专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种合成纯化霉素杂质C的方法-CN201811557204.X有效
  • 凌青云;张猛;刘言华;杨玲卫;魏雅 - 江苏威凌生化科技有限公司
  • 2018-12-19 - 2020-05-08 - C07H17/08
  • 本发明公开了一种合成纯化霉素杂质C的方法,该方法以霉素为原料,合成一种在霉素生产过程中易产生的霉素杂质C,以便于对该杂质的结构和性质进行研究,合成出来的霉素杂质C性质稳定、纯度较高,能够满足行业内对于霉素杂质的结构和性质方面的研究要求,操作简便,合成易于控制,满足杂质质量控制需求,采用了二氯甲烷作为溶剂,使用多聚甲醛或甲醛,使得反应更加彻底,在微量四丁基溴化铵的催化下,提高了霉素的转化效率;重结晶时,采用适合的比例,使得霉素杂质C粗品的提纯更加完全,提高了霉素杂质C粗品的纯度。
  • 一种合成纯化霉素杂质方法
  • [发明专利]霉素中间体及其制备方法与霉素的制备方法-CN201210330787.9有效
  • 余贵菊;王建;董泽新;王勇;程雪娇;焦小军 - 安徽中升药业有限公司
  • 2012-09-07 - 2012-11-21 - C07H17/00
  • 本发明提供了霉素中间体及其制备方法与霉素的制备方法,所述霉素的制备方法条件温和操作方便,成本低,是以阿奇霉素A为原料,用二碳酸二叔丁酯保护阿奇霉素A中的2’-位羟基和6’-位氨基,得到双保护的阿奇霉素A;对双保护的阿奇霉素A的4”-位羟基进行Swern氧化,再与三氟乙酸成盐,并同时脱除叔丁氧羰基,得到4”-位羰基的阿奇霉素A双三氟乙酸盐;再与三甲基锍溴化物反应得到4”-位环氧化合物;最后用正丙胺对4”-位环氧化合物进行亲核加成,得到霉素的磷酸盐,进一步用碱中和,得到目标化合物霉素;同时产生了4”-位羰基的阿奇霉素A双三氟乙酸盐的霉素中间体。
  • 霉素中间体及其制备方法
  • [发明专利]一种合成纯化霉素杂质E的方法-CN202010991417.4在审
  • 凌青云;张猛;刘言华;杨玲卫 - 江苏威凌生化科技有限公司
  • 2020-09-21 - 2021-01-15 - C07H17/00
  • 本发明公开了一种合成纯化霉素杂质E的方法,在环氧化的过程中,通过调整原料和反应温度,从而得到环氧化合物的异构体,在通过去除保护基、胺化等步骤,得到我们需要的霉素E,解决了现有技术中泰霉素杂质E的纯度低、操作复杂、合成过程不易控制、单次制备产量低、无法满足对其结构和性质的研究条件的问题,本发明的合成纯化霉素杂质E的方法,调整了原料和反应温度,在DMSO中,加入三甲基碘化亚砜,促使硫叶立德反应的进行,使其生成的环氧化合物以直立键为主,促进了霉素杂质E的转化效率,从而生成大量的霉素杂质E的同时提高了霉素杂质E的纯度。
  • 一种合成纯化霉素杂质方法

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