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- [发明专利]电子束照射设备和方法-CN00809466.7无效
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内藤仪彦
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株式会社荏原制作所
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2000-06-30
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2002-07-10
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B01D53/00
- 一种电子束照射设备采用电子束照射燃烧废气以从废气中去除有毒成分。电子束照射设备包括用于发射电子的电子束源(12)、用于将从电子束源发射的电子加速的加速管(13)、通过将磁场施加到加速管(13)中形成高能量的电子束以控制电子束直径的聚焦电磁铁(16)、通过将磁场施加到电子束以偏转和扫描电子束的电磁铁(17、18)、以及允许电子束从那里经过的照射窗口(20)。电子束由聚焦电磁铁(16)聚焦在聚焦点,使得电子束收敛一次并且随后发散,然后经过照射窗口(20)向外发射。
- 电子束照射设备方法
- [发明专利]电子束杀菌装置-CN201010530627.X有效
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西纳幸伸;林正己;洲崎茂;阿部亮
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涩谷工业株式会社
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2010-10-28
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2011-06-01
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B65B55/08
- 本发明涉及一种电子束杀菌装置。本发明涉及通过电子束照射区域，判断照射到树脂制瓶的电子束的量是否合适的装置，其包括从照射窗照射电子束的电子束照射装置和运送树脂制瓶的瓶运送装置，对在运送到照射窗的前面的树脂制瓶，照射电子束进行杀菌。在照射窗的前方，按照与该照射窗面对的方式，设置束流收集器。该束流收集器通过绝缘体在电绝缘的状态被支承。通过电流测定机构，测定照射电子束而流过该束流收集器的电流，通过比较机构，与规定的基准值进行比较，通过判断机构判断照射量是否合适。在不合适时，通过指令机构的指示，排除机构取下该树脂制瓶和前后的树脂制瓶。
- 电子束杀菌装置
- [发明专利]电子束曝光装置-CN200510080007.X无效
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藤田盐地;近禅;杉山寿纪;井户宽
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日立麦克赛尔株式会社
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2005-06-24
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2006-03-15
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G11B7/26
- 提供抑制了电子束的变动的电子束曝光装置以及电子束曝光方法。本发明的电子束曝光装置(100)，通过在旋转形成保护层(resist)的圆形衬底(16)的状态下照射电子束(3)来进行曝光。该电子束曝光装置(100)，具有：聚焦由电子枪(2)发射的电子束3的聚光透镜(4)、限制通过了聚光透镜(4)的电子束的电流控制窗孔(5)和使被电流控制窗孔(5)所限制过的电子束大致平行的照射透镜(6)。并且，通过根据圆形衬底(16)上的照射位置改变聚光透镜(4)的聚光度，来控制电子束的电流。
- 电子束曝光装置
- [发明专利]电子束照射装置-CN201911070879.6在审
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安力川诚
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株式会社选良
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2019-11-05
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2020-07-07
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G21K5/00
- 技术问题：提供一种对水中的对象物也能够照射电子束的电子束照射装置。解决方案：加速管(11)具有：设置为使在电子枪(12)中生成的电子束加速的加速空间(21)、以及设置为能够使在加速空间(21)中加速的电子束向外部照射的照射口(22)。电子束照射装置构成为，使从氢气供给单元(13)向加速空间(21)供给的氢气(32)从照射口(22)放出，并且使从照射口(22)照射的电子束在从照射口(22)放出的氢气(32)中通过。
- 电子束照射装置
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