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- [发明专利]自吸气电子场致发射体及其制造工艺-CN98812141.7无效
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迈克尔D·波特
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先进图像技术公司
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1998-12-11
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2001-01-24
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H01J1/02
- 自吸气电子场致发射体(30)具有用于电子发射的低功函数材料形成的第一部分(40),和用作低电阻导电体和用作吸气表面的成一体的第二部分(50)。通过平行于衬底设置低功函数材料的薄膜,和通过平行于衬底且与低功函数材料薄膜接触地设置低电阻吸气材料薄膜,形成自吸气发射体(30)。自吸气发射体(30)特别适用于横向场致发射器件(10)。优选的发射体结构具有逐渐变细的边缘(60),该边缘具有超过吸气和低电阻材料边缘(55)延伸一小段距离的低功函数材料的突出部分(45)。制造工艺(S1-S6)本身特别适于形成自吸气电子场致发射体同时制造微电子场致发射器件。
- 吸气电子发射及其制造工艺
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