专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果147700个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]电子设备的壳体及其制备方法-CN201711396543.X有效
  • 刘兵;肖志强;孙坤 - 北京小米移动软件有限公司
  • 2017-12-21 - 2020-12-04 - H05K5/02
  • 本公开是关于电子设备的壳体及其制备方法,所述方法包括:提供半透明材质的基材,基材包括第一表面和与第一表面相对的第二表面,第一表面为电子设备的壳体的外表面;在基材的第一表面制备形成斜入射光学膜,在基材的第二表面制备形成半透半反型光学膜;在斜入射光学膜的表面制备形成字符层,得到电子设备的壳体。半透半反型光学膜可以改变壳体表面的反射和透射特性,起到虚化背景的作用,斜入射光学膜可以使用户在斜入射视角下观看字符与在垂直入射视角下观看字符达到同样的视觉效果,因此将斜入射光学膜与半透半反型光学膜配合使用
  • 电子设备壳体及其制备方法
  • [实用新型]透镜、无影镖靶照明装置以及飞镖设备-CN202221973909.1有效
  • 赵必仰;吴文源;肖承兵 - 惠州市仁隆五金制品有限公司
  • 2022-07-28 - 2022-12-30 - F21V5/04
  • ,上述的透镜,包括基体和折射体,基体上设置有出光面,出光面用于朝向镖靶设置,基体用于与壳体可拆卸连接;折射体与基体连接,折射体的表面设有入光部,入光部背离基体的一侧邻近光源设置,入光部形成有至少两个倾斜入光面,任意两个倾斜入光面的倾斜角度不同,每一倾斜入光面与出光面对应设置。上述的透镜,由于任意两个倾斜入光面的倾斜角度不同,使得至少两个倾斜入光面的配合使用能够为光线提供多种不同的入射角度,进而使得光线经过折射体后能够聚集在出光面上,并使出光面折射出来的光线聚集照射在飞镖时的本影缩小
  • 透镜无影镖靶照明装置以及飞镖设备
  • [实用新型]一种用于国标1515铝型材的斜入式螺母-CN202222782572.2有效
  • 孙让 - 深圳市蓝德欧智能控制技术有限公司
  • 2022-10-21 - 2023-02-14 - F16B37/02
  • 本实用新型公开了一种用于国标1515铝型材的斜入式螺母,包括螺母本体,所述螺母本体的前端下部为长方形结构,所述螺母本体的前端上部为梯形结构,且梯形的下端面与长方形的上端面重合,所述螺母本体左右两侧的上部均设置有斜入面,且两个斜入面呈对称设置,两个所述斜入面均与水平面呈30度角倾斜,所述螺母本体中部的通孔内设置有螺旋纹。本实用新型所述的一种用于国标1515铝型材的斜入式螺母,可以在型材本体的两端被堵上的情况下,将螺母本体被斜塞入型材本体的槽口内部,安装方便,操作便捷,提高了螺母本体的适用范围,实用性强,且螺母本体采用冲压或冷镦工艺制造
  • 一种用于国标1515铝型材斜入式螺母
  • [发明专利]图像处理装置、图像处理方法、程序及记录介质-CN201380063609.7有效
  • 林健吉 - 富士胶片株式会社
  • 2013-11-11 - 2016-11-23 - H04N9/07
  • 在本发明所涉及的图像处理装置、图像处理方法、程序及记录介质中,对异常倾斜入射光(重影光)入射到的像素的像素数据,降低同色像素间的像素数据的级差,另外,对异常倾斜入射光未入射到的像素的像素数据,校正由像素特性所引起的混色当马赛克状的图像数据(RGB图像)被输入到混色判定校正部时,由混色校正判定部获取图像数据(像素数据),由混色校正判定部判定图像数据中有无重影光等异常倾斜入射光。在判定为图像数据中有异常倾斜入射光的入射的情况下,进行混色校正B,消除G像素间的像素数据的级差。另一方面,在判定为图像数据中没有异常倾斜入射光的入射的情况下,进行混色校正A,校正与摄像元件固有的像素特性对应的混色。
  • 图像处理装置方法程序记录介质
  • [发明专利]相位差补偿元件、液晶装置和投射型显示设备-CN200680025185.5无效
  • 藤井隆满 - 富士胶片株式会社
  • 2006-07-07 - 2008-07-09 - G02B5/30
  • 一种相位差补偿元件包括至少一个双折射层压体,该双折射层压体包含透光基底材料和a个在倾斜入射真空蒸镀方向上有变化并被层压在透光基底材料表面上的无机倾斜入射真空淀积膜,其中a≥2。所述双折射层压体满足由公式(i)和公式(ii)所表示的条件:Re(1)<Re(a) (i);Re(b-1)≤Re(b) (ii);其中b为满足条件2≤b≤a的任意整数其中Re(i)分别表示在形成所述“a”个无机倾斜入射真空淀积膜的诸阶段中在第i个膜形成阶段形成的无机倾斜入射真空淀积膜的延迟值d·Δn,其中1≤i≤a,d表示膜厚,且Δn表示双折射指数。
  • 相位差补偿元件液晶装置投射显示设备

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top