专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种霉素杂质F的合成方法-CN201810714159.8有效
  • 杨政;唐金龙 - 宜昌东阳光生化制药有限公司
  • 2018-06-29 - 2021-06-11 - C07H17/00
  • 本发明属于化学技术领域,具体涉及一种霉素杂质F的合成方法,所述霉素杂质F‑(2R,3S,4R,5R,8R,10R,11R,12S,13S,14R)‑13‑[(2,6‑二脱氧‑3‑C‑甲基‑3‑O三羟基‑3,5,6,8,10,12,14‑七甲基‑11‑[[3,4,6‑三脱氧‑3‑(N‑甲基甲酰胺基)‑β‑D‑木‑已吡喃糖基]氧]‑1‑氧杂‑6‑氮杂环十五烷‑15酮的(式I)的合并方法主要步骤为:霉素合成的高纯度霉素杂质F作为成品检测的杂质标准品,有利于加强对该杂质的定位和定性,提高对霉素原料药的质量控制。
  • 一种霉素杂质合成方法

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