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[发明专利]一种电解蚀刻装置-CN201910829069.8在审
发明人：刘建波;朱爱明;吴志鹏 -专利权人：昆山东威科技股份有限公司
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： C25F3/02 文献下载
摘要：本发明属于电解蚀刻领域，用于提供一种便于控制蚀刻速度的电解蚀刻装置，其技术方案要点包括：一种电解蚀刻装置，包括反应单元，反应单元包括阴极、阳极、电解液，所述阳极用导电夹头连接待蚀刻件，所述待蚀刻件的待蚀刻部分浸没在电解液中，包括数段电解槽，阳极在各段电解槽之间移动，阴极与电解槽之间的相对位置保持不变，每段电解槽内的电流大小各自对应控制不同蚀刻量。适用于蚀刻工况，能够通过逐步蚀刻同一块待蚀刻板来达到降低一次性蚀刻过多的风险。
蚀刻电解槽阳极阴极电解蚀刻装置反应单元电解液技术方案要点一次性蚀刻导电夹头电解蚀刻位置保持浸没蚀刻量刻板移动

[实用新型]一种电解蚀刻装置-CN201921456338.2有效
发明人：刘建波;朱爱明;吴志鹏 -专利权人：昆山东威科技股份有限公司
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： C25F3/02 文献下载
摘要：本实用新型属于电解蚀刻领域，用于提供一种便于控制蚀刻速度的电解蚀刻装置，其技术方案要点包括：一种电解蚀刻装置，包括反应单元，反应单元包括阴极、阳极、电解液，所述阳极用导电夹头连接待蚀刻件，所述待蚀刻件的待蚀刻部分浸没在电解液中，包括数段电解槽，阳极在各段电解槽之间移动，阴极与电解槽之间的相对位置保持不变，每段电解槽内的电流大小各自对应控制不同蚀刻量。适用于蚀刻工况，能够通过逐步蚀刻同一块待蚀刻板来达到降低一次性蚀刻过多的风险。
一种电解蚀刻装置

[发明专利]一种PI蚀刻液电解再生系统-CN202011319777.6在审
发明人：方磊;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 -专利权人：江苏上达电子有限公司
申请日： 2020-11-23 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本发明涉及一种PI蚀刻液电解再生系统，属于蚀刻液电解技术领域。包括PI蚀刻液储槽、泵、过滤器和电解再生装置，所述的过滤器设置在PI蚀刻液储槽底部循环PI蚀刻液储槽内的PI蚀刻液，所述的电解再生装置设置在PI蚀刻液储槽的一侧，电解再生装置与PI蚀刻液储槽相通，PI蚀刻液储槽内的PI蚀刻液从PI蚀刻液储槽的槽体底部通过泵抽至电解再生装置内，电解再生装置电解再生后将PI蚀刻液再抽回PI蚀刻液储槽。本发明的有益效果是：本发明通过电解再生装置，提高药液中高锰酸根离子浓度，延长药液寿命，节省药水成本；减少药液使用，将产生的无用成分回收利用，减少废液产生，减少环境污染，降低废水处理成本。
一种 pi 蚀刻电解再生系统

[实用新型]一种PI蚀刻液电解再生系统-CN202022722802.7有效
发明人：方磊;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 -专利权人：上达电子（深圳）股份有限公司
申请日： 2020-11-23 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种PI蚀刻液电解再生系统，属于蚀刻液电解技术领域。包括PI蚀刻液储槽、泵、过滤器和电解再生装置，所述的过滤器设置在PI蚀刻液储槽底部循环PI蚀刻液储槽内的PI蚀刻液，所述的电解再生装置设置在PI蚀刻液储槽的一侧，电解再生装置与PI蚀刻液储槽相通，PI蚀刻液储槽内的PI蚀刻液从PI蚀刻液储槽的槽体底部通过泵抽至电解再生装置内，电解再生装置电解再生后将PI蚀刻液再抽回PI蚀刻液储槽。本实用新型的有益效果是：本实用新型通过电解再生装置，提高药液中高锰酸根离子浓度，延长药液寿命，节省药水成本；减少药液使用，将产生的无用成分回收利用，减少废液产生，减少环境污染，降低废水处理成本。
一种 pi 蚀刻电解再生系统

[发明专利]酸性蚀刻液在线电解回收装置及蚀刻液再生方法-CN201110130675.4无效
发明人：赵国鹏;钟洪胜;徐海清;陈力格;袁国伟;曾振欧;胡耀红 -专利权人：广州鸿葳科技股份有限公司;广州市二轻工业科学技术研究所
申请日： 2011-05-19 - 公布日： 2011-10-05 - 主分类号： C25C1/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种酸性蚀刻液在线电解回收装置及一种酸性蚀刻液在线电解再生方法，先将酸性蚀刻液导入电解槽和调整槽，酸性蚀刻液经调整槽导入蚀刻机，将蚀刻废液导入阴、阳极液储存槽，电解槽阴极室电解得到阴极液及附着在阴极管上的金属铜，阳极室电解得到阳极液，电解槽阴、阳极室电解液则分别由阴、阳极液储存槽补充，调整槽内酸性蚀刻液用完后，将电解槽电解得到的阴极液与阳极液混合进入调整槽，继续用于蚀刻机工作，并取出阴极管，将电解铜剥落。本发明可以达到与蚀刻机对接在线的工作状态，形成闭路循环，大大节约蚀刻液成本又可以回收金属铜，铜离子再生电效≥98％，阴极沉积回收铜效率≥95％，铜纯度高于99％。
酸性蚀刻在线电解回收装置再生方法

[发明专利]蚀刻废液中铜回收及再生方法-CN202110875914.2在审
发明人：李豪;姜伟 -专利权人：宏俐（汕头）电子科技有限公司
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：一种蚀刻废液中铜回收及再生方法，包括以下步骤：对酸性蚀刻废液及碱性蚀刻废液进行分类收集，分别对酸性蚀刻废液及碱性蚀刻废液进行预处理操作；将预处理后的酸性蚀刻废液加入第一电解槽中，并通入直流电，进行电解操作；将预处理后的碱性蚀刻废液加入第二电解槽中，并通入直流电，进行电解操作；向第一电解后液中加入第一补充剂，得到再生酸性蚀刻液；向第二电解后液中加入第二补充剂，得到再生碱性蚀刻液。通过先对酸性蚀刻废液及碱性蚀刻废液进行预处理操作，有利于保证电解操作的正常进行，可以大大提高电解得到的铜的纯度，可以分别得到再生酸性蚀刻液及再生碱性蚀刻液，实现酸性蚀刻废液及碱性蚀刻废液的再生利用，工艺简单
蚀刻废液回收再生方法

[实用新型]一种蚀刻液电解液回收装置-CN201920708291.8有效
发明人：周建新;戴中辉;关家彬;叶保基;郑健成 -专利权人：广东德同环保科技有限公司
申请日： 2019-05-16 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本实用新型涉及蚀刻液电解液回收技术领域，特别是一种蚀刻液电解液回收装置，通过设置回收容器和第一连接管，第一连接管的一端连接有回收容器，另一端连接有正极框，其中正极框为蚀刻液电解回收系统中用于放置正极板的框架，通过管路连接将蚀刻液电解液的回收位置设置在正极框上，由于正极框内的蚀刻液电解氧化性远大于正极框外的蚀刻液电解液氧化性，即在蚀刻液电解过程中正极将产生大量氯气，部分氯气溶于蚀刻液电解液中，因此通过这种结构回收的蚀刻液电解液具有高强度氧化性，用这种结构替换传统的将回收容器连接在负极缸进行回收，提高了蚀刻液电解液的回收效果，解决了现有回收中蚀刻液电解液氧化性较低导致的回收效果低的问题。
一种蚀刻电解液回收装置

[发明专利]一种碱性蚀刻废液电解回用的方法-CN202010088635.7有效
发明人：叶旖婷 -专利权人：叶旖婷
申请日： 2020-02-12 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：一种碱性蚀刻废液电解回用的方法，包括以下步骤：(1)将碱性蚀刻废液/或碱性蚀刻废液与还原剂的混合液作为阳极电解液，加入所述的阳极区中；将碱性蚀刻废液与还原剂的混合液作为阴极电解液，加入所述的阴极区中；(2)启动所述的电解电源进行电解作业，在所述的电解阴极上析出金属铜；(3)按照具体的碱性蚀刻工艺，向步骤(2)电解作业过后的阳极液和/或阴极液中加入氯化铵、氨、水和其他碱性蚀刻液所含成分中的一种或多种，配制成可重新利用于碱性蚀刻生产线上的再生碱性蚀刻子液该方法能提高电解析出铜的效率，且废液经电解回用后可以配制成能保持理想的蚀刻效果的再生碱性蚀刻子液。
一种碱性蚀刻废液电解方法

[发明专利]一种微蚀刻液的再生循环装置-CN201711453755.7在审
发明人：罗宝奎;陈永江 -专利权人：广州市吉池环保科技有限公司
申请日： 2017-12-28 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：一种微蚀刻液的再生循环装置，包括与微蚀刻生产线连通的蚀刻废液槽以及，用于输送再生蚀刻液至微蚀刻生产线的再生调配槽；所述蚀刻废液槽与电解槽连通，所述电解槽与所述再生调配槽连通。该微蚀刻液的再生循环装置采用直接电解的生产工艺，将微蚀刻废液直接加入到电解槽中进行电解，将废液中的铜离子分离出来，经过电沉积后形成高纯电解铜板；降低铜离子浓度的电解液经调整参数后返回微蚀刻生产线使用，实现微蚀刻废液的循环再生
微蚀刻再生循环装置微蚀刻液电解槽废液连通蚀刻废液调配槽铜离子环保型系统再生蚀刻液再生电解铜板调整参数废物排放循环再生直接电解电沉积电解液高纯生产工艺电解废气废水返回封闭

[实用新型]一种酸性蚀刻液回收装置-CN201620850101.2有效
发明人：李建光 -专利权人：深圳市泓达环境科技有限公司
申请日： 2016-08-05 - 公布日： 2017-04-19 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本实用新型适用于蚀刻组合物的再生领域，提供了一种酸性蚀刻液回收装置，包括酸性蚀刻液废液贮存装置、用于对贮存的酸性蚀刻液废液进行电解处理的电解装置及用于回收所述电解装置进行电解处理后产生的酸性蚀刻再生液的酸性蚀刻液再生装置，所述酸性蚀刻液废液贮存装置、所述电解装置及所述酸性蚀刻液再生装置顺次连接，所述酸性蚀刻液回收装置还包括用于回收所述电解装置产生的氯气的氯气回收装置，所述氯气回收装置分别与所述电解装置、所述酸性蚀刻液再生装置连接本实用新型提供的一种酸性蚀刻液回收装置，通过氯气回收装置的使用，将电解过程中产生的氯气回收利用。这不仅解决了氯气排放问题，而且实现了对所产生的氯气的回收。
一种酸性蚀刻回收装置

[发明专利]一种电解蚀刻制备PCB精细线路的电解蚀刻液-CN201810601741.3在审
发明人：付登林;陈际达;鲁蓝锶;文亚男;鄢婷;廖超慧;盛利召;覃新 -专利权人：江苏博敏电子有限公司;重庆大学
申请日： 2018-06-12 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： C25F3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种电解蚀刻法制备PCB精细线路的电解蚀刻液，其电解蚀刻液组成为：无水氯化铜、盐酸、有机添加剂和水。其中以氯化铜和盐酸作为基础电解质，通过加入有机添加剂来提升电解蚀刻制备出的精细线路的质量，有机添加剂在电解蚀刻的过程中主要是用来抑制线路的侧蚀作用。通过在基础电解蚀刻液中加入有机添加剂，电解蚀刻制备出的PCB精细线路的质量得到极大提高。该电解蚀刻液组成简单，各组分浓度较低，尤其是加入的添加剂含量很低，对环境的污染小。
电解蚀刻液电解蚀刻有机添加剂精细线路制备氯化铜盐酸基础电解质生产效率侧蚀无水添加剂污染

[发明专利]一种酸性蚀刻液再生循环装置-CN201711453595.6在审
发明人：罗宝奎;陈永江 -专利权人：广州市吉池环保科技有限公司
申请日： 2017-12-28 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：一种酸性蚀刻液的再生循环装置，包括顺序连接的酸性蚀刻线（DES）、蚀刻废液槽和电解槽，所述酸性蚀刻线与酸雾吸收缸连通，所述蚀刻废液槽收集酸性蚀刻线（DES）产生的废液，并将其输送至电解槽中，所述电解槽将废液电解，将废液中的铜离子转化为电解铜板，同时将废液中的氯离子氧化为氯气，所述酸雾吸收缸收集电解槽中的废液，并与电解槽中产生的氯气发生反应，得到再生蚀刻液。本发明提供的方法使再生蚀刻液的回用率可以达到100%，减少约80%的盐酸和氧化剂的添加，大大降低了物料成本。
电解槽废液酸性蚀刻再生循环装置酸性蚀刻液再生蚀刻液氯气蚀刻废液酸雾吸收氧化剂电解铜板顺序连接物料成本氯离子铜离子电解盐酸连通转化

[发明专利]酸性蚀刻废液的再生方法及系统-CN202010249814.4在审
发明人：刘阳;胡波 -专利权人：健鼎(湖北)电子有限公司
申请日： 2020-04-01 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种酸性蚀刻废液的再生方法及系统，涉及酸性蚀刻废液处理领域。该方法的步骤包括：提供酸性蚀刻废液，酸性蚀刻废液包括铜离子、亚铜离子和氯离子；将酸性蚀刻废液进行电解反应，形成电解再生液和氯气，电解反应的过程包括：将酸性蚀刻废液中的部分亚铜离子转变为铜离子，将部分氯离子转变为氯气，将部分铜离子转变为铜金属；将电解反应得到的氯气与电解再生液反应，使电解再生液中的亚铜离子转变为铜离子后，形成再生酸性蚀刻液。本发明能够达到回收酸性蚀刻废液中的铜、以及再生酸性蚀刻废液的双重目的。
酸性蚀刻废液再生方法系统

[实用新型]提高酸性蚀刻液再生回用率的系统-CN201920540358.1有效
发明人：刘剑锋;高东瑞;李强 -专利权人：惠州市臻鼎环保科技有限公司
申请日： 2019-04-19 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本实用新型揭示一种提高酸性蚀刻液再生回用率的系统，其包括蚀刻产线、电解装置、添加装置、再生液调配装置以及再生液ORP提升装置，蚀刻产线的富铜酸性蚀刻废液经电解装置电解后成氯气和贫铜电解清液，贫铜电解清液与蚀刻产线的低ORP酸性蚀刻液混合形成再生酸性蚀刻液，再生液ORP提升装置对酸性蚀刻液进行逆流喷射，并与氯气碰撞，获得高ORP酸性蚀刻再生液再返回蚀刻产线。本申请通过再生液ORP提升装置的设置，获得高ORP酸性蚀刻再生液再返回蚀刻产线，以提高蚀刻产线上酸性蚀刻液的ORP，替代了传统蚀刻产线添加氧化剂与盐酸的方式，提高了蚀刻废液的再生回用率，降低了化学剂的使用和废水的排放
蚀刻产线酸性蚀刻液再生液提升装置电解酸性蚀刻再生液氯气电解装置再生贫铜清液化学剂酸性蚀刻废液氧化剂本实用新型调配装置逆流喷射蚀刻废液添加装置返回盐酸废水排放替代申请

[发明专利]电解反应控制结构及其应用的电解装置-CN201910829046.7在审
发明人：朱爱明;刘建波;吴志鹏 -专利权人：昆山东威科技股份有限公司
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本发明属于电解蚀刻装置领域，具体涉及一种电解反应控制结构及其应用的电解装置。一种电解反应控制结构，包括液位计，设于电解液中，用于测量电解液液面高度并在所述液面高度低于预设高度时发出补液信号；控制结构，用于接收所述液位计发出的补液信号并控制泵浦补给电解液；遮蔽结构，包括遮蔽单元，设于阴极件的端部和待蚀刻件端部之间,以减缓所述阴极件端部与所述待蚀刻件端部之间的电解液流动速度，所述待蚀刻件与阳极导线连接。液位计令电解液始终在要求范围内，降低因电解液液面太低而停止待蚀刻件顶部的反应的风险；在电解液始终充裕的前提下，再通过减弱待蚀刻件顶部和底部的电力线边缘效应，令整个待蚀刻件上的蚀刻效果趋于均匀。
蚀刻电解液控制结构液位计电解反应阴极件补液液面电解蚀刻装置测量电解液电解液流动电解液液面边缘效应电解装置阳极导线遮蔽单元遮蔽结构电力线控制泵预设补给应用

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