专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种遮光保温膜-CN201922343145.2有效
  • 华晓枫 - 无锡翔隆高分子面料有限公司
  • 2019-12-23 - 2020-10-23 - B32B15/095
  • 本实用新型公开一种遮光保温膜,包括遮光保温膜本体,所述遮光保温膜本体包括起隔热保温作用的铝膜层、起遮光作用的黑色TPU薄膜层、用于反射光的白色TPU薄膜层,所述黑色TPU薄膜层复合于所述铝膜层上,所述白色TPU薄膜层复合于所述黑色TPU薄膜层上。上述一种遮光保温膜结构简单、易于实现,铝膜层的设置,不仅具有遮阳效果,且具有保温效果,通过设置黑色TPU薄膜层,进一步提高了遮光效果,且通过设置白色TPU薄膜层,使其具有极佳的反射功能,从而进一步提高遮阳
  • 一种遮光保温
  • [发明专利]彩膜基板的制作方法及其结构-CN201510407669.7在审
  • 孙海燕;申智渊;龙冲 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2015-07-10 - 2015-09-23 - G02F1/1335
  • 本发明的彩膜基板的制作方法,通过采用三道半色调光罩依次对红、绿、蓝色阻层进行曝光、显影,分别在形成红、绿、蓝色阻块的同时,形成红、绿、蓝色阻薄膜,使红、绿、蓝色阻薄膜叠加构成复合色阻薄膜,代替了黑色矩阵,省去了黑色矩阵制程,并可通过调节红、绿、蓝色阻薄膜的厚度控制所述复合色阻薄膜的厚度,以调节遮光效果;同时避免了因色阻和黑色矩阵之间相互覆盖而产生的牛角现象,避免了色差,改善了产品品质,提升了产品良率。本发明的彩膜基板结构,采用红、绿、蓝色阻薄膜叠加构成的复合色阻薄膜代替了黑色矩阵,成本较低,且避免了因色阻和黑色矩阵之间相互覆盖而产生的牛角现象,无色差。
  • 彩膜基板制作方法及其结构
  • [发明专利]一种黑色投影幕-CN201210180982.8有效
  • 刘美鸿 - 深圳市亿思达显示科技有限公司
  • 2012-06-04 - 2012-10-17 - G03B21/60
  • 本发明涉及投影显示技术领域,特别是涉及一种黑色投影幕,该黑色投影幕包括:光学薄膜,所述光学薄膜具有相对的第一表面和第二表面,用于反射投影光线中的基色光波长范围的光线和透射其它波长范围的光线;黑色吸光层,所述黑色吸光层设置于所述第二表面上,用于吸收入射到其上的光线;其中,所述光学薄膜由彼此不同的多层反光膜形成;通过上述方式,本发明的黑色投影幕,通过在光学薄膜上设置黑色吸光层,使得入射到黑色投影幕上的投影光线中的基色光波长范围的光线几乎被全反射,而入射到黑色投影幕上的自然光线中的大部分光线被吸收,可有效提高黑色投影幕成像的对比度和色彩还原性。
  • 一种黑色投影幕
  • [实用新型]一种黑色投影幕-CN201220260363.5有效
  • 刘美鸿 - 深圳市亿思达显示科技有限公司
  • 2012-06-04 - 2013-02-13 - G03B21/60
  • 本实用新型涉及投影显示技术领域,特别是涉及一种黑色投影幕,该黑色投影幕包括:光学薄膜,所述光学薄膜具有相对的第一表面和第二表面,用于反射投影光线中的基色光波长范围的光线和透射其它波长范围的光线;黑色吸光层,所述黑色吸光层设置于所述第二表面上,用于吸收入射到其上的光线;其中,所述光学薄膜由彼此不同的多层反光膜形成;通过上述方式,本实用新型的黑色投影幕,通过在光学薄膜上设置黑色吸光层,使得入射到黑色投影幕上的投影光线中的基色光波长范围的光线几乎被全反射,而入射到黑色投影幕上的自然光线中的大部分光线被吸收,可有效提高黑色投影幕成像的对比度和色彩还原性。
  • 一种黑色投影幕
  • [发明专利]一种黑色PVDF薄膜-CN201310744787.8无效
  • 龚福根 - 江苏昊华光伏科技有限公司
  • 2013-12-30 - 2015-07-01 - C08L27/16
  • 本发明公开了一种黑色PVDF薄膜,其包括以下质量百分比组分:聚偏二氟乙烯40%-45%,聚甲基丙烯酸甲酯10%-12%,黑色聚酯母料20%-27%,硅烷偶联剂2%-5%,含氟活性分散剂5%-15%,氧化铜2%-5%;本发明的黑色PVDF薄膜稳定性好,具有25年以上的使用寿命,氧化铜的加入使该薄膜表面的原子结合紧密,从而获得较高的强度。黑色聚酯母料确保了薄膜的不透光性能。
  • 一种黑色pvdf薄膜
  • [发明专利]一种高遮光型双色TPU薄膜及其生产工艺-CN202210076958.3在审
  • 李振林 - 昆山红苹果塑胶新材料有限公司
  • 2022-01-21 - 2022-05-03 - C08L75/04
  • 本申请属于TPU薄膜技术领域,具体涉及一种高遮光型双色TPU薄膜及其生产工艺,所述高遮光型双色TPU薄膜的两面分别为黑色膜和白色膜,所述黑色膜包括如下重量份的各组分:TPU母粒100份、硅烷偶联剂改性炭黑本申请的高遮光型双色TPU薄膜,两面分别为黑色膜和白色膜,白色膜向外有助于反射光线和热量,起到良好的隔热效果,黑色膜可以起到遮光作用,黑色膜想往外可以有效吸收热量,有助于提高内部温度,使双色TPU薄膜可应用于具有不同需求的场景;另外,黑色膜中所添加的炭黑为硅烷偶联剂改性炭黑,可有效改善炭黑在TPU中的分散效果,提高分散均匀性,避免团聚,减少对薄膜机械性能的影响,同时起到更好的遮光作用。
  • 一种遮光型双色tpu薄膜及其生产工艺
  • [实用新型]一种新型黑色铝塑复合膜-CN202121459174.6有效
  • 张建林;张黎明 - 苏州融达信新材料科技有限公司
  • 2021-06-29 - 2021-12-24 - B32B27/34
  • 为了解决在尼龙薄膜外层涂布一层黑色哑光油墨在观感上有种发灰的感觉的问题,本实用新型提出一种新型黑色铝塑复合膜,尼龙薄膜层的内层涂布一层黑色油墨层,实现了黑色遮光效果,尼龙薄膜层的外层涂布一层哑光层,使铝塑膜达到了哑光的效果;MPP改性聚丙烯层和APP无规聚丙烯薄膜层组合防腐性更好,使铝塑膜呈现的黑色给人一种高贵奢侈的感觉,本实用新型结构简单,便于制造,铝塑膜涂布牢固,封装安全可靠,给人以高雅之感。
  • 一种新型黑色复合
  • [发明专利]一种新型抗紫外防氧化薄膜的制备方法-CN201911390781.9在审
  • 张扬;刘源松;于志明;唐睿琳;王皓炜 - 北京林业大学
  • 2019-12-30 - 2020-04-14 - C08J5/18
  • 本发明公开了一种由微生物黑色素与PVA塑料复合而成的新型抗紫外防氧化薄膜的制备方法。工艺步骤包括1)选取分泌黑色素的微生物进行扩大培养并提取黑色素;2)将NaOH溶液溶解PVA,配制成PVA溶液;3)将黑色素加入PVA溶液中,得到黑色素/PVA混合液,水浴条件下充分混合后超声除气泡,得到无气泡黑色素/PVA混合液;4)将一定量黑色素/PVA混合液倒入模具后室温干燥,制成一种抗紫外防氧化薄膜。本发明提供的新型抗紫外防氧化薄膜的制备方法结合了微生物黑色素优异的抗紫外防氧化特性与PVA塑料良好的物理力学性能,具有可降解、环境友好等优势,可显著提升塑料薄膜的使用寿命,可用于建筑、汽车等的紫外线防护
  • 一种新型紫外氧化薄膜制备方法
  • [发明专利]一种黑色亚光聚酰亚胺薄膜的制备方法-CN200910053045.4有效
  • 项志度;王伟民;冯介华;须金光;邬显德 - 上海市合成树脂研究所
  • 2009-06-15 - 2009-11-18 - B29C41/24
  • 一种黑色亚光聚酰亚胺薄膜的制备方法包括:聚酰胺酸溶液制备、黑色浆料配制、黑色亚光树脂溶液制备以及流延、干燥和脱水环化步骤。亚光剂是从二氧化硅、三氧化铝,氧化锆和氧化铁中任选一种。其加入方法有二种方式,其一是亚光剂和黑色浆料一起加入制备好的聚酰胺酸溶液中充分混合后进行流延、干燥和脱水环化制备黑色亚光聚酰亚胺薄膜;另一种方法是亚光剂和黑色浆料按比例先与反应物芳族二胺混合均匀,再与芳族二酐反应直接制备黑色亚光聚酰胺酸树脂溶液,接着流延,干燥和脱水环化制备黑色亚光聚酰亚胺薄膜,该薄膜的性能为延伸率≥40%,拉伸强度≥150MPa,介电强度≥80KV/mm,可见光透过率≤1%,吸光率0.92%和光泽(60°)空气
  • 一种黑色亚光聚酰亚胺薄膜制备方法
  • [发明专利]一种黑色矩阵的制作方法-CN201711448048.9在审
  • 邱军辉;宋江江;沈顺杰 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2017-12-27 - 2018-05-04 - G02F1/1335
  • 本发明提供了一种黑色矩阵的制作方法,包括如下步骤提供一基板,所述基板上设置有对位标记;在所述基板上涂覆一黑色矩阵薄膜;将涂覆有黑色矩阵薄膜的所述基板放入曝光机中,并对所述基板进行预对位,将所述标记装置移动到所述对位标记的上方,进行标记处理,得到光阻标记;根据所述光阻标记识别所述对位标记的位置,进行精确对位后,图案化所述黑色矩阵薄膜,形成黑色矩阵。本发明提供了一种黑色矩阵的制作方法,在对基板进行预对位之前,通过标记装置将对位标记上方的黑色光阻进行厚度薄化或去除,从而方便了所述对位标记的识别,进而提高了黑色矩阵的制作效率。
  • 一种黑色矩阵制作方法

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