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[发明专利]被成膜基板、制造方法和有机EL显示装置-CN201510566081.6有效
发明人：园田通;川户伸一;井上智;桥本智志 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2012-01-13 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明提供被成膜基板、制造方法和有机EL显示装置。被成膜基板包括：第一成膜区域和第二成膜区域沿着规定方向彼此隔开间隔地交替配置的基板；和分别在基板的第一成膜区域和第二成膜区域覆盖形成的第一膜和第二膜，第一膜在规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向规定方向上的前端侧逐渐减少的膜厚渐减部分，第二膜在规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向规定方向上的前端侧逐渐减少的膜厚渐减部分，该膜厚渐减部分与第一膜的膜厚渐减部分重叠，第二膜的除膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚小于第一膜的除膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚，在第二膜上还包括第一缓冲层，第一膜的大致平坦部分的膜厚，与第一缓冲层和第二膜的膜厚之和相等。
被成膜基板制造方法有机 el 显示装置

[发明专利]厚膜电阻阻值控制方法-CN201210377112.X有效
发明人：尤广为;邹建安;符宏大;鲍秀峰 -专利权人：华东光电集成器件研究所
申请日： 2012-10-08 - 公布日： 2013-02-06 - 主分类号： H01C17/065 文献下载
摘要：本发明涉及一种厚膜电阻阻值控制方法，包括以下步骤：（1）、当厚膜电阻版图设计长度方向与刮板运行方向相一致时，将厚膜电阻阻值按照设计值减小2.5%进行设计；当厚膜电阻版图设计长度方向与刮板运行方向相垂直时，将厚膜电阻阻值按照设计值增大2.5%进行设计；（2）、当周围加厚膜层厚度分别在20μm～30μm、30μm～40μm以及40μm～60μm范围时，厚膜电阻阻值按照设计值分别增大5%、10%以及15%进行设计；（3）、通过调整电阻膜厚来控制厚膜电阻阻值，按以下公式进行调整：标称方阻值/实际方阻值=实际电阻膜厚/标准电阻膜厚。本发明优点在于：一是控制住厚膜电阻一致性，保证了厚膜电阻质量；二是避免试阻样品浪费，提高了厚膜电路成膜基板加工成品率；三是节约大量试阻时间，提高了厚膜电路成膜基板生产效率。
电阻阻值控制方法

[发明专利]一种厚膜电阻阻值控制的方法-CN201910375739.3在审
发明人：杨然非 -专利权人：昆山福烨电子有限公司
申请日： 2019-05-07 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： H01C17/065 文献下载
摘要：本发明公开了一种厚膜电阻阻值控制的方法，根据厚膜电阻设计方向进行阻值调整，所述方法包括以下步骤：S1，当厚膜电阻版图设计长度方向与刮板运行方向相一致时，将厚膜电阻阻值按照设计值减小1.7％～1.9％进行设计；S2，当厚膜电阻版图设计长度、方向与刮板运行方向相垂直时，将厚膜电阻阻值按照设计值增大1.7％～1.9％进行设计；S3，厚膜电阻周围有加厚膜层时的阻值调整，当周围加厚膜层厚度在8μm～12μm范围时，厚膜电阻阻值按照设计值增大2.7％～2.9％进行设计；S4，当周围加厚膜层厚度在12μm～15μm范围时。本发明结构合理，不仅可以减少试阻时间且可以增加成品合格率，也有效增加了对厚膜电阻印刷时阻值的一致性，大大降低生产成本。
厚膜电阻加厚膜层版图设计运行方向阻值调整阻值控制刮板成品合格率设计方向减小垂直印刷

[发明专利]半导体器件、其制造方法及摄影机-CN200410075206.7有效
发明人：田中浩司 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2004-09-03 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： H01L27/14 文献下载
摘要：半导体器件具有通过光电转换传输存储电荷的传输沟道部(12)、在传输沟道部(12)上形成的绝缘膜(13)、用于通过绝缘膜(13)将传输电压施加到传输沟道部(12)的传输电极(15)，绝缘膜(13)具有第1膜厚和比第1膜厚薄的第2膜厚，在与传输沟道(12)的传输方向垂直的宽度方向上的传输电极(15)的端部之下的绝缘膜(13)的膜厚为第1膜厚，在与传输方向垂直的宽度方向上的传输沟道部(12)的中央部之上的绝缘膜(13)的膜厚为第2膜厚。
半导体器件制造方法摄影机

[发明专利]一种通过光阻膜厚监控涂胶显影机台涂胶槽水平程度的方法-CN201811302702.X有效
发明人：张涛;王晓龙 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2018-11-02 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：本发明一种通过光阻膜厚监控涂胶显影机台涂胶槽水平程度的方法，包括以下步骤：步骤一、测量硅片上表面光阻膜的二维平面在X和Y两个方向上的膜厚，并得到X方向膜厚数据和Y方向膜厚数据；步骤二、将步骤一中得到的X方向膜厚数据和Y方向膜厚数据通过线性拟合的方式得到膜厚拟合线斜率；步骤三、将步骤二中得到的膜厚拟合线斜率与数据库进行对比，若膜厚拟合线斜率落入数据库的斜率范围内，则监控显示结果为无异常，若膜厚拟合线斜率未落入数据库的斜率范围内
一种通过光阻膜厚监控涂胶显影机台水平程度方法

[发明专利]金色装饰品及其制造方法-CN201210454466.X无效
发明人：直井孝一;田势文雄;宫行男;田中敦;牛窪政義 -专利权人：西铁城控股株式会社
申请日： 2006-03-31 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明涉及的金色装饰品，具有基材；在该基材表面于除氮气之外的惰性气体气氛下形成的，Ti原子的含量在膜厚方向上一定的Ti涂膜；在该Ti涂膜上形成的，N原子的含量在膜厚方向上具有梯度的TiN倾斜涂膜；在该TiN倾斜涂膜上形成的，Ti原子和N原子的含量在膜厚方向上一定的TiN涂膜；在该TiN涂膜上形成的，Au原子的含量在膜厚方向上有梯度的Au-TiN混合倾斜涂膜；在该Au-TiN混合倾斜涂膜上形成的，Au原子、Ti原子和N原子的含量在膜厚方向上一定的Au-TiN混合涂膜。另外，也可以在该Au-TiN混合涂膜上形成Au原子的含量在膜厚方向上一定的Au涂膜或Au合金涂膜。
金色装饰品及其制造方法

[发明专利]金色装饰品及其制造方法-CN200680010467.8有效
发明人：直井孝一;田势文雄;宫行男;田中敦;牛窪政義 -专利权人：西铁城控股株式会社
申请日： 2006-03-31 - 公布日： 2008-04-09 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明涉及的金色装饰品，具有基材；在该基材表面于除氮气之外的惰性气体气氛下形成的，Ti原子的含量在膜厚方向上一定的Ti涂膜；在该Ti涂膜上形成的，N原子的含量在膜厚方向上具有梯度的TiN倾斜涂膜；在该TiN倾斜涂膜上形成的，Ti原子和N原子的含量在膜厚方向上一定的TiN涂膜；在该TiN涂膜上形成的，Au原子的含量在膜厚方向上有梯度的Au－TiN混合倾斜涂膜；在该Au－TiN混合倾斜涂膜上形成的，Au原子、Ti原子和N原子的含量在膜厚方向上一定的Au－TiN混合涂膜。另外，也可以在该Au－TiN混合涂膜上形成Au原子的含量在膜厚方向上一定的Au涂膜或Au合金涂膜。
金色装饰品及其制造方法

[发明专利]一种大平板水膜试验任意点膜厚测量装置-CN201510053786.8有效
发明人：胡珀;王勇;宋春景;倪陈宵;涂腾;潘新新;扈本学 -专利权人：上海交通大学;上海核工程研究设计院
申请日： 2015-02-02 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： G21C17/10 文献下载
摘要：本发明公开一种大平板水膜试验任意点膜厚测量装置，主要由电机、齿轮、导轨、链条和膜厚探头组成，在所述大平板上、沿其长边方向安装钢质侧壁，顶部覆盖钢化玻璃构成通道，在所述钢质侧壁安装导轨，所述导轨上安装电机Ⅰ、Ⅱ以及由其分别驱动的齿轮Ⅰ、Ⅱ，在垂直导轨方向上安装链条，所述链条上固定膜厚探头，所述电机Ⅰ驱动齿轮Ⅰ转动时，整个装置沿导轨水平移动，从而使膜厚探头沿大平板长边方向移动，所述电机Ⅱ驱动齿轮Ⅱ转动时，齿轮Ⅱ带动所述链条转动，从而使膜厚探头沿大平板宽边方向移动。本发明所提供的装置，可以实现对大平板上任意点的膜厚测量，且只需要极少数的膜厚探头。
一种平板试验任意点膜厚测量装置

[发明专利]光学物品-CN201980004760.0有效
发明人：岛田拓哉;沓挂祐辅;滨本辉文;山下照夫;渡边强 -专利权人：豪雅镜片泰国有限公司
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G02C7/10 文献下载
摘要：本发明的眼镜镜片等光学物品在基材上具有含有光致变色色素及树脂成分的调光层和保护膜，该调光层在膜厚方向内部的压痕硬度为基材表面的压痕硬度以下，并且，以保护膜在膜厚方向内部的压痕硬度×膜厚定义的值为以调光层在膜厚方向内部的压痕硬度×膜厚定义的值的0.05倍以上且1倍以下。
光学物品

[实用新型]镀膜装置-CN202320412379.1有效
发明人：汪晨洁;余海春;杨启忠;戴晓东 -专利权人：光驰科技（上海）有限公司
申请日： 2023-03-07 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了镀膜装置，该镀膜装置用于对曲面基板进行镀膜，镀膜装置包括镀膜室，镀膜室包括与曲面基板的待镀膜面的延伸方向形成对应关系的镀膜源，以及膜厚修正机构，膜厚修正机构包括第一膜厚修正板和第二膜厚修正板，第一膜厚修正板设置于镀膜源的开口的周边区域，第二膜厚修正板设置于第一膜厚修正板和曲面基板之间；沿曲面基板的待镀膜面的延伸方向，第一膜厚修正板被配置为能够修正曲面基板的第一区域，第二膜厚修正板被配置为能够修正曲面基板的第二区域能够有效提升整个曲面基板的待镀膜面的膜厚均匀性。
镀膜装置

[发明专利]液体过滤器及液体过滤器的制造方法-CN202080014865.7在审
发明人：井上和臣;中川洋亮;竹上龙太;金村一秀 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-01-23 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： B01D39/16 文献下载
摘要：无纺布的纤维密度在膜厚方向上连续变化，且在膜厚方向上存在纤维密度差，在膜厚方向上的其中一个表面的纤维密度最大，在膜厚方向上的另一个表面的纤维密度最小。
液体过滤器制造方法

[发明专利]液晶薄膜、其制造方法及由该液晶薄膜组成的光漫射性薄膜和偏振光片-CN98812704.0有效
发明人：铃木慎一郎;西村凉;小松伸一 -专利权人：日石三菱株式会社
申请日： 1998-12-24 - 公布日： 2004-01-21 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供一种螺旋轴方向沿膜厚方向不同样平行的胆甾醇型或手性近晶C型取向固定化的光漫射性液晶薄膜，以及螺旋轴方向沿膜厚方向不同样平行且螺矩沿膜厚方向不同样等间隔的胆甾醇取向或手性近晶C型取向固定化的液晶薄膜
液晶薄膜制造方法组成漫射偏振光

[发明专利]光学物品-CN201980004752.6有效
发明人：岛田拓哉;滨本辉文;沓挂祐辅;山下照夫;渡边强 -专利权人：豪雅镜片泰国有限公司
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G02C7/10 文献下载
摘要：本发明的眼镜镜片等光学物品在基材上具有含有光致变色色素及树脂成分的调光层和保护层，其中，该调光层在膜厚方向内部的压痕硬度为0.1～10mgf/μm2的范围。另外，以该保护层在膜厚方向内部的压痕硬度×膜厚定义的值为以上述调光层在膜厚方向内部的压痕硬度×膜厚定义的值的5倍以上且9000倍以下。
光学物品

[实用新型]塑料膜生产设备用测厚装置-CN202021163586.0有效
发明人：兰永红;孙咏梅;尹安 -专利权人：武汉华天成塑业有限责任公司
申请日： 2020-06-22 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： G01B5/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种塑料膜生产设备用测厚装置，包括：机架、固定杆、测厚仪，塑料膜在机架上输送，所述固定杆固定设置在机架上，所述固定杆的长度方向与塑料膜的输送方向垂直，所述测厚仪滑动装配在固定杆上，所述测厚仪沿固定杆的长度方向滑动，所述测厚仪与固定杆之间设有锁紧件，所述锁紧件用于将固定杆锁紧固定在固定杆上；所述测厚仪一侧开设有水平布设的缺口，所述缺口的长度方向与塑料膜的输送方向平行，塑料膜从所述缺口内经过，所述测厚仪用于对从其内部经过的塑料膜进行测厚操作本实用新型中厚仪的位置能够调节，进而能够对不同幅宽的塑料膜进行测厚操作。
塑料膜生产备用装置

[发明专利]光偏向元件及光偏向装置-CN201480000959.3有效
发明人：藤之木纪仁 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2014-01-28 - 公布日： 2014-12-24 - 主分类号： G02F1/29 文献下载
摘要：一种光偏向元件，包括：基板；采用电光材料、构成形成在基板上的光波导的光波导膜；在光波导膜的膜厚方向上相对置地配置于光波导膜的射入侧，基于第1施加电压使在光波导膜中传播的光束在光波导膜的面内方向偏向的第1电极对；在光波导膜的膜厚方向相对置地配置于光波导膜的射出侧，基于第2施加电压使通过第1电极在光波导膜的面内方向已被偏向的光束在光波导膜的膜厚方向偏向的第2电极对，其中，第2电极对包含第1电极和第2电极；第1电极和第2电极在光波导膜中传播的光束的行进方向上以不同的长度而形成。
偏向元件装置

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