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- [发明专利]两用抛光机-CN202210608758.8在审
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向城;刁宇新;叶知春
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东莞市金太阳精密技术有限责任公司
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2022-05-31
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2022-08-12
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B24B27/00
- 本发明涉及抛光机技术领域，尤其是指一种两用抛光机，其包括电化学抛光装置和打磨抛光装置，所述电化学抛光装置包括储液盒、转动机构和工件定位机构，所述储液盒设置有开口，所述转动机构包括第一转轴、第一转轴座和翻转座，所述工件定位机构安装在所述翻转座，所述工件定位机构包括工件放置台，所述翻转座能够带动所述工件放置台由水平状态翻转至竖直状态，所述打磨抛光装置包括磨头安装位，所述电化学抛光装置和所述打磨抛光装置的相对位置能够改变将工件放置到所述工件放置台上，所述工件放置台将工件先进行电化学抛光后直接进行机械式抛光，两种抛光作业连续完成，工件无需转移更换设备，有效保证抛光质量，同时提升效率。
- 两用抛光机
- [实用新型]两用抛光机-CN202221350280.5有效
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向城;刁宇新;叶知春
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东莞市金太阳精密技术有限责任公司
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2022-05-31
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2022-10-04
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B24B27/00
- 本实用新型涉及抛光机技术领域，尤其是指一种两用抛光机，其包括电化学抛光装置和打磨抛光装置，所述电化学抛光装置包括储液盒、转动机构和工件定位机构，所述储液盒设置有开口，所述转动机构包括第一转轴、第一转轴座和翻转座，所述工件定位机构安装在所述翻转座，所述工件定位机构包括工件放置台，所述翻转座能够带动所述工件放置台由水平状态翻转至竖直状态，所述打磨抛光装置包括磨头安装位，所述电化学抛光装置和所述打磨抛光装置的相对位置能够改变将工件放置到所述工件放置台上，所述工件放置台将工件先进行电化学抛光后直接进行机械式抛光，两种抛光作业连续完成，工件无需转移更换设备，有效保证抛光质量，同时提升效率。
- 两用抛光机
- [发明专利]一种铝材化学抛光液及其抛光方法-CN202210258708.1有效
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陶国宏;朱秋红;张国浩;何玲
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四川大学
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2022-03-16
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2023-03-17
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C23F3/03
- 本发明公开一种铝材化学抛光液及其抛光方法，其中铝材化学抛光液由离子液体、添加剂和水混合配制而成，其使用方法为：先配制铝材化学抛光液，再对待抛光铝材进行化学抛光处理，最后对使用后的铝材化学抛光液进行回收处理；本发明通过对抛光液进行处理回收，并再次用于铝材抛光工序，实现反复循环使用，使用过程中不产生黄烟、刺激性气体等有毒物质，对人体和环境危害较小，同时，由于其可循环使用，实现了低排放、低污染，且抛光液使用较低浓度的离子液体组成，大部分由水组成，使用过程中明显减少了因铝材附着带出抛光液而导致流失的问题，抛光后续水洗槽中的溶液可以回收到抛光槽中，并用于铝材的化学抛光，既节约成本又避免对环境造成污染。
- 一种化学抛光及其抛光方法
- [发明专利]电化学抛光供液装置-CN201410190482.1有效
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代迎伟;金一诺;王坚;王晖
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盛美半导体设备(上海)有限公司
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2014-05-07
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2018-11-06
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C25F7/00
- 本发明揭示了一种电化学抛光供液装置，包括腔室、第一抛光液槽、第二抛光液槽、第一喷头、第二喷头及电源。腔室开设有排液口。第一抛光液槽盛有抛光液，第一抛光液槽与腔室的排液口连接。第二抛光液槽盛有抛光液。第一喷头的上端口设置在腔室内，第一喷头的下端口设置在第一抛光液槽内，第一喷头通过其上端口将第一抛光液槽内的抛光液喷射至待抛光晶圆的表面。第二喷头的上端口设置在腔室内，第二喷头的下端口设置在第二抛光液槽内，第二喷头通过其上端口将第二抛光液槽内的抛光液喷射至待抛光晶圆的外边缘。电源的阴极与第一喷头电连接，电源的阳极与第二喷头电连接。
- 电化学抛光装置
- [发明专利]一种抛光液循环处理设备-CN202310021974.7在审
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鲜明洪
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鲜明洪
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2023-01-07
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2023-04-07
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B24B57/02
- 本发明提出了一种抛光液循环处理设备，涉及电化学抛光液处理技术领域。包括机箱，机箱内设有用于对抛光液过滤的过滤组件，机箱内设有用于对抛光液消泡的消泡组件，机箱内设有用于对抛光液浓度调节的调节组件。本技术方案设置的抛光液循环处理设备将以往对抛光液的过滤、消泡以及浓度调节等步骤进行整合，集中设置于一台设置内，节约操作流程以及使用占地；本设备在使用时，设置的过滤组件、消泡组件以及调节组件可同时工作，其操作不相互影响，不互相干扰，实现抛光液的过滤除杂、消泡以及浓度调节；还可实现抛光液或切削液的浓度监测及温度监测功能，保证本设备在对抛光液或切削液进行处理时保证本设备正常运行。
- 一种抛光循环处理设备
- [实用新型]电化学抛光装置-CN202221349213.1有效
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向城;刁宇新;叶知春
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东莞市金太阳精密技术有限责任公司
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2022-05-31
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2022-11-18
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C25F3/16
- 本实用新型涉及抛光装置技术领域，尤其是指一种电化学抛光装置，其包括储液盒、转动机构和工件定位机构，储液盒设置有开口，转动机构包括翻转座、两个转轴和两个转轴座，工件定位机构安装在所述翻转座，工件定位机构包括旋转动力元件和工件放置台将工件放置到所述工件放置台上，所述翻转座翻转使所述工件放置台带动工件从水平状态翻转至竖直状态并伸入到所述开口，此时工件的一侧边浸入到所述储液盒内的电解液中，待一侧边电化学抛光完后，所述旋转动力元件驱动工件转动至第二个侧边继续进行电化学抛光，进而实现工件各个侧边的电化学抛光，无需重新拆装，提升作业效率。
- 电化学抛光装置
- [实用新型]电化学抛光装置-CN202122516575.7有效
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于丽
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楚天华通医药设备有限公司
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2021-10-19
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2022-06-14
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C25F3/16
- 本实用新型涉及一种电化学抛光装置、罐体的电化学抛光方法和罐体的制备方法。所述电化学抛光装置包括导电主轴、导线和电极网格；所述导电主轴用于电连接电源的负极，并能够通过绝缘材料安装于待抛光罐体的中轴线处，所述电极网格呈网格状，所述电极网格通过所述导线与所述导电主轴连接；所述电极网格能够悬挂于所述导电主轴和所述待抛光罐体的待抛光内表面之间，并能够与所述待抛光罐体及通入其内的电解液组成电解池。上述装置所需电解液量少，抛光效果好。
- 电化学抛光装置
- [发明专利]一种碳化硅晶片化学机械抛光装置-CN202210907823.7在审
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皮孝东;高月;杨德仁
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浙江大学
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2022-07-29
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2022-09-27
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B24B37/10
- 本发明涉及碳化硅抛光技术领域，一种碳化硅晶片化学机械抛光装置，包括抛光垫本体，所述抛光垫本体上固定磨粒层，磨粒层中的磨粒分布均匀；抛光液，所述抛光液包括芬顿试剂，用于对碳化硅晶片的表面氧化；驱动装置，所述驱动装置带动碳化硅晶片在磨粒层上进行抛光；电化学装置，所述电化学装置包括阳极和阴极，通过阳极和阴极与抛光液中的芬顿试剂构成电芬顿反应体系；抛光液补给装置。本发明中，抛光液采用芬顿试剂和水溶液，芬顿试剂提供亚铁离子与过氧化氢，在亚铁离子与过氧化氢参与反应减少后，通过电化学装置，实现芬顿试剂的循环使用，其次，磨粒层是沉积在抛光垫本体上，磨粒不会进入抛光液中。
- 一种碳化硅晶片化学机械抛光装置
- [实用新型]一种碳化硅晶片化学机械抛光装置-CN202222014989.4有效
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皮孝东;高月;杨德仁
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浙江大学
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2022-07-29
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2023-04-18
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B24B37/10
- 本实用新型涉及碳化硅抛光技术领域，一种碳化硅晶片化学机械抛光装置包括抛光垫本体，所述抛光垫本体上固定磨粒层，磨粒层中的磨粒分布均匀；抛光液，所述抛光液包括芬顿试剂，用于对碳化硅晶片的表面氧化；驱动装置，所述驱动装置带动碳化硅晶片在磨粒层上进行抛光；电化学装置，所述电化学装置包括阳极和阴极，通过阳极和阴极与抛光液中的芬顿试剂构成电芬顿反应体系；抛光液补给装置。本实用新型中，抛光液采用芬顿试剂和水溶液，芬顿试剂提供亚铁离子与过氧化氢，在亚铁离子与过氧化氢参与反应减少后，通过电化学装置，实现芬顿试剂的循环使用，其次，磨粒层是沉积在抛光垫本体上，磨粒不会进入抛光液中
- 一种碳化硅晶片化学机械抛光装置
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