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[发明专利]半导体器件的图案形成方法及半导体器件-CN03102902.7无效
发明人：黄永善;郑载昌;李晟求;卜喆圭;申起秀 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2003-01-21 - 公布日： 2004-01-28 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种半导体器件的图案形成方法，由在形成半导体器件的光刻胶图案的过程中在防反射膜上形成细微弯曲，来增大光刻胶与防反射膜间的接触面积，并能防止光刻胶图案崩溃现象，同时，重复积层有不同折射率和吸光度的两层防反射膜，能防止因防反射膜的弯曲而降低图案关键尺寸的均匀度。一种半导体器件的图案形成方法包括：在被蚀刻层的上部涂布第一层有机防反射膜组成物，对其进行烘烤形成第一层有机防反射膜；在第一层防反射膜上部，涂布有与第一层防反射膜不同折射率和吸光度的第二层防反射膜组成物，对其进行烘烤形成第二层防反射膜；对形成的防反射膜进行蚀刻，而在防反射膜上形成细微弯曲；在有机防反射膜上涂布光刻胶，曝光显影后形成光刻胶图案。
半导体器件图案形成方法

[发明专利]一种防反射膜及其制备方法-CN201711140280.6在审
发明人：金亚东;刘正;杨承翰;周玉波 -专利权人：宁波长阳科技股份有限公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2019-05-24 - 主分类号： G02B1/111 文献下载
摘要：本发明涉及防反射膜技术领域，特别涉及到一种防反射膜及其制备方法。为了解决现有涂布方法制备的多层结构的防反射膜的光学性能和机械性能较差的问题，本发明提供了一种防反射膜及其制备方法，所述防反射膜包括基材层和防反射层，所述基材层的一面涂布有防反射层，所述防反射层从下至上依次为中折射率层、高折射率层和低折射率层；所述防反射膜从下至上依次为基材层、中折射率层、高折射率层和低折射率层。本发明提供的防反射膜具有稳定的光学性能和机械性能，提高了显示器的清晰度和晶硅电池的光电转换效率。
防反射膜制备防反射层基材层机械性能低折射率层高折射率层光学性能折射率层光电转换效率多层结构晶硅电池显示器

[发明专利]防反射膜、防反射物品、偏振片、图像显示装置、模块、带触摸面板的液晶显示装置及防反射膜的制造方法-CN201780050120.4在审
发明人：增田千裕;朝日美帆;福岛悠太;实藤龙二 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-07-27 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：本发明提供一种防反射膜及上述防反射膜的制造方法、以及具有上述防反射膜的防反射物品、偏振片、图像显示装置、模块及带触摸面板的液晶显示装置，本发明的防反射膜具有塑料基材及防反射层，在所述防反射层中，上述防反射层包含金属氧化物粒子及粘合剂树脂，上述防反射层具有包括由上述金属氧化物粒子所形成的凹凸形状的蛾眼结构，上述防反射层的从与上述塑料基材相反的一侧入射时的防反射膜的总透光率为88％以上，并且，将上述防反射层的从与上述塑料基材相反的一侧入射时的防反射膜的波长
防反射膜防反射层塑料基材金属氧化物粒子图像显示装置液晶显示装置防反射物品触摸面板偏振片入射粘合剂树脂凹凸形状蛾眼结构总透光率透射率波长制造

[发明专利]防反射膜、其制造方法、光学元件以及图像显示装置-CN03805414.0有效
发明人：宫武稔;吉冈昌宏;增田友昭;北川笃;鹰尾宽行;白水香织 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2003-03-12 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明的防反射膜中，在透明基材薄膜的至少一面上直接或通过介入其它的层形成有防反射层。所述防反射层是由折射率满足n_d²⁰≤1.49的至少两种低折射率材料形成。本发明的防反射膜具有由低折射率材料形成的防反射层，其防反射特性和耐擦伤性优良。此外，通过介入具有由微粒子形成的凹凸形状表面的硬膜层等而设置防反射层，可以获得防眩性优良的防反射膜。
反射制造方法光学元件以及图像显示装置

[发明专利]防反射硬膜薄膜、光学元件和图像显示装置-CN200680003672.1有效
发明人：高田胜则;重松崇之 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2006-01-13 - 公布日： 2008-01-23 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明提供一种防反射硬膜薄膜，其是在透明塑料薄膜基材的至少一个面依次分别形成至少一层作为固化涂膜层的硬膜层、防反射层的防反射硬膜薄膜，在形成硬膜层和防反射层直接接触的界面的层中，硬膜层形成材料含有：具有(甲基)丙烯酸酯基的固化性化合物(A)、相对于固化性化合物(A)100重量份为0.01～3重量份的具有(甲基)丙烯酸酯基的反应性硅酮(B)，而且所述防反射层形成材料含有具有硅氧烷成分的化合物。这种防反射硬膜薄膜中的硬膜层与防反射层的粘附性良好，具有高硬度且不影响防反射特性的良好、且具有耐擦伤性。
反射薄膜光学元件图像显示装置

[发明专利]一种光学薄膜及其成型方法-CN202110983000.8在审
发明人：孔运辉 -专利权人：孔运辉
申请日： 2021-08-25 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明适用于膜技术领域，提供了一种光学薄膜，包括依次设置的防反射第一膜层、防反射第二膜层和防指纹层，所述防反射第一膜层包括依次设置的基材和多层高分子材料层，防反射第二膜层设于高分子材料层表面，构成高分子材料层的高分子材料中含有二氧化硅和氧化铝，本发明还公开了所述光学薄膜的成型方法，设有防反射第一膜层、防反射第二膜层和防指纹层，通过加入二氧化硅和氧化铝，材料层表面应力变小不易收缩，上层材料的附着力更高，成膜后表面羟基更多，接着力更好，通过对防反射第一膜层进行预加热，能够将湿涂涂料中的小分子受热膨胀后挤出，这样表面层都是附着在高分子树脂上，进一步提高了防反射第二膜层与防反射第一膜层的接着力。
一种光学薄膜及其成型方法

[发明专利]显示装置以及防反射基体-CN02804594.7无效
发明人：渡边一夫 -专利权人：索尼公司
申请日： 2002-11-06 - 公布日： 2004-04-21 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明提供具有低透湿特性且高品质、高可靠性的防反射膜片等防反射基体以及设有该防反射基体的显示装置。本发明的防反射基体由透明衬材上形成的、依次叠层作为粘合改善层的第一层膜、作为水分阻挡层的第二层膜、第三层膜、第四层膜以及第五层膜的叠层膜构成，其上形成第二层膜与第四层膜的折射率分别设定为大于第三层膜与第五层膜的折射率的防反射膜本发明的显示装置由在显示面上设置该防反射基体而构成。
显示装置以及反射基体

[发明专利]显示模组和显示装置-CN202310483564.4在审
发明人：姜博;宋文峰;李静静;曹昆;丁立薇 -专利权人：昆山国显光电有限公司;合肥维信诺科技有限公司
申请日： 2023-04-28 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： H10K59/80 文献下载
摘要：本申请提供了一种显示模组和显示装置，显示模组包括显示基板和防反射膜层。显示基板包括基底、像素限定层、多个发光器件和封装结构。像素限定层位于基底一侧且设有对应于多个发光器件的多个像素开口。封装结构位于像素限定层和多个发光器件背离基底的一侧的表面。多个发光器件中至少两个发光器件可出射不同颜色光。防反射膜层位于封装结构背离基底的一侧。防反射膜层设有对应于多个像素开口的多个通孔。防反射膜层具有不透光性，且防反射膜层的至少一个表面是凹凸不平的。本申请通过设置防反射膜层的至少一个表面是凹凸不平的来增大防反射膜层的总表面积，从而增加了防反射膜层对外界光线的吸收作用，也提高了显示模组的对比度和显示效果。
显示模组显示装置

[发明专利]摄像装置和电子设备-CN201610641419.4有效
发明人：桧山晋;渡边一史 -专利权人：索尼公司
申请日： 2011-03-30 - 公布日： 2017-06-09 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：该摄像装置包括半导体层，其包括多个光电二极管；第一防反射膜，其位于所述半导体层的第一表面上；第二防反射膜，其位于所述第一防反射膜上；及遮光层，其侧表面相邻于所述第一防反射膜和所述第二防反射膜中的至少一个防反射膜
摄像装置电子设备

[发明专利]摄像装置和电子设备-CN201610637982.4有效
发明人：桧山晋;渡边一史 -专利权人：索尼公司
申请日： 2011-03-30 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：该摄像装置包括：半导体层，其包括多个光电二极管；第一防反射膜，其位于所述半导体层的第一表面上；第二防反射膜，其位于所述第一防反射膜上；及遮光层，其侧表面相邻于所述第一防反射膜和所述第二防反射膜中的至少一个防反射膜
摄像装置电子设备

[发明专利]包含硅氧烷化合物的防反射涂敷组合物、利用该防反射涂敷组合物来调节表面能的防反射膜-CN201380057163.7在审
发明人：赵烘宽;金源国 -专利权人：乐金华奥斯有限公司
申请日： 2013-10-08 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： C09D183/08 文献下载
摘要：本发明涉及既具有低折射率，还能形成调节表面能的涂敷层的防反射涂敷组合物、利用该防反射涂敷组合物的防反射膜及上述防反射膜的制备方法，更详细地，涉及防反射膜及其制备方法，上述防反射膜及其制备方法使用防反射涂敷组合物来形成涂敷层，从而使反射率最小化并调节表面能，上述防反射涂敷组合物作为粘结剂，包含将含有氟烷基的有机硅烷(organosilane)和烷氧基硅烷以规定重量比反应而合成的硅氧烷化合物。由于利用上述反射涂敷组合物的防反射膜的防反射效果优秀，因此，期待能够适用于触摸膜等多种显示设备。
包含硅氧烷化合物反射组合利用调节表面

[发明专利]防反射膜-CN201980020558.7有效
发明人：榊原隆广;横山将史 -专利权人：株式会社大赛璐
申请日： 2019-01-21 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： G02B1/111 文献下载
摘要：本发明的防反射膜(X)具有层叠结构，该层叠结构包含基材(11)、硬涂层(12)及防反射层(13)，防反射层(13)侧的发光反射率为2％以下。在对防反射膜(X)的试验片利用以其防反射层(13)侧为内侧进行弯曲的圆柱形心轴法的弯曲试验中，表示耐弯曲性的心轴直径的最小值在6mm以下的范围。并且/或者，在对防反射膜(X)的试验片利用以其防反射层(13)侧为外侧进行弯曲的圆柱形心轴法的弯曲试验中，表示耐弯曲性的心轴直径的最小值在10mm以下的范围。这样的防反射膜适于同时实现高防反射性和高耐弯曲性。
反射

[发明专利]固体摄像装置、固体摄像装置的制造方法和电子设备-CN201110079161.0有效
发明人：桧山晋;渡边一史 -专利权人：索尼公司
申请日： 2011-03-30 - 公布日： 2011-10-05 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：该固体摄像装置包括：半导体层，其包括多个光电二极管；第一防反射膜，其位于所述半导体层的第一表面上；第二防反射膜，其位于所述第一防反射膜上；及遮光层，其侧表面相邻于所述第一防反射膜和所述第二防反射膜中的至少一个防反射膜
固体摄像装置制造方法电子设备

[发明专利]用于防反射膜的涂层剂及防反射膜-CN200610173284.X无效
发明人：久野宪和;西野刚;海老原健治 -专利权人：爱克工业株式会社
申请日： 2006-12-15 - 公布日： 2008-01-23 - 主分类号： C09D133/08 文献下载
摘要：本发明提供一种构成防反射膜的层的密合性高、耐擦伤性高、不易翘曲的防反射膜、及在其制备中使用的用于防反射膜的涂层剂。该防反射膜(1)的特征为具备(A)透明基材层(3)、(B)使用含有含三嗪环的(甲基)丙烯酸酯预聚物的防反射膜用涂层剂形成的第1层(5)、(C)由折射率低于上述第1层的材质构成的第2层(7)，具有顺序为(
用于反射涂层

[发明专利]防反射膜-CN201880057999.X在审
发明人：榊原隆广;梅本浩一;小岛良太;荫山宏树 -专利权人：株式会社大赛璐
申请日： 2018-08-06 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： G02B1/111 文献下载
摘要：本发明的防反射膜(X)具有包含基材(11)、硬涂层(12)及防反射层(13)的层叠结构。防反射层(13)包含固化性树脂、低折射率粒子及纳米金刚石粒子。防反射层(13)可以进一步含有含氟固化性化合物。这样的防反射膜适于同时实现高防反射性以及高耐擦伤性。
反射

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