专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]沉积系统-CN202211511225.4在审
  • 沈亦佳;罗志福;梁积新;吴宇轩;于宁文;赵婧妍 - 中国原子能科学研究院
  • 2022-11-29 - 2023-03-31 - C25D19/00
  • 本发明的实施例提供一种沉积系统沉积系统包括:沉积液容器,用于盛放电沉积液;阳极支撑件,设置于沉积液容器上并部分覆盖沉积液容器的开口,阳极支撑件用于支撑沉积系统的阳极;阴极支撑装置,设置于沉积液容器的上方,用于支撑多个阴极;电源,与阳极和阴极连接,用于为阳极和阴极供电;沉积液调节组件,与沉积液容器连接,用于监测并调节电沉积液的酸性。本发明的实施例提供的沉积系统,设置有沉积液调节组件,沉积液调节组件可以对沉积液的酸性进行监测并调节,使沉积液的酸性维持在预定范围,以减少氢氧化物在电极上的沉积
  • 沉积系统
  • [发明专利]沉积系统-CN202211511230.5在审
  • 沈亦佳;罗志福;梁积新;吴宇轩;于宁文;葛丁 - 中国原子能科学研究院
  • 2022-11-29 - 2023-03-03 - C25D17/00
  • 本发明的实施例提供一种沉积系统沉积系统包括:沉积液容器,沉积液容器的上部开口,沉积容器用于盛放电沉积液;加热容器,沉积容器设置于加热容器内,加热容器内盛放有加热介质,加热容器被设置成加热该加热介质以加热电沉积液;阳极支撑件,设置于沉积液容器上并部分覆盖沉积液容器的开口,阳极支撑件用于支撑沉积系统的阳极;至少一个阴极支撑装置,设置于沉积液容器的上方,用于支撑多个阴极,阴极支撑装置被设置成控制多个阴极旋转。本发明的实施例提供的沉积系统,通过阴极支撑装置控制多个阴极旋转,多个阴极旋转能够增加沉积液的扰动,使沉积液中的浓度分布更加均匀。
  • 沉积系统
  • [发明专利]沉积系统-CN202211510474.1在审
  • 沈亦佳;罗志福;梁积新;于宁文;吴宇轩 - 中国原子能科学研究院
  • 2022-11-29 - 2023-03-14 - C25D17/02
  • 本发明的实施例提供一种沉积系统沉积系统包括:沉积液容器,用于盛放具有放射性的沉积液;阳极支撑件,设置于沉积液容器上并部分覆盖沉积液容器的开口,阳极支撑件用于支撑沉积系统的阳极;阴极支撑装置,设置于沉积液容器的上方,用于支撑多个阴极其中,沉积容器、阳极支撑件以及阴极支撑装置设置于腔室内,电源设置于腔室外。本发明的实施例提供的沉积系统,将沉积容器、阳极支撑件以及阴极支撑装置设置在腔室内,以防止沉积液对操作人员造成的损害。
  • 沉积系统
  • [发明专利]沉积系统-CN200810037271.9有效
  • 马悦;何川;逄振旭;施广涛;夏杰旭;N.纳其;王晖 - 盛美半导体设备(上海)有限公司
  • 2008-05-12 - 2009-11-18 - C25B9/00
  • 具有三维堆叠结构的沉积系统,包含用于接收晶圆的工厂接口,包含主框架传送机械手和多个置于其上的晶圆固持装置的主框架,多个置于主框架中的电镀单元,多个置于主框架中低于电镀单元位置的清洗单元,多个置于主框架和工厂接口之间的热处理腔,与电镀单元和清洗单元相连的流体分配系统,主框架传送机械手在工厂接口,电镀单元,清洗单元和热处理腔之间传送晶圆。因此,本发明系统在扩展增加新的工艺单元时不需过多增加占地面积。
  • 沉积系统
  • [发明专利]一种消泡、调距和实时送料的沉积革新装置-CN202110069512.3在审
  • 王剑;邹睿卿;唐健斌 - 西华大学
  • 2021-01-19 - 2021-05-07 - C25D17/00
  • 本发明涉及一种沉积装置,尤其涉及一种消泡、调距和实时送料的沉积革新装置,其包括送料系统、间距调节系统沉积系统和阴极系统,其特征在于:送料系统由滚轮夹具、阳极和固定模块组成;间距调节系统由横向度量尺和可视化移动模块组成;沉积系统沉积槽、沉积槽柱、红外发射器和红外接收器组成;阴极系统由避震器、线性马达、固定夹具和阴极组成。本发明设计的消泡、调距和实时送料的沉积革新装置不仅能及时清除阴极表面的气泡以提高沉积效率和沉积涂层质量,而且可实现阴阳极间距实时可调以获得具有特殊要求的结构梯度涂层,同时可对消耗的阳极进行实时补充以保障稳定的阴阳极面积比和稳定的沉积溶液离子浓度
  • 一种实时沉积革新装置
  • [发明专利]一种电泳沉积系统及制备锂离子电池硅基负极材料的方法-CN201610056922.3在审
  • 肖冰 - 南通彩都新能源科技有限公司
  • 2016-01-27 - 2016-05-25 - C25D13/02
  • 一种电泳沉积系统及制备锂离子电池硅基负极材料的方法。本发明公开了一种电泳沉积系统,为卷对卷连续式操作系统,包括电泳沉积系统、分别与电泳沉积系统相连通的供料系统和材料回收系统,以及电控系统,其中供料系统,提供电泳液;电泳沉积系统,包括沉积池,在所述沉积池上设有放卷口和收卷口,所述放卷口和收卷口设有滑轮,所述滑轮用于传送铜箔基材,所述铜箔基材为工作电极,连接电源正极;材料回收系统,回收电泳沉积完成后的电泳液;电控系统,连接控制电泳沉积系统的运转。利用本发明所述电泳沉积系统可以实现锂离子电池硅基负极材料制备的连续性,工艺流程简单,机械化程度高,适用于工业的大批量生产。
  • 一种电泳沉积系统制备锂离子电池负极材料方法
  • [发明专利]一种电化学加工三维金属微结构的系统与方法-CN201610170808.3有效
  • 张新民;李欣潮;明平美;张晓东;秦歌;陈月涛;赵云龙;张艳华;赵晨昊 - 河南理工大学
  • 2016-03-24 - 2017-11-10 - C25D5/08
  • 本发明专利公开一种电化学加工三维金属微结构的系统与方法,属于微细特种加工领域。该系统包括沉积系统、电解子系统和导电基底。沉积系统包括喷头和沉积电源。电解子系统包括阴极(横梁阴极、左侧阴极和右侧阴极)和电解加工电源。沉积电源负极和电解加工电源正极都连接于导电基底,沉积电源正极与喷头连接,电解加工电源负极与阴极连接。基于该系统,先通过射流电沉积加工在基底上沉积出一层金属,再用阴极对已沉积金属表面进行电化学溶解加工,以去除其表面积瘤、毛刺等缺陷,接着再沉积金属,然后对新金属层电解加工……如此交替进行,直到达到加工要求本发明结构简单,操作容易,成本低,能较好地解决射流沉积层存在的问题。
  • 一种电化学加工三维金属微结构系统方法
  • [实用新型]一种电化学加工三维金属微结构的系统-CN201620229998.7有效
  • 张新民;李欣潮;明平美;张晓东;秦歌;陈月涛;赵云龙;张艳华;赵晨昊 - 河南理工大学
  • 2016-03-24 - 2016-08-17 - C25D5/08
  • 本实用新型涉及一种电化学加工三维金属微结构的系统,属于微细特种加工领域。该系统包括沉积系统、电解子系统和导电基底。沉积系统包括喷头和沉积电源。电解子系统包括阴极(横梁阴极、左侧阴极和右侧阴极)和电解加工电源。沉积电源负极和电解加工电源正极都连接于导电基底,沉积电源正极与喷头连接,电解加工电源负极与阴极连接。基于该系统,先通过射流电沉积加工在基底上沉积出一层金属,再用阴极对沉积金属表面进行电化学溶解加工,以去除其表面积瘤、毛刺等缺陷,接着再沉积金属,然后对新金属层电解加工……如此交替进行,直到达到加工要求。本实用新型结构简单,操作容易,成本低,能较好地解决射流电沉积层所存在的问题。
  • 一种电化学加工三维金属微结构系统
  • [发明专利]沉积涂料回收系统-CN201080005415.8有效
  • 有森芳郎;金子年秋;麻薙幸雄 - 旭化成化学株式会社
  • 2010-01-28 - 2011-12-21 - C25D13/24
  • 本发明的目的在于提供一种沉积涂料回收系统。该沉积涂料回收系统即使在沉积涂敷中减少滤膜过滤滤液多级回收水洗工序的段数,也不会增加沉积涂料的损失。本发明的沉积涂料回收系统沉积浴液的滤膜过滤滤液供给到滤膜过滤滤液多级回收水洗槽的最后一级水洗槽,其特征在于,将对该最后一级水洗槽液进行滤膜过滤得到的滤液供给到该最后一级水洗槽,将浓缩液供给到沉积浴及
  • 沉积涂料回收系统
  • [发明专利]电解液真空沸腾式高速沉积方法及装置-CN201010198012.1无效
  • 明平美;姜无疾;郑建新;李英杰;吕印定;王艳丽;李松昭 - 河南理工大学
  • 2010-06-11 - 2010-10-27 - C25D5/00
  • 一种电解液真空沸腾式高速沉积方法,包括如下步骤:a.将阳极和阴极固定于沉积槽中,向沉积槽中加入适量无添加剂的电解液,然后将沉积槽密封,开启电解液循环过滤系统、电解液状态观测系统,启动电解液温控系统和阴极面温控系统并分别控制槽内电解液体液温度为25~40℃,阴极表面温度为55~70℃;b.启动沉积槽真空度控制系统,对沉积槽进行抽气,并调节槽内真空度,使贴近阴极面表层的电解液沸腾;c.开启电源进行沉积,至镀层达到所要求厚度。本发明还公开了实施上述沉积方法的装置。采用本发明方法可以在无添加剂的情况下快速沉积出缺陷少、晶粒细、致密性好、表面光整的镀层或零件。本发明适用于电镀、电铸和电刷镀等常规与微细加工场合。
  • 电解液真空沸腾高速沉积方法装置
  • [发明专利]阳离子沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂-CN201410092974.7无效
  • 新井重文;渡边慎也;越智克树 - 日本曹达株式会社
  • 2009-11-02 - 2014-06-25 - A01N43/80
  • 本发明提供一种不需要杀菌·抗菌处理装置或用于连续添加的机构等繁琐的工序也能在沉积涂覆系统中持续杀菌·抗菌的杀菌·抗菌剂。具体而言,本发明提供由含有1,2-苯并异噻唑啉-3-酮的药片或药块形成的阳离子沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂、或者将1,2-苯并异噻唑啉-3-酮收纳在通水性容器中而形成的阳离子沉积涂覆系统用缓释性杀菌另外,本发明提供一种阳离子沉积涂料、电极液或清洗水的杀菌·抗菌方法,包括:将所述杀菌·抗菌剂放入阳离子沉积涂覆系统沉积槽、沉积涂料贮槽、电极液贮槽、浸渍清洗槽、清洗水贮槽等,浸到阳离子沉积涂料、电极液或清洗水中或者置于阳离子沉积涂料、电极液或清洗水的流通下,使1,2-苯并异噻唑啉-3-酮在阳离子沉积涂料、电极液或清洗水中缓慢地溶解。
  • 阳离子沉积系统用缓释性杀菌抗菌剂
  • [发明专利]阳离子沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂-CN200980142178.7无效
  • 新井重文;渡边慎也;越智克树 - 日本曹达株式会社
  • 2009-11-02 - 2011-09-21 - A01N43/80
  • 本发明提供一种不需要杀菌·抗菌处理装置或用于连续添加的机构等繁琐的工序也能在沉积涂覆系统中持续杀菌·抗菌的杀菌·抗菌剂。具体而言,本发明提供由含有1,2-苯并异噻唑啉-3-酮的药片或药块形成的阳离子沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂、或者将1,2-苯并异噻唑啉-3-酮收纳在通水性容器中而形成的阳离子沉积涂覆系统用缓释性杀菌另外,本发明提供一种阳离子沉积涂料、电极液或清洗水的杀菌·抗菌方法,包括:将所述杀菌·抗菌剂放入阳离子沉积涂覆系统沉积槽、沉积涂料贮槽、电极液贮槽、浸渍清洗槽、清洗水贮槽等,浸到阳离子沉积涂料、电极液或清洗水中或者置于阳离子沉积涂料、电极液或清洗水的流通下,使1,2-苯并异噻唑啉-3-酮在阳离子沉积涂料、电极液或清洗水中缓慢地溶解。
  • 阳离子沉积系统用缓释性杀菌抗菌剂

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