专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]氟比洛芬巴布剂-CN201611108639.7有效
  • 杨红伟;姚永波;李斐菲 - 北京茗泽中和药物研究有限公司
  • 2016-12-06 - 2019-06-25 - A61K9/70
  • 氟比洛芬巴布剂,由背衬层、药物储库和保护层组成,所述药物储库由以下重量百分比的组分组成;作为活性成分的氟比洛芬0.2%~0.5%;油相成分5~10%,所述油相成分由质量比为1:0.2~0.3:0.2~0.3的癸酸甘油酯、油酸和平平加A‑20组成;氟比洛芬分散于油相成分中;作为水相成分的部分中和聚丙烯酸钠5‑10%,保湿剂20~40%,卡波姆980 0.5%~1.5%、羧甲基纤维素钠(CMC‑Na)1.5~
  • 洛芬巴布剂
  • [实用新型]可通用的显影盒-CN202021548152.2有效
  • 刘文焕 - 珠海精通打印耗材有限公司
  • 2020-07-30 - 2021-02-19 - G03G15/08
  • 本实用新型涉及可通用的显影盒,该显影盒可拆卸地安装在电子照相成像设备中,包括壳体、可旋转地安装在壳体中的显影件、以及位于壳体一个纵向末端的导电支架;所述导电支架包括支架体以及与支架体连接的可变形适配体,所述适配体可根据显影盒所安装的电子照相成像设备型号发生变形,而使得显影盒能够适用多种型号的电子照相成像设备。
  • 通用显影
  • [发明专利]相成膜装置-CN201410512506.0有效
  • 须田昇;大石隆宏;米野纯次;卢柏菁;薛士雍;钟步青 - 汉民科技股份有限公司
  • 2014-09-29 - 2017-04-12 - C23C16/00
  • 本发明提供一种可以较少气体消耗量同时实现高挥发成分元素分压、较快流速以及和缓的成膜速度曲线的三要素的成膜装置。反应器构造是由圆板状晶座、基板自转公转的部件、对向于该圆板状晶座的对向面形成构件、喷射部、材料气体的导入部以及气体排气部来加以构成。基板藉由基板保持构件(Wafer Holder)加以保持,基板保持构件被保持于圆板状晶座的承受部。圆板状晶座相对其中心轴旋转,同时基板会自转。对向面形成构件由于放射状地交互形成有扇形的凹部及凸部的构造,故流道高度会在周围方向改变。因此,可以较少载体气体流量实现与以往装置的最佳条件相同的成膜质量,可让挥发成分元素的材料气体分压较以往要大幅提高。
  • 相成装置

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