专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]自动状态调整基座-CN201320326369.2有效
  • 王涛 - 杭州久智自动化技术有限公司
  • 2013-06-05 - 2013-11-13 - G12B5/00
  • 一种自动状态调整基座,包括基座板,所述的基座板的底面安装有三个可升降的底脚调节螺栓,所述三个可升降的底脚调节螺栓之间呈三角形, 所述的每一个底脚调节螺栓与步进电机的输出轴连接;所述的基座板上安装有用以测量当前基座板的X方向和Y方向倾角的重力传感器,所述基座板上安装用以依照当前X方向和Y方向倾角和目标X方向和Y方向倾角的位置差计算三个底脚调节螺栓的调节量并向相应步进电机发出控制指令的自动状态调整模块,所述重力传感器与所述自动状态调整模块连接,所述自动状态调整模块与所述步进电机的控制端连接。本实用新型提供一种可自动调整基座状态的基座
  • 自动状态调整基座
  • [发明专利]一种调整基座-CN201410759992.6在审
  • 张兴良 - 江阴市盛园铜材有限公司
  • 2014-12-12 - 2015-04-01 - F16M5/00
  • 本发明公开了一种调整基座,其特征在于:包括基座本体,基座本体的下部设有安装法兰,基座本体固定于安装法兰上,安装法兰的边缘设置安装孔,基座本体的顶部设有可拆卸旋转台。本发明使用时,安装牢固,安装于基座上的机械设备高度和角度可调节,提高了机械设备的灵活性,进一步提高了生产效率。
  • 一种调整基座
  • [实用新型]一种调整基座-CN201420780978.X有效
  • 张兴良 - 江阴市盛园铜材有限公司
  • 2014-12-12 - 2015-05-06 - F16M5/00
  • 本实用新型公开了一种调整基座,其特征在于:包括基座本体,基座本体的下部设有安装法兰,基座本体固定于安装法兰上,安装法兰的边缘设置安装孔,基座本体的顶部设有可拆卸旋转台。本实用新型使用时,安装牢固,安装于基座上的机械设备高度和角度可调节,提高了机械设备的灵活性,进一步提高了生产效率。
  • 一种调整基座
  • [实用新型]水平基座定位调整工装-CN201720813614.0有效
  • 吕立军;郁丹;丁超;刘红超;姬毅勇 - 沪东中华造船(集团)有限公司
  • 2017-07-06 - 2018-04-17 - B23P19/10
  • 本实用新型公开了一种水平基座定位调整工装,该调整工装包括第一船舯调节机构、第一升降机构、旋转机构、夹持机构、第二升降机构、第二船舯调节机构和联动机构,所述第一船舯调节机构固定在第一升降机构的下端,所述夹持机构的一端通过旋转机构与第一升降机构相连与现有技术相比,本实用新型解决了大中型特殊装备(安装精度要求较高)基座的定位和安装前水平校准问题,本实用新型既能实现基座短距离位移,又能完成基座水平校准工作,且适应不同大小基座的安装定位和水平校准需求。
  • 水平基座定位调整工装
  • [实用新型]方便调整的健身脚踏基座-CN202020527035.1有效
  • 缪敏 - 浙江黄岩北方模具厂
  • 2020-04-10 - 2020-12-22 - A63B22/04
  • 本实用新型提供了一种方便调整的健身脚踏基座,属于健身器材技术领域。它解决了现有脚踏基座不方便调整的问题。本方便调整的健身脚踏基座,包括底座,底座内具有中空的装配腔,底座上设置有两个位于装配腔的踏板,两个踏板相互卡接配合且两个踏板的一端转动于底座上,底座上还设置有可拆装的固定杆,固定杆横向架设于底座上且设置于远离踏板转动端的一侧本实用新型具有方便调整的优点。
  • 方便调整健身脚踏基座
  • [发明专利]马桶基座自适应调整机构-CN201811353847.2在审
  • 胡英娣;刘鑫;何晓俊 - 余姚市展翰电器有限公司
  • 2018-11-14 - 2020-05-22 - E03D11/02
  • 本发明涉及一种马桶基座自适应调整机构,包括:马桶主体,包括进水阀、冲水按键、储水容器、溢流管、冲水阀、污物冲洗容器和污物排出管道,所述冲水按键设置在所述储水容器的壳体上,所述进水阀、所述溢流管和所述冲水阀设置在所述储水容器内,所述污物排出管道设置在所述污物冲洗容器内,所述储水容器设置在所述污物冲洗容器的上方;可伸展基座,设置在所述马桶主体的下方,用于支撑所述马桶主体,还与腿部测量设备连接,用于接收现场腿部长度,并基于所述现场腿部长度调节伸展的高度
  • 马桶基座自适应调整机构
  • [发明专利]调整高度的扩充基座-CN200610168521.3无效
  • 庄政祥 - 英业达股份有限公司
  • 2006-12-13 - 2008-06-18 - G06F1/16
  • 本发明公开了一种可调整高度的扩充基座,此扩充基座是于机体中枢设一勾形结构以及一杠杆。此勾形结构中具有多个位于不同水平高度的定位槽,此杠杆的一端设置有一调整拨杆,而另一端具有一卡榫,以卡合于其中一定位槽中。当使用者拨动此调整拨杆时,卡榫即脱离原本的定位槽,而进入其他定位槽中,如此,即可达到改变扩充基座的高度的目的。
  • 可调整高度扩充基座
  • [实用新型]具有调整结构的地板基座-CN201120047401.4无效
  • 林辰桦 - 林辰桦
  • 2011-02-24 - 2011-09-28 - E04F21/22
  • 本实用新型提供了一种具有调整结构的地板基座,包含:一卡夹座及多个调整体,利用调整体容设于卡夹座的导滑槽内,借助螺丝起子等手工工具穿经调整孔以旋动调整体的顶掣件,使调整体的整体长度增加,令顶掣件的顶掣面向上顶抵卡夹座的顶板,顶掣柱向下压抵地面,则调整体撑起卡夹座,使得卡夹座的底缘与地面具有一段距离而达到垫高的目的,当遇施工的地面凹陷不平的情况时,经由调整体的调整,可撑起卡夹座,故可对地面凹陷的深度进行补偿,再者,可同时调整凹陷区域的调整体,则可更精准地对凹陷的深度进行补偿,可大幅增加垫高调整的方便性及精准度。
  • 具有调整结构地板基座
  • [实用新型]调整的简易烤炉基座-CN01253450.1无效
  • 吴兆芹 - 吴兆芹
  • 2001-09-04 - 2002-09-18 - A47J37/07
  • 一种可调整的简易烤炉基座,包含断面呈L型的环形座盘和支承脚,其特征在于该环形座盘底部设置至少具有两行调整孔的支承脚固定座;该支承脚至少设置有一个调节孔设置有分别穿设于该支承脚固定座一个调整孔和支承脚一个调节孔内的调整螺丝本实用新型可藉调整孔和调节孔不同位置的组合来改变支承脚与环形座盘间的具体安装位置,来达到适应各种型号、规格的燃气灶。
  • 可调整简易烤炉基座
  • [实用新型]滚轮压力调整装置-CN201720428725.X有效
  • 曾庆明 - 曾庆明
  • 2017-04-21 - 2018-03-13 - B23K3/08
  • 本实用新型涉及滚轮压力调整装置,该装置包括调整件、与其中一个滚轮连接的基座以及与另一个滚轮连接的滑动基座调整件与滑动基座连接,滑动基座滑动连接与基座内,调整件与基座连接,滑动基座沿着基座的高度方向移动,需要调整两个滚轮的间距时,旋转调整件,使调整件上下移动,带动滑动基座沿着基座的高度方向上下移动。本实用新型通过设置调整件,调整件与滑动基座连接,滑动基座与其中一个滚轮连接,另一个滚轮固定在基座上,旋转调整件,带动滑动基座沿着基座上下移动,以达到两个滚轮的靠近或者远离,进而调整两个滚轮的间距,实现在设备不停止作业的状态下,也可以对上滚轮以及下滚轮进行间距的调整,不影响生产效率,也不增加能耗。
  • 滚轮压力调整装置
  • [发明专利]透镜调节装置及投影光学系统-CN201511030311.3在审
  • 杜健;孔维成;付瑶;孙阳;杨思文;陈易 - 中国华录集团有限公司
  • 2015-12-31 - 2016-03-16 - G02B7/02
  • 本发明公开了一种透镜调节装置及投影光学系统,所述透镜调节装置包括:依次放置的第一调整基座、第二调整基座和第三调整基座;所述第一调整基座上具有第一中空部、设置在第一调整基座侧壁上的第一定位部件、以及设置在第一调整基座上部的第一定位基准孔;所述第二调整基座上具有第二中空部、设置在第二调整基座侧壁上的第一弯折部件、设置在第二调整基座上部的第二弯折部件、以及设置在第二调整基座上部的第二定位基准孔;所述第三调整基座上具有第三中空部、设置在第三调整基座上部的第三弯折部件、以及设置在第三调整基座上部的第二定位基准孔;本发明能够保持光学系统较好的光轴一致性。
  • 透镜调节装置投影光学系统
  • [实用新型]一种透镜调节装置及投影光学系统-CN201521139270.7有效
  • 杜健;孔维成;付瑶;孙阳;杨思文;陈易 - 中国华录集团有限公司
  • 2015-12-31 - 2016-08-10 - G02B7/02
  • 本实用新型公开了一种透镜调节装置及投影光学系统,所述透镜调节装置包括:依次放置的第一调整基座、第二调整基座和第三调整基座;所述第一调整基座上具有第一中空部、设置在第一调整基座侧壁上的第一定位部件、以及设置在第一调整基座上部的第一定位基准孔;所述第二调整基座上具有第二中空部、设置在第二调整基座侧壁上的第一弯折部件、设置在第二调整基座上部的第二弯折部件、以及设置在第二调整基座上部的第二定位基准孔;所述第三调整基座上具有第三中空部、设置在第三调整基座上部的第三弯折部件、以及设置在第三调整基座上部的第二定位基准孔;本实用新型能够保持光学系统较好的光轴一致性。
  • 一种透镜调节装置投影光学系统

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