专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果7316822个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种形成侧墙氧化硅保护层的方法-CN201410102237.0在审
  • 洪齐元;黄海 - 武汉新芯集成电路制造有限公司
  • 2014-03-19 - 2014-06-18 - H01L21/28
  • 一种形成侧墙氧化硅保护层的方法,包括以下步骤:步骤一,提供一半导体结构;步骤二,利用具有多个缝隙的平面天线将微波导入等离子腔室中,使氧气相对于氩气体积比为1%~5%进行供给,在等离子体腔室内产生氧气和氩气的等离子体,利用所述氧气和氩气的等离子体对所述半导体结构实施等离子体氧化,在所述半导体结构的表面形成侧墙氧化膜层。采用本发明的技术方案,不仅沉积的所述侧墙二氧化硅氧化层均匀好,而且沉积温度远远低于普通炉管需要的800~1100℃,尤其满足了65纳米工艺及其以下工艺时,对二氧化硅薄膜的低温沉积制程的要求,有效提高了产品的良率
  • 一种形成氧化保护层方法
  • [发明专利]一种磁性氧化石墨烯吸附剂材料的制备方法及应用-CN201510863595.8在审
  • 刘金水;刘文秀;及倩倩 - 安徽师范大学
  • 2015-11-27 - 2016-02-03 - B01J20/22
  • 通过将壳聚糖与二价和三价的铁离子反应,合成磁性壳聚糖纳米粒子,磁性壳聚糖纳米粒子再经二硫化碳还原酸化后,通过酰胺化反应连接在氧化石墨烯的表面,从而得到一种能够吸附金属离子尤其是铜离子的新型磁性氧化石墨烯吸附剂材料氧化石墨烯独特的二维单原子层结构,使得其具备很大的表面积,其次,其表面分布的大量的含氧基团能够很好的吸附废水中的铜离子;而CS2改性后的磁性壳聚糖的加入,不仅提高了其吸附性能以及在水中的分散解决了传统吸附材料在吸附铜离子的过程中吸附量低、难回收再生、分离时间长、吸附效率低等缺点。
  • 一种磁性氧化石墨吸附剂材料制备方法应用
  • [发明专利]天然气发动机的等离子体系统-CN201610632671.9在审
  • 董伟;朱赞;赵俊萍 - 广西玉柴机器股份有限公司
  • 2016-08-04 - 2016-10-26 - F02M26/36
  • 本发明公开了一种天然气发动机的等离子体系统。该等离子体系统包括:进气管;排气管;EGR管,其一端与所述排气管连通,另一端与所述进气管连通,所述EGR管上设置有EGR调节阀,该EGR调节阀与ECU控制连接;等离子体发生器,其设置在所述排气管上,并位于所述该天然气发动机的等离子体系统能够缩短发动机点火延时,加快缸内火焰传播速度,拓宽爆震边界,从而提高燃烧效率,降低HC排放,同时,也能够降低点火系统的点火能量,提高点火系统可靠。另外,该等离子体系统能够提高这三种污染物的转化效率。
  • 天然气发动机等离子体系统
  • [发明专利]一种防沉淀剂-CN201710508529.8在审
  • 牟建伟;宋玲 - 常州武城服饰有限公司
  • 2017-06-28 - 2017-09-22 - D06P1/52
  • 本发明以衣康酸为原料,通过与环氧氯丙烷反应,增加分子的活性基团,环再以环氧改性衣康酸、十一碳烯酰基苯丙氨酸为单体进行聚合,得到高分子聚合物,高分子聚合物中的羧基对颜料中的阳离子具有螯合力,能够形成稳定的水溶性螯合物,封锁阳离子,抑制其与阴离子的反应而防止阴阳离子染料结合,同时高分子聚合物中的氨基还可防止防沉淀剂自身及其与染料的结合物凝聚,本发明又以丙烯酸为单体自聚得到聚丙烯酸,聚丙烯酸中与双键相连的两个羧基可增加防沉淀剂与染料的结合物的分散,因此本发明制得的防沉淀剂能够有效阻止阴阳离子染料结合,同时防沉淀剂与染料的结合物易分散。
  • 一种沉淀剂
  • [发明专利]一种精确减薄并获得高质量少层或单层石墨烯的方法-CN201610271903.2在审
  • 肖少庆;沈钢;顾晓峰;戴晓峰 - 江南大学
  • 2016-04-28 - 2016-07-20 - C01B31/04
  • 本发明涉及一种精确减薄并获得高质量少层或单层石墨烯的方法,其特征在于首先利用低压低密度氩气等离子体对石墨烯刻蚀,使得层状石墨烯被精确、均匀、有效地刻蚀掉,最终达到少层或单层,然后在管式炉中对其进行退火,本发明利用惰性的低密度低压氩气等离子体产生的离子轰击效应对石墨烯外层进行物理刻蚀,不引入任何杂质,刻蚀掉的石墨粉末随气体排出,只留下纯净均匀的石墨烯,由离子轰击效应引起的缺陷可由高温退火修复从而获得高质量的少层或单层石墨烯该方法重复性好,可控强,能通过调节等离子体功率来调节刻蚀速率,适合大规模生产大面积高质量的少层或单层石墨烯。其应用领域包括制备石墨烯纳米结构及石墨烯电子器件等。
  • 一种精确获得质量单层石墨方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top