专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种涂布机及涂布方法-CN201510531615.1在审
  • 吴春晖;蒋盛超 - 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
  • 2015-08-26 - 2015-12-23 - B05C9/00
  • 本发明涉及TFT-LCD涂料涂布技术领域,公开一种涂布机及涂布方法,涂布机,包括机架,还包括:至少两个用于承载玻璃基板的载台,载台安装于机架;安装于机架、且可在各载台之间切换的涂布模块,用于对与其相对载台上的玻璃基板进行涂布;驱动模块,驱动模块安装于机架,且与涂布模块相连以驱动涂布模块在各载台之间切换、并驱动涂布模块对与其相对载台上的玻璃基板进行涂布。在上述涂布机中,涂布模块对与其相对载台上的玻璃基板进行涂布时,剩余载台上的玻璃基板被固定或移出,完成涂布后,驱动模块驱动涂布模块切换到另一个载台继续涂布,因此,能连续涂布玻璃基板,减少涂布机等待时间及等待过程中预涂布涂料的浪费
  • 一种涂布机方法
  • [发明专利]涂布对象的制造方法及涂布物质延伸装置-CN201880062011.9有效
  • 筱原信一;大久保达生;铃木隆之;山崎美弥;小泽直人 - 株式会社欧利生
  • 2018-11-21 - 2021-04-06 - B05D1/40
  • 本发明的目的在于提供在具有曲面的涂布对象面尽可能将涂布物质均匀地涂布的已涂布对象的制造方法及涂布物质延伸装置。本发明为制造在对象(T)中具有曲面的涂布对象面(Tf)涂布涂布物质的已涂布对象的已涂布对象的制造方法,具备下述步骤:对涂布对象面(Tf)供给涂布物质的供给步骤;及令对涂布对象面(Tf)供给有涂布物质的对象(T)绕着与对象(T)隔有距离的公转轴线(13a)的公转步骤。涂布物质延伸装置(1)具备令对象(T)绕着与对象(T)隔有距离的公转轴线(13a)旋转的公转部(10)。通过如上述的构成,能够使作用在涂布对象面(Tf)各部分的带动涂布物质的力接近于与离公转轴线(13a)的距离成比例的大小,从而能够抑制涂布涂布对象面(Tf)的涂布物质的厚度的变异。
  • 已涂布对象制造方法物质延伸装置
  • [发明专利]涂布涂布物质的对象的制造方法-CN201980005211.5有效
  • 铃木隆之;大久保达生;小泽直人 - 株式会社欧利生
  • 2019-08-19 - 2021-08-20 - B05D7/00
  • 本发明提供一种已涂布涂布物质的对象的制造方法,前述制造方法除了平面部以外,就连端面部也能以既定厚度的涂布物质覆盖。一种已涂布涂布物质的对象的制造方法,制造于涂布对象(T)的涂布平面及涂布端面涂布涂布物质(R)的已涂布涂布物质的对象;前述涂布对象(T)具有:形成有属于平坦面的涂布平面的平面部(Tf)、以及与平面部(Tf)连续的端面部(Te),前述端面部(Te)形成有涂布端面,前述涂布端面具有曲面及不平行于平面部(Tf)的涂布平面的平面中的至少一者;前述制造方法具备下述步骤:涂布物质供给步骤,至少沿着涂布平面而供给涂布物质(R);以及端面部涂布物质调整步骤,将供给至涂布端面的涂布物质(R)或从涂布平面移动过来的涂布物质(R),调整成朝向远离涂布平面的方向并以既定厚度覆盖涂布端面。
  • 已涂布涂布物质对象制造方法
  • [发明专利]作为缓蚀剂的唑类化合-CN201710101167.0在审
  • E·L·莫里斯 - PRC-迪索托国际公司
  • 2014-03-13 - 2017-06-20 - C23C22/56
  • 涂布金属基材的组合,其包含金属阳离子、唑类化合、以及含水载体。用于涂布基材的组合,其包含载体及唑类化合,该载体包含环氧载体、尿烷载体、或者氟化尿烷载体。涂布基材包括涂布金属基材的组合以及在该组合上的涂层。制造涂布基材的方法,其包含向基材涂布该组合,使组合干燥以形成转化涂层,以及在转化涂层上涂布涂层。
  • 作为缓蚀剂化合物
  • [发明专利]作为缓蚀剂的唑类化合-CN202211322269.2在审
  • E·L·莫里斯 - PRC-迪索托国际公司
  • 2014-03-13 - 2023-01-13 - C23C22/56
  • 涂布金属基材的组合,其包含金属阳离子、唑类化合、以及含水载体。用于涂布基材的组合,其包含载体及唑类化合,该载体包含环氧载体、尿烷载体、或者氟化尿烷载体。涂布基材包括涂布金属基材的组合以及在该组合上的涂层。制造涂布基材的方法,其包含向基材涂布该组合,使组合干燥以形成转化涂层,以及在转化涂层上涂布涂层。
  • 作为缓蚀剂化合物
  • [发明专利]作为缓蚀剂的唑类化合-CN202211568443.1在审
  • E·L·莫里斯 - PRC-迪索托国际公司
  • 2014-03-13 - 2023-03-10 - C23C22/68
  • 涂布金属基材的组合,其包含金属阳离子、唑类化合、以及含水载体。用于涂布基材的组合,其包含载体及唑类化合,该载体包含环氧载体、尿烷载体、或者氟化尿烷载体。涂布基材包括涂布金属基材的组合以及在该组合上的涂层。制造涂布基材的方法,其包含向基材涂布该组合,使组合干燥以形成转化涂层,以及在转化涂层上涂布涂层。
  • 作为缓蚀剂化合物
  • [发明专利]作为缓蚀剂的唑类化合-CN201480023479.9在审
  • E·L·莫里斯 - PRC-迪索托国际公司
  • 2014-03-13 - 2015-12-16 - C23C22/56
  • 涂布金属基材的组合,其包含金属阳离子、唑类化合、以及含水载体。用于涂布基材的组合,其包含载体及唑类化合,该载体包含环氧载体、尿烷载体、或者氟化尿烷载体。涂布基材包括涂布金属基材的组合以及在该组合上的涂层。制造涂布基材的方法,其包含向基材涂布该组合,使组合干燥以形成转化涂层,以及在转化涂层上涂布涂层。
  • 作为缓蚀剂化合物
  • [发明专利]一种提升涂布机效率的设备以及涂布方法-CN202011598097.2在审
  • 不公告发明人 - 杭州纤纳光电科技有限公司
  • 2020-12-29 - 2022-07-01 - B05C9/14
  • 本发明涉及一种提升涂布机效率的设备,包括左载台、右载台、左烘干器、右烘干器和涂布头,涂布头位于左载台和右载台的上方,涂布头相对于左载台和右载台发生相对移动,涂布头对放置于左载台和右载台的待涂装物品表面分别进行涂布,左烘干器和右烘干器分别干燥刚涂布后的待涂装物品表面的湿膜,在涂布头对左载台上的待涂装物品进行涂布过程中,其与左烘干器的间距保持一致;在涂布头对右载台上的待涂装物品进行涂布过程中,其与右烘干器的间距保持一致本发明还公开使用该系统进行涂布的方法。本发明在一侧涂布的时候,在另一侧进行干燥,明显地缩短了涂布的等待时间,提高涂布效率,提升了设备的产能。
  • 一种提升涂布机效率设备以及方法
  • [发明专利]光学膜的制造方法、光学膜及图像显示装置-CN201580001898.7有效
  • 品川雅;井上龙一 - 日东电工株式会社
  • 2015-07-14 - 2018-02-16 - C09J5/02
  • 本发明提供一种光学膜的制造方法,其具有第一涂布工序,使用后计量涂布方式,在第一膜的贴合面及第二膜的贴合面,涂布粘度为1~10000cP的液状,由此除去异物。优选具有第二涂布工序,在将液状涂布于一个膜的贴合面的情况下,在没有涂布液状的膜的贴合面,使用后计量涂布方式,涂布胶粘剂组合或粘合剂组合,或者在将液状涂布于两个膜的贴合面的情况下,在至少一个膜的贴合面,使用后计量涂布方式,涂布胶粘剂组合或粘合剂组合
  • 光学制造方法图像显示装置
  • [实用新型]一种提升涂布机效率的设备-CN202023260773.3有效
  • 不公告发明人 - 杭州纤纳光电科技有限公司
  • 2020-12-29 - 2021-09-10 - B05C9/14
  • 本实用新型涉及一种提升涂布机效率的设备,包括左载台、右载台、左烘干器、右烘干器和涂布头,涂布头位于左载台和右载台的上方,涂布头相对于左载台和右载台发生相对移动,涂布头对放置于左载台和右载台的待涂装物品表面分别进行涂布,左烘干器和右烘干器分别干燥刚涂布后的待涂装物品表面的湿膜,在涂布头对左载台上的待涂装物品进行涂布过程中,其与左烘干器的间距保持一致;在涂布头对右载台上的待涂装物品进行涂布过程中,其与右烘干器的间距保持一致本实用新型在一侧涂布的时候,在另一侧进行干燥,明显地缩短了涂布的等待时间,提高涂布效率,提升了设备的产能。
  • 一种提升涂布机效率设备

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