专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种头及装置-CN202221393728.1有效
  • 龚金辉 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2022-06-06 - 2022-09-27 - B41F16/00
  • 本申请实施例公开了一种头及装置,头包括支撑部和柔性部,所述柔性部与所述支撑部连接,所述柔性部远离所述支撑部的一侧形成有依次设置的第一体、第二体以及第三体,所述第一体形成有第一凹槽,所述第三体形成有第二凹槽。本申请旨在通过改进胶头的结构来解决现有技术中银浆存在的技术问题。
  • 一种转印头装置
  • [发明专利]一种适应于多种产品的全息热转印膜设备-CN202210633648.7在审
  • 江俊葳 - 江苏慈美新材料科技有限公司
  • 2022-06-07 - 2022-08-19 - B41F16/00
  • 本发明涉及热转印技术领域,公开了一种适应于多种产品的全息热转印膜设备,片在时远离柱直至抵压产品表面进行,在此过程中进一步张紧膜的同时对转膜进行加热,后转片缩回远离产品表面,降低作为热源的片对转后的产品的影响;且设置冷风机对输出的后的产品快速降温使其稳定;同时,片在下一次前会随着柱转动一周移动至冷风机的另一侧,避免其温度被冷风机,片在转动过程中充分加热到指定温度,不会出现因连续导致的温度波动情况,有效保证质量,解决相关技术中转后的产品受到热源影响导致质量受到影响的技术问题。
  • 一种适应多种产品全息热转印膜设备
  • [发明专利]设备及其印刷方法-CN202110465880.X有效
  • 周群飞;王勇;李润楚 - 蓝思科技(长沙)有限公司
  • 2021-04-28 - 2023-04-25 - B41F16/00
  • 本发明公开了一种设备及其印刷方法。设备包括组件,组件包括带,带为环形结构,且通过至少两个滚筒支撑,至少一个滚筒连接于旋转驱动装置的输出端。基于不同滚筒共同撑起带的这一结构设置,通过在装配时调节各个滚筒之间的位置关系,可以调节各滚筒对应可以的最小角度,可适应的工件形状更多,适用性相对较高;可以在带上选择与工件加工面匹配度最好的位置进行贴合,以改善质量,提高效率;相比于现有技术采用单筒支撑的同样长度的带,本发明提供的设备中,底部的滚筒的直径以及可的最小角度会小于现有技术中的滚筒,能够更加顺场地对曲面工件上较小折弯角处进行
  • 设备及其印刷方法
  • [实用新型]一种部件结构-CN201720168367.3有效
  • 王美丽;邱云;杜渊鑫 - 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2017-02-23 - 2017-08-22 - H01L21/677
  • 本实用新型提供一种部件结构,用以解决现有技术中存在的基板存在较高的下垂风险,会引起印错误,降低良率的问题。该部件结构包括基板和位于基板上的一个或者多个头,该部件结构还包括位于基板上的至少一个凹槽,其中转头与凹槽位于基板的同侧,且头中的至少一个头位于凹槽以外。上述部件结构由于具有凹槽结构,在进行电子器件时即便发生下垂,下垂部分的基板也难以接触到不需要的电子器件因此降低了由于发生下垂造成基板错误电子器件的风险,从而能够提高良率。
  • 一种部件结构
  • [实用新型]一种生态膜转移印花用辊组件-CN202021961954.6有效
  • 孔水虎;吴江法 - 绍兴柯桥佑彩纺织有限公司;绍兴柯桥正莹绣品有限公司
  • 2020-09-09 - 2021-07-23 - B41F16/02
  • 本实用新型公开一种生态膜转移印花用辊组件,涉及纺织印染技术领域,旨在解决面料和膜之间的印压力不稳定影响面料质量的问题,其技术方案要点是:包括通过轴承座安装于机架的辊一、辊二和辊三,所述辊一、辊二和辊三自上而下分布,各轴承座均可沿着上下方向滑动连接于,所述辊一两端的轴承座通过连接杆于机架连接,所述辊二两端的轴承座通过弹性件与辊一两端的轴承座弹性连接,所述辊三两端的轴承座上连接有用于向上推动辊三与辊二挤压的气缸本实用新型能够维持面料和膜之间的挤压力相对稳定,便于对转挤压力进行调节。
  • 一种生态转移印花用转印辊组件
  • [发明专利]装置-CN201611086140.0有效
  • 孙晖 - 张家港康得新光电材料有限公司
  • 2016-11-30 - 2020-09-15 - G02F1/1337
  • 本发明提供了一种装置,装置用于对基板上的视差分离元件进行装置包括:滴液组件,滴液组件上具有用的液体;板,板上设置有与基板的视差分离元件相配合的第一配合结构,板将滴液组件上的液体取出并转印到视差分离元件上通过本发明提供的技术方案,能够解决现有技术中的对柱状透镜涂抹不均的问题。
  • 装置
  • [发明专利]薄膜器件的供给体及其制造方法、印方法-CN200510052686.X有效
  • 小平泰明;宇都宫纯夫 - 精工爱普生株式会社
  • 2005-03-03 - 2005-09-14 - H01L29/786
  • 本发明目的在于提供一种简便地将被层在具有柔软性或挠性的体上剥离技术。而且本发明目的也在于提供一种利用这种剥离技术制造半导体装置的方法以及用该方法制造的电子仪器。上述课题是通过包括以下被层的印方法解决的,该方法是将在支持基板上形成的被层在具有柔软性或挠性的体上的印方法,其中包括:在基板上形成被层的第一工序、将基板上形成的被层接合在固定于固定具上的具有柔软性或挠性的体上的第二工序、和将被层从基板上剥离体上的第三工序。
  • 薄膜器件供给及其制造方法
  • [实用新型]印模具-CN202122895582.2有效
  • 江胜娟;刘颖;王佳;刘思远;单雪飞;张爱京 - 国家电投集团氢能科技发展有限公司
  • 2021-11-23 - 2022-04-19 - B41F16/00
  • 本实用新型提供了一种印模具,印模具包括:垫板组件,包括上垫板和下垫板;组件,位于上垫板和下垫板之间,组件包括上基板和下基板,上基板的下表面和下基板的上表面均设置有催化层,质子交换膜位于上基板和下基板之间;其中,上垫板的下表面或者下垫板的上表面设置有环形避让槽,环形避让槽对应上基板的边沿和下基板边沿设置。通过本申请提供的技术方案,能够解决相关技术中的印过程中转基板的边沿会导致质子交换膜出现机械损伤,从而影响膜电极的寿命和耐久性的问题。
  • 印模
  • [发明专利]一种UV胶水用辊轮分离机构-CN202310922691.X在审
  • 雷永芳;欧阳其海;邵宜健 - 浙江兆奕光电有限公司
  • 2023-07-26 - 2023-10-20 - B41F16/00
  • 本发明涉及UV胶水技术领域,具体为一种UV胶水用辊轮分离机构,涉及到UV印机,包括:UV胶水架,设置在UV印机上;辊轮,设置在UV胶水架内;驱动部件,设置在UV胶水架上,且输出端与辊轮连接;分离部件,设置在辊轮和UV胶水架之间,用于将辊轮和UV胶水架分离;有益效果为:通过分离部件将辊轮和UV胶水架,并且带动辊轮与驱动部件分离,进而无需实用紧固件将辊轮安装,拆卸时也无需拆卸紧固件,仅通过分离部件即可实现辊轮的快速拆卸和安装,省时省力,拆卸效率高。
  • 一种uv胶水用辊轮分离机构
  • [发明专利]一种基板及激光装置-CN202310451550.4在审
  • 黄帅;周锐;李广旭;刘德茂 - 隆基绿能科技股份有限公司
  • 2023-04-24 - 2023-08-25 - B41F16/00
  • 本发明公开了一种基板和激光装置,涉及图案技术领域,用于在印刷过程中防止填充有浆料的基板变形,利于提高激光照射位置精度,降低所获得的结构出现断裂或形状弯曲等问题的风险,提高所制造结构的良率其中,所述基板的一侧设置有沟槽图案。该基板包括:柔性部和刚性保护部。柔性部的材料为透明材质,沟槽图案至少设置在柔性部上。刚性保护部围绕在柔性部的外侧壁上。所述基板应用于激光装置。
  • 一种转印基板激光装置
  • [实用新型]双倍效率的电-CN201120318938.X有效
  • 马志方 - 马志方
  • 2011-08-29 - 2012-05-30 - G01N33/68
  • 本实用新型属于分子生物学实验用电夹的技术领域,具体涉及一种双倍效率的电夹,解决了现有电夹的效率低的问题。一种双倍效率的电夹,包括近正极滤纸和近负极滤纸,近正极滤纸和近负极滤纸的外侧都设置有海绵垫,近正极滤纸和近负极滤纸之间设置有蛋白凝胶和电膜,其特征在于从近正极滤纸到电膜之间再依次增加电膜本实用新型的有益效果:使电的效率加倍,一个电夹可以同时电2块膜,从而提高了WesternBlot实验技术的总体效率。
  • 双倍效率电转印夹
  • [实用新型]一种基板及激光装置-CN202321372158.2有效
  • 黄帅;李广旭;刘德茂 - 隆基绿能科技股份有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-09-29 - B41F16/00
  • 本实用新型公开了一种基板及激光装置,涉及图案技术领域。用于在激光的波段大于等于0.9μm、且小于等于1.6μm的情况下,提高基板对转激光的吸收率,进而提高效率,利于通过激光实现结构的量产。该基板应用于激光装置中,并且激光装置所采用的激光的波段大于等于0.9μm、且小于等于1.6μm。在此情况下,基板包括:透明部和光能吸收层。其中,透明部的一侧设置有沟槽图案。沟槽图案包括至少一个向透明部内凹入的沟槽。光能吸收层位于至少一个沟槽具有的沟槽表面上。光能吸收层对转激光的吸收率大于20%。
  • 一种转印基板激光装置

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