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- [发明专利]原子层沉积装置和原子层沉积方法-CN202080060774.7有效
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龟田直人;三浦敏德;花仓满
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株式会社明电舍
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2020-04-22
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2022-08-19
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C23C16/455
- 在ALD装置(1)的腔室(2)中，位于面对成膜表面(10a)的位置处的喷头(4)设置有在沿着成膜表面的两个方向(也称为“两个成膜表面方向”)上以预定间隔交替布置以便面对成膜表面(10a)的原料气体喷射口(41)和OH*形成气体喷射口(42)。OH*形成气体喷射口(42)中的每个设置有通过其喷射臭氧气体的第一喷射口(42a)和通过其喷射不饱和烃气体的第二喷射口(42b)。通过从原料气体喷射口(41)中的每个喷射原料气体以及从OH*形成气体喷射口(42)中的每个的第一喷射口和第二喷射口(42a、42b)分别喷射臭氧气体和不饱和烃气体，同时使成膜物体(10)沿着成膜表面(10a
- 原子沉积装置方法
- [发明专利]原子层生长装置-CN201680030039.5有效
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松本龙弥;鹫尾圭亮
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株式会社日本制钢所
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2016-04-19
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2019-11-05
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C23C16/44
- 本发明的原子层生长装置具备安装到成膜容器开口部的喷射器和插入安装到开口部的喷射器防粘构件，在喷射器分隔设有喷射器原料气体供给路径、喷射器原料气体供给口、喷射器反应气体供给路径、喷射器反应气体供给口、喷射器惰性气体供给路径、喷射器惰性气体供给口，在喷射器防粘构件分隔设有防粘构件原料气体供给路径、防粘构件原料气体供给口、防粘构件反应气体供给路径、防粘构件反应气体供给口、防粘构件惰性气体供给路径、防粘构件惰性气体供给口，在喷射器防粘构件的外周侧和开口部的内周侧的间隙，设有防粘构件惰性气体供给路径，以使惰性气体流过。
- 原子生长装置
- [实用新型]精密喷头及其喷枪-CN201320023450.3有效
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赖武
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赖武
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2013-01-16
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2013-11-20
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B05B7/10
- 本实用新型涉及一种精密喷头及其喷枪，所述喷头包括位于前面的一气体喷射口和位于后面的一涂料喷射口，其中，涂料喷射口喷射出的涂料再经由气体喷射口喷射而出；还包括第一控制装置，用于控制涂料喷射口的流量；第二控制装置，用于控制气体喷射口的喷射范围。当喷射涂料的时候，同时喷射气体，气体包围涂料形成环形气幕，环形气幕的范围由第二控制装置控制，使得雾状的涂料能够集中喷于一个位置，而不往四周围扩散开来。
- 精密喷头及其喷枪
- [发明专利]保持构件、使用了该保持构件的玻璃制造装置及玻璃的制造方法-CN202180076401.3在审
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吉本幸平
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株式会社 尼康
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2021-12-03
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2023-07-25
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C03B19/00
- 一种保持构件，用于玻璃制造装置，该玻璃制造装置使通过气体而悬浮且被加热而熔融的玻璃原料冷却来制造玻璃，其中，保持构件具有：具有喷射气体的多个喷射口的气体喷射面，气体喷射面具有：具有作为多个喷射口中的一部分的喷射口的第一喷射口的第一区域；以及具有多个喷射口中的与第一喷射口不同的第二喷射口的第二区域，第一区域在俯视观察气体喷射面时位于第二区域的内侧，第一区域的每单位面积的喷射口的面积小于第二区域的每单位面积的喷射口的面积，第一区域的每单位面积的喷射口的面积是第一喷射口的剖面面积的总和相对于俯视观察气体喷射面时的第一区域的面积之比，第二区域的每单位面积的喷射口的面积是第二喷射口的剖面面积的总和相对于俯视观察气体喷射面时的第二区域的面积之比。
- 保持构件使用玻璃制造装置方法
- [发明专利]基板处理装置-CN201510767208.0有效
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岩崎征英;反田雄太
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东京毅力科创株式会社
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2015-11-11
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2019-07-30
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C23C16/44
- 本申请提供一种基板处理装置，包括：载置台，其用于载置基板(W)，并以轴线(X)为中心进行旋转；天线，其设于第1区域；以及反应气体供给部，其用于向第1区域供给反应气体。反应气体供给部具有内侧喷射口和外侧喷射口。内侧喷射口在从轴线(X)的方向观察时设置在比天线的区域靠近轴线(X)的位置，并向远离轴线(X)的方向喷射反应气体。外侧喷射口在从轴线(X)的方向观察时设置在比天线的区域远离轴线(X)的位置，并向靠近轴线(X)的方向喷射被与从内侧喷射口喷射的反应气体的流量独立地控制的流量的反应气体。
- 处理装置
- [发明专利]消毒气体均布式喷射装置-CN202010162360.7有效
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秦宏平;张庆军;孟丽娟;彭家启;吴传秀
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江苏苏云医疗器材有限公司
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2020-03-10
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2020-09-18
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A61L2/20
- 本发明涉及阀门技术领域，特别涉及一种消毒气体均布式喷射装置，包括：壳体，以及沿壳体内部滑动的活动塞体，活动塞体将壳体内部分割为主喷射区域和辅助喷射区域；进气口朝向辅助喷射区域进气，主喷射区域的主喷射口位于壳体的端板上，辅助喷射区域的辅助喷射口位于壳体的周向面上，主喷射区域内设置有复位装置，用于与辅助喷射区域内的气体压力进行抗衡，控制活动塞体的位置，活动塞体在不同位置实现主喷射口和辅助喷射口的开启和关闭。本发明中，分别设置主喷射口和辅助喷射口进行不同方位的消毒气体喷射，而二者间切换的方式通过复位装置与辅助喷射区域内气体压力的抗衡实现，可实现位置的自动化调整，降低了控制难度。
- 消毒气体均布式喷射装置
- [发明专利]超微雾喷射喷嘴-CN200510079481.0无效
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池内博;大西宪男;水野毅男
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株式会社池内
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2005-06-15
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2006-12-20
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B05B7/08
- 本发明的超微雾喷射喷嘴，在液体通路的外周侧介以分隔壁设置气体通路，与喷射口连通的气体通路，将所述分隔壁的喷射口侧的外形形成为截面多边形、扁圆形或椭圆形的异形，而所述气体通路的外周面形成为截面圆形，使所述分隔壁的异形外表面在多个部位与该截面圆形的外周面抵接将所述喷射侧的气体通路在圆周方向上分离为多个气体通路，通过使所述分离的多个气体通路的喷射口所喷射的气体与所述液体通路所喷射的液体的外周混合来使喷雾发生。该喷射超微雾的双流体喷嘴中不会发生堵塞。
- 超微雾喷射喷嘴
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