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[发明专利]一种垂直连续蚀刻线-CN202110890212.1在审
发明人：刘长春;李星移 -专利权人：湖南鸿展自动化设备有限公司
申请日： 2021-08-04 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种垂直连续蚀刻线，其特征在于，垂直连续蚀刻线包括采用垂直连续的运载方式的垂直加载装置和采用蚀刻加工方式的蚀刻加工装置，待蚀刻电路板通过垂直加载装置在蚀刻加工装置进行蚀刻加工；本发明提供的垂直连续蚀刻线，通过垂直连续的蚀刻方式，采用不同的蚀刻装置，结合不同的蚀刻方法，能够实现垂直连续的蚀刻效果，有效降低蚀刻过程的“水池效应”，并通过不同流程的组合式加工设计，能够针对不同电路板类型、线路布图类型采用不同的线体加工，形成多元化、个性化加工模式。
一种垂直连续蚀刻

[发明专利]加工方法、盖板及电子装置-CN202111074360.2在审
发明人：詹建波;邱惊龙;敖玉银;韩泽;郑俊威 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种加工方法、盖板及电子装置。加工方法包括：对待加工件进行蚀刻，以使得待加工件生成多个蚀刻结构；及对蚀刻后的待加工件进行热弯，以使得待加工件与预设模具贴合。本申请实施方式的加工方法、盖板及电子装置先对待加工件进行蚀刻，由于待加工件的表面会形成蚀刻结构，则再对待加工件进行热弯时，由于待加工件的表面已形成蚀刻结构，不会再形成缺陷，则可省去对待加工件进行表面抛光的工序且由于在蚀刻过程中，待加工件还不是3D造型，则可降低蚀刻难度，以保证蚀刻结果的良率。由此，在保证盖板经过蚀刻工序，以形成闪光砂效果的情况下，提高了对盖板的加工的工作效率。
加工方法盖板电子装置

[发明专利]一种金属薄片表面细纹蚀刻工艺-CN202011608536.3在审
发明人：马文勇 -专利权人：苏州运宏电子有限公司
申请日： 2020-12-29 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： C23F1/02 文献下载
摘要：本发明公开一种金属薄片表面细纹蚀刻工艺，这一技术方案中，在金属薄片表面加工细纹前预先预备辅助加工板，在辅助加工板上按照金属薄片表面需要加工的细纹进行镂空蚀刻，构建花纹匹配的辅助加工板，随后在经过蚀刻前处理的金属薄片上涂覆厚度为0.01～0.03mm的热熔胶，而后将辅助加工板贴合在金属薄片上并进行第一次蚀刻作业，而后拆除辅助加工板，再进行第二次蚀刻作业，本发明的优点在于利用带有镂空的匹配花纹的辅助加工板贴合在金属薄片表面辅助蚀刻细纹，进行蚀刻作业时可以对蚀刻液进行预先位置引导，从而实现了精准蚀刻，有效缩短了蚀刻作业时间，避免蚀刻时间过长导致金属薄片被蚀刻液蚀穿。
一种金属薄片表面细纹蚀刻工艺

[实用新型]一种蚀刻装置-CN202120248488.5有效
发明人：王亚伟;许建勇 -专利权人：江西慧光微电子有限公司
申请日： 2021-01-28 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本申请公开了一种蚀刻装置，包括承载机构以及喷淋机构，承载机构用于承载待蚀刻的待加工物料，并使得待加工物料的待蚀刻表面与竖直方向具有预设角度，喷淋机构用于对应待加工物料的待蚀刻表面设置并朝向待蚀刻表面喷淋蚀刻液体，以使得蚀刻液体受重力影响而沿待蚀刻表面流动。该设计其能够有效地控制好对蚀刻药水的控制能力以提升待加工物料的生产良率。
一种蚀刻装置

[发明专利]干法蚀刻设备及蚀刻方法-CN201710556671.X在审
发明人：方亮;肖文欢 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2017-07-10 - 公布日： 2017-10-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明所提供的干法蚀刻设备包括能够彼此隔离的至少一个主蚀刻制程腔和至少一个后处理制程腔，所述主蚀刻制程腔使用含氯的蚀刻介质对待加工产品进行蚀刻，所述后处理制程腔使用含氟的置换介质将经蚀刻后所述待加工产品上残留的氯离子置换成氟离子本发明所提供的干法蚀刻方法将待加工产品传送到主蚀刻制程腔内；向所述主蚀刻制程腔内通入含氯的蚀刻介质，以对所述待加工产品进行蚀刻；将蚀刻后的待加工产品传送到后处理制程腔；向所述后处理制程腔内通入含氟的置换介质，以将进行所述待加工产品残留的氯离子置换成氟离子本发明解决了现有技术中蚀刻残留对主蚀刻制程的影响，大大提升产品良率，提高生产效率，并延长了设备保养周期。
蚀刻设备方法

[发明专利]激光加工方法-CN201180036517.0有效
发明人：下井英树;荒木佳祐 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2011-07-19 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： B23K26/38 文献下载
摘要：一种激光加工方法，是使激光（L）聚光于由硅形成的加工对象物（1）的内部而形成改质区域（7），沿着该改质区域（7）进行蚀刻，由此在加工对象物（1）形成贯通孔（24）的激光加工方法，包含：在加工对象物（1）的外表面生成对蚀刻具有耐性的耐蚀刻膜的耐蚀刻膜生成工序；在耐蚀刻膜生成工序之后，通过使激光（L）聚光于加工对象物（1），沿着加工对象物（1）的与贯通孔（24）对应的部分形成改质区域（7），并且使激光（L）聚光于耐蚀刻膜（22），由此，沿着耐蚀刻膜（22）的与贯通孔（24）对应的部分形成缺陷区域（22b）的激光聚光工序；以及在激光聚光工序之后，对加工对象物（1）实施蚀刻处理，沿着改质区域（7）使蚀刻选择性地进展而形成贯通孔（24）的蚀刻处理工序。
激光加工方法

[发明专利]一种激光蚀刻超幅面自由拼接加工方法-CN201810899723.8有效
发明人：许军成;郁国松;金朝龙 -专利权人：天弘激光（宿迁）有限公司
申请日： 2018-08-09 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光蚀刻超幅面自由拼接加工方法，该方法由影像识别系统、传动机构和激光蚀刻机构建的拼接加工装置实现，通过传动机构配合激光蚀刻机实现对待加工片料中不同幅面的蚀刻，同时通过激光刻蚀机实现对已经蚀刻的产品幅面作辅助图形标记；再通过影像识别系统对已蚀刻的产品幅面的辅助图形标记进行识别和定位，并计算当前蚀刻幅面与下一蚀刻幅面和前一蚀刻幅面的角度偏移，根据偏移角度和幅面进行每一次加工长度的传动和加工幅面的调节，以保证当前幅面与前一幅面或下一幅面的拼接位置统一；本发明实现了激光蚀刻超幅面自由拼接加工，解决了超幅面产品激光蚀刻的拼接问题，为超幅面产品激光蚀刻高精度拼接加工提供了解决方法。
一种激光蚀刻幅面自由拼接加工方法

[发明专利]一种蚀刻辅助的微细超声加工装置及方法-CN201510397688.6有效
发明人：袁聪 -专利权人：湖南城市学院
申请日： 2015-07-09 - 公布日： 2018-03-23 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本发明公开一种蚀刻辅助的微细超声加工装置及加工方法，所述微细超声加工装置通过蚀刻液的辅助实施微细超声加工，所述蚀刻液混合磨粒后，浸泡工件或喷淋工件实施蚀刻辅助的微细超声加工；微细超声的振动加工在工件表面形成微裂纹，而蚀刻液可以快速有效的进入微裂纹中，进一步扩大裂纹间隙，有助于微细超声的去除加工；加工效率的提高，缩短了开口上下面接触蚀刻液的时间，相应的减少了侧蚀量；另外将微细超声和蚀刻结合在一起，超声可以引导蚀刻液的流向，进一步有助于保证加工成型的精度。
一种蚀刻辅助微细超声加工装置方法

[发明专利]基于电场控制的微孔加工方法-CN202111013417.8在审
发明人：王越超;尚春莉 -专利权人：广东艾檬电子科技有限公司
申请日： 2021-08-31 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种基于电场控制的微孔加工方法，具体包括以下步骤。提供基材，基材具有待蚀刻加工的加工面；于加工面涂覆耐腐蚀的掩膜，并预留待蚀刻的孔位；输入蚀刻液并对基材施加电场，以加速蚀刻液于孔位处蚀刻基材。具体地，于蚀刻液蚀刻基材的过程中，由于电池作用，蚀刻液内离子沉积于微孔的底部，保证微孔底部蚀刻液内溶质的浓度，从而使得蚀刻液始终以稳定的速度对基材进行蚀刻，不会随着蚀刻深度的变化而减弱。另外，由于蚀刻液内的离子在电场的作用下处于微孔的底部，从而减缓侧壁的反应速度，进而提高微孔的垂直度。
基于电场控制微孔加工方法

[实用新型]一种多层铝基板的蚀刻加工设备-CN201821679276.7有效
发明人：周华隆;唐庭敏 -专利权人：珠海市联健电子科技有限公司
申请日： 2018-10-16 - 公布日： 2019-08-27 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及铝基板加工设备领域，特别涉及一种多层铝基板的蚀刻加工设备，包括设有防水槽的机架，机架上沿基板输送方向依次设置有蚀刻机构、清洗机构、烘干机构及控制组件，蚀刻机构包括有水平设置的输送辊及若干个依次设置在输送辊上并且独立运行的蚀刻组件，蚀刻机构与清洗机构之间设置有清洗驱动门，相邻蚀刻组件之间设置有蚀刻驱动门；本实用新型采用相互独立运行的若干个蚀刻组件，使得该蚀刻加工设备可以根据调配不同的蚀刻液对不同材质的基板进行蚀刻生产，提升加工设备的适用性，并且采用若干个蚀刻组件对可对多层基板进行逐层蚀刻或逐层操作，大大提升了蚀刻的质量。
蚀刻蚀刻组件蚀刻加工本实用新型多层铝基板独立运行清洗机构依次设置输送辊基板输送方向铝基板加工驱动多层基板烘干机构加工设备控制组件设备领域水平设置逐层操作防水槽蚀刻液基板调配清洗生产

[发明专利]一种3D玻璃局部蚀刻工艺-CN202310350657.X在审
发明人：吴建勇;魏中凯;于勇 -专利权人：合肥金龙浩科技有限公司
申请日： 2023-04-04 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种3D玻璃局部蚀刻工艺，包括以下步骤：采用遮挡组件对玻璃加工面上蚀刻区进行适配遮挡；向玻璃加工面上蚀刻区之外喷涂抗酸保护油墨；对抗酸保护油墨进行加热处理以在蚀刻区之外形成第一保护层；在去除对玻璃加工面的遮挡后对玻璃加工面进行强酸蚀刻；本发明提出的3D玻璃局部蚀刻工艺，通过先在3D玻璃的加工面中蚀刻区上安装遮挡件，通过遮挡件对蚀刻区和非蚀刻区进行隔离，对非蚀刻区喷涂抗酸保护油墨，抗酸保护油墨的不会进入蚀刻区内，避免了蚀刻区内油墨清洗的过程，可以缩短工艺流程，提升产能，同时也可避免非蚀刻区油墨被清洗掉，进而提升进玻璃的光哑效果。
一种玻璃局部蚀刻工艺

[发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN202010079765.4在审
发明人：平山司;稻田尊士;百武宏展;高山和也;河野央 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-02-04 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： H01L21/3213 文献下载
摘要：本发明提供一种即使为高层叠有氮化硅膜和氧化硅膜的基板也能够得到氧化硅膜的良好的图案形状的基板处理方法和基板处理装置，本公开的一个方式的基板处理方法包括第一蚀刻工序、加工工序以及第二蚀刻工序。第一蚀刻工序通过蚀刻液对形成有氧化硅膜和氮化硅膜的基板进行蚀刻。加工工序在第一蚀刻工序之后通过图案形状加工液对在基板中由氧化硅膜形成的图案进行加工。第二蚀刻工序在加工工序之后通过蚀刻液对基板进行蚀刻。
处理方法装置

[发明专利]一种银浆激光蚀刻图形拼接方法-CN201610830908.4在审
发明人：陈刚;任清荣;袁聪 -专利权人：武汉吉事达科技股份有限公司
申请日： 2016-09-20 - 公布日： 2017-02-08 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：在大幅面高速高精度银浆振镜激光蚀刻加工中，蚀刻图形大于振镜单次加工幅面时，分块蚀刻图形拼接精度要求非常高，同时在设备振镜精度低于加工要求和振镜精度降低时会带来蚀刻良率急剧下降。本发明涉及一种银浆激光蚀刻图形拼接方法，在振镜精度低于加工需求时，通过对分块图形元素拼接的拼接点进行折弯修改，使拼接要求降低，满足加工要求。本发明提出了一种银浆激光蚀刻图形拼接方法，使大幅面高精度激光蚀刻加工中对蚀刻设备的要求大为降低，加工速度大大提高，带来非常好的经济效益。
一种激光蚀刻图形拼接方法

[实用新型]一种蚀刻辅助的微细超声加工装置-CN201520490862.7有效
发明人：袁聪 -专利权人：湖南城市学院
申请日： 2015-07-09 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本实用新型公开一种蚀刻辅助的微细超声加工装置，所述微细超声加工装置通过蚀刻液的辅助实施微细超声加工，所述蚀刻液混合磨粒后，浸泡工件或喷淋工件实施蚀刻辅助的微细超声加工；微细超声的振动加工在工件表面形成微裂纹，而蚀刻液可以快速有效的进入微裂纹中，进一步扩大裂纹间隙，有助于微细超声的去除加工；加工效率的提高，缩短了开口上下面接触蚀刻液的时间，相应的减少了侧蚀量；另外将微细超声和蚀刻结合在一起，超声可以引导蚀刻液的流向，进一步有助于保证加工成型的精度。
一种蚀刻辅助微细超声加工装置

[发明专利]一种复合化学蚀刻加工装置及加工方法-CN202210683728.3在审
发明人：谢闺娥;史开慧 -专利权人：广州医科大学
申请日： 2022-06-16 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本发明涉及微加工领域，尤其公开了复合化学蚀刻加工装置及加工方法，复合化学蚀刻加工装置包括掩模单元、同步亲水化单元及化学蚀刻单元，掩模单元贴合在工件表面，同步亲水化单元对掩模单元以及掩模图案所显露的工件加工区域进行亲水化处理，使得复合化学蚀刻加工过程和亲水化效应实现实时同步，从而使得工件的加工区域具备优异的工作液传质及循环能力；实时的亲水化处理效应，使得在蚀刻加工过程中蚀刻液在工件加工区域内始终具有良好的传质和更新能力，利于突破现有掩模化学蚀刻加工在加工尺度上及加工深度上的制造瓶颈，实现高深径比微结构的制备，提升微结构的加工质量及加工效率。
一种复合化学蚀刻加工装置方法

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