专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]太阳能地板辐射采暖装置-CN200520125453.3无效
  • 李爱云 - 李爱云
  • 2005-12-06 - 2007-01-03 - F24D3/00
  • 本实用新型公开了一种太阳能地板辐射采暖装置,包括太阳能模块、室内地热辐射盘管、连通所述太阳能模块和室内地热辐射盘管以构成封闭循环系统的管路,以及可在所述封闭循环系统流动的载热流体,所述管路上太阳能模块的进水侧设有可驱动载热流体循环流动的温控循环泵,所述管路上太阳能模块的出水侧设有可对载热流体进一步进行加热的辅助电磁加热器;所述太阳能地板辐射采暖装置还包括可向循环管路提供载热流体的恒压进水阀和单向阀。
  • 太阳能地板辐射采暖装置
  • [发明专利]一种陶粒焙烧窑的气体循环系统-CN202310662820.6在审
  • 李宇;姚长青 - 山东义科节能科技股份有限公司;北京科技大学
  • 2023-06-06 - 2023-09-22 - F27B9/30
  • 本发明提供一种陶粒焙烧窑的气体循环系统,属于污染气体处理技术领域。本发明为一种陶粒焙烧窑的气体循环系统,包括依次设置的干燥热风段、预热段、烧成段、均热段、急冷段、缓冷段,干燥热风段的干燥温度为100‑200℃,预热段的预热温度为300‑900℃,预热段中含氧量为10%‑17%,预热段内置二恶英抑制部,二恶英抑制部包括装有硫酸铵固体的第一抑制部、装有有机胺固体碱的第二抑制部,还包括热风循环系统1、热风循环系统2。本发明的气体循环系统具有很好的二恶英气体处理能力,且热源利用率高,结构合理,并且对排放气流进行了除尘处理,排放的气体对环境无污染。
  • 一种陶粒焙烧气体循环系统
  • [发明专利]器械再处理机和器械再处理方法-CN201710091496.1有效
  • N.N.阮;U.布豪米克;H.威廉斯 - 伊西康公司
  • 2012-10-18 - 2019-06-18 - A61B90/70
  • 为了对具有限定于其中的一个或多个通道的器械进行再处理,所述再处理机可包括一个或多个流量控制系统,所述系统被配置成控制流体通过每个通道的流量。在各种实施例中,流量控制系统可包括压差传感器和用于控制通道中的所述流体流动的比例阀。所述再处理机还可包括:其一,流体循环泵,其可被配置成为所述流量控制系统供应流体,以及其二,系统,其用于控制被供应给所述流量控制系统的所述流体的压力。所述再处理机还可包括用于向所述流体循环系统供应定量的流体系统。所述系统可包括具有流体高度传感器的贮存器以监测其中的所述流体量,以及被配置成为所述贮存器供应流体的泵。
  • 器械处理机处理方法
  • [发明专利]器械再处理方法-CN201280051188.1有效
  • N.N.阮;U.布豪米克;H.威廉斯 - 伊西康公司
  • 2012-10-18 - 2014-06-25 - A61B1/12
  • 为了对具有限定于其中的一个或多个通道的器械进行再处理,所述再处理器可包括一个或多个流量控制系统,所述系统被配置成控制流体通过每个通道的流量。在各种实施例中,流量控制系统可包括压差传感器和用于控制通道中的所述流体流动的比例阀。所述再处理器还可包括:其一,流体循环泵,其可被配置成为所述流量控制系统供应流体,以及其二,系统,其用于控制被供应给所述流量控制系统的所述流体的压力。所述再处理器还可包括用于向所述流体循环系统供应定量的流体系统。所述系统可包括具有流体高度传感器的贮存器以监测其中的所述流体量,以及被配置成为所述贮存器供应流体的泵。
  • 器械处理方法
  • [发明专利]器械再处理机和器械再处理方法-CN201280051144.9有效
  • N.N.阮;U.布豪米克;H.威廉斯 - 伊西康公司
  • 2012-10-18 - 2017-09-12 - A61B1/12
  • 为了对具有限定于其中的一个或多个通道的器械进行再处理,所述再处理机可包括一个或多个流量控制系统,所述系统被配置成控制流体通过每个通道的流量。在各种实施例中,流量控制系统可包括压差传感器和用于控制通道中的所述流体流动的比例阀。所述再处理机还可包括其一,流体循环泵,其可被配置成为所述流量控制系统供应流体,以及其二,系统,其用于控制被供应给所述流量控制系统的所述流体的压力。所述再处理机还可包括用于向所述流体循环系统供应定量的流体系统。所述系统可包括具有流体高度传感器的贮存器以监测其中的所述流体量,以及被配置成为所述贮存器供应流体的泵。
  • 器械处理机处理方法

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