29 - 2020-03-03 - G06K9/20
  • 像素的IR图像,每一IR像素指定该IR像素的一个或多个IR参数;在IR图像中标识对人类皮肤进行成像的IR皮肤像素;至少部分地基于IR皮肤像素来标识所标识的人类皮肤的肤色,该肤色具有一个或多个预期可见光(VL)参数;接收包括多个VL像素的VL图像,每一VL像素指定该VL像素的一个或多个VL参数;在该VL图像中标识对所标识的人类皮肤进行成像的VL皮肤像素;以及调整VL图像以提高VL皮肤像素的一个或多个VL参数与所标识的肤色的一个或多个预期VL参数之间的对应性。
  • 使用红外成像颜色标识
  • [发明专利]一种AFDX网络时延降低方法-CN201410697572.X有效
  • 王雁来;陈亮;陈芳芳;卢庆川;王传霸 - 北京华力创通科技股份有限公司
  • 2014-11-26 - 2017-12-26 - H04L12/803
  • 本发明提供了一种AFDX网络时延降低方法,涉及通信工程领域,本发明提供的AFDX网络时延降低方法,采用了复合的延迟调整方式,其通过对指定的两个传输端之间,时延超过预设时延阈值的VL的BAG值进行调整后,再判断每条已调整BAG值的VL的时延是否超过预设时延阈值,如果超过,则将已调整BAG值,且时延超过预设时延阈值的VL中指定的业务数据通过两个传输端之间,时延未超过预设时延阈值的VL进行传输,使得时延超过阈值的VL中的业务量被其他VL(时延不超过预设时延阈值的VL)所分担,进而降低了时延较高的VL的时延,从而使每条VL的业务数量相对平等,也就提高了整体VL的业务数据传输效率。
  • 一种afdx网络降低方法
  • [发明专利]高速三态ADC-CN201310379543.4有效
  • 不公告发明人 - 马东林
  • 2013-08-20 - 2014-01-22 - H03M1/12
  • 将模拟信号Ui按照不同的比例分别变换为高电平嵌位比较信号VH和低电平嵌位比较信号VL,且VH电压值高于VL电压值;在逻辑与结构中分别设置有与VH、VL比较的参考电压Vh、Vl;VH>Vh时Po=1,VL<Vl时Po=0,VHVL>Vl时Po=Pi;Vh对应的输入Uih与Vl对应的输入Uil就会形成模拟信号的电压区间。
  • 高速三态adc
  • [发明专利]对被处理体进行处理的方法-CN201780042178.4有效
  • 森北信也;伴濑贵德;濑谷祐太;新妻良祐 - 东京毅力科创株式会社
  • 2017-07-04 - 2023-08-15 - H01L21/3065
  • 成为一实施方式的方法(MT)的应用对象的晶片(W)具备被蚀刻层(EL)、有机膜(OL)及掩模(ALM),有机膜(OL)由第1区域(VL1)与第2区域(VL2)构成,掩模(ALM)设置于第1区域(VL1)上,第1区域(VL1)设置于第2区域(VL2)上,第2区域(VL2)设置于被蚀刻层(EL)上。方法(MT)中,在收容有晶片(W)的处理容器(12)内生成包含氮气的气体的等离子体而对第1区域(VL1)进行蚀刻直至到达第2区域(VL2),从第1区域(VL1)形成掩模(OLM1),在掩模(OLM1)的侧面(SF)保形形成保护膜(SX),且对第2区域(VL2)进行蚀刻直至到达被蚀刻层(EL),从第2区域(VL2)形成掩模(OLM2)。
  • 处理进行方法
  • [发明专利]液晶驱动装置-CN201080002159.7有效
  • 矢熊宏司;熊谷基也;长井崇;伊东祐德 - 罗姆股份有限公司
  • 2010-03-31 - 2011-06-22 - H03F1/34
  • 涉及本发明的电压放大电路(300)由以下部件构成:输入电压生成部(302),其根据设定值(SL)而生成输入电压(VL1);运算放大器(303),其对输入电压(VL1)进行放大以使输入电压(VL1)与反馈电压(VL3)一致,并生成输出电压(VL2);反馈电阻部(304),其通过对在一端施加的上述输出电压(VL2)与在另一端施加的基准电压(VL4)之间进行分压而生成反馈电压(VL3);选择器控制部(305),其根据设定值(SL)来生成选择器控制信号(SS);和选择器(306),其根据选择器控制信号(SS)从多个候补(GND/VR)中选择基准电压(VL4)。
  • 液晶驱动装置

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