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- [发明专利]清洁装置和图像形成装置-CN201110035096.1有效
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市川雄三;高山康夫
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富士施乐株式会社
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2011-02-09
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2011-12-28
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G03G21/00
- 本发明提供了清洁装置和图像形成装置。该清洁装置包括:清洁构件,该清洁构件被布置为能够沿充电装置的放电构件的长度方向移动并与充电装置的放电构件接触,并且清洁放电构件;引导构件,该引导构件沿放电构件的长度方向布置,并在放电构件的长度方向上引导清洁构件;以及驱动装置,当执行清洁操作或返回操作时,该驱动装置在清洁构件要开始移动的移动方向的相反方向上对清洁构件施加驱动力,随后在移动方向上对清洁构件施加驱动力,其中在清洁操作中,驱动装置沿引导构件从设置在放电构件的一个长度方向端部上的待机位置往复地移动清洁构件,在返回操作中,驱动装置将清洁构件沿引导构件返回到待机位置。
- 清洁装置图像形成
- [实用新型]清洁装置-CN202321232093.1有效
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樊泽宇;李瑶;樊泽洲
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深圳市好奇心探索科技有限公司
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2023-05-20
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2023-10-27
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A47L11/24
- 本实用新型适用于清洁设备领域,公开了一种清洁装置。清洁装置包括主清洁构件和导入构件,主清洁构件用于清洁待清洁面且用于传送垃圾;导入构件具有靠近待清洁面且与待清洁面之间间隙可调的导入部位,导入部位用于将待清洁面上的垃圾导送至主清洁构件或主清洁构件的工作区域本实用新型可以使得导入构件既能够把小体积的垃圾导送至主清洁构件或所述主清洁构件的工作区域,又能够将大体积的垃圾导送至主清洁构件或所述主清洁构件的工作区域,有效保证了清洁装置清扫待清洁面上垃圾的洁净效果。
- 清洁装置
- [发明专利]清洁装置和成像装置-CN200710186931.5有效
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粟屋哲郎
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佳能株式会社
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2007-11-15
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2008-05-28
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G03G21/00
- 本发明涉及清洁装置和成像装置,清洁设备包括:清洁刀片,其用于接触可旋转的图像承载构件并从所述图像承载构件清除调色剂;辅助清洁构件,其关于所述图像承载构件的旋转方向设置在所述清洁刀片的上游,用于帮助所述清洁刀片的清洁操作;以及片,其接触所述辅助清洁构件并接触所述清洁刀片远离所述图像承载构件的表面。成像装置包括:可旋转的图像承载构件;清洁刀片,其用于接触所述可旋转的图像承载构件并从所述图像承载构件清除调色剂;辅助清洁构件,其关于所述图像承载构件的旋转方向设置在所述清洁刀片的上游,用于帮助所述清洁刀片的清洁操作;片,其接触所述辅助清洁构件并接触所述清洁刀片远离所述图像承载构件的表面。
- 清洁装置成像
- [实用新型]清洁装置-CN202321232938.7有效
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樊泽宇;李瑶;樊泽洲
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深圳市好奇心探索科技有限公司
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2023-05-20
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2023-10-27
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A47L11/24
- 本实用新型适用于清洁设备领域,公开了一种清洁装置,包括回收容器、主清洁构件和导入构件,回收容器用于收集垃圾;主清洁构件用于将垃圾传送至回收容器;导入构件沿清洁装置的移动方向设于主清洁构件的前方,且导入构件形成有导入斜面,导入斜面从导入构件靠近待清洁面的端部沿逐渐远离主清洁构件和待清洁面的方向延伸,以用于将待清洁面上的垃圾导送至主清洁构件或主清洁构件的工作区域。本实用新型提供的清洁装置,通过导入斜面的导引作用,可以使得导入构件既能够把小体积的垃圾导送至主清洁构件,又能够将大体积的垃圾导送至主清洁构件,进而有效保证了清洁装置清扫待清洁面上垃圾的洁净效果。
- 清洁装置
- [实用新型]清洁装置-CN202321238997.5有效
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樊泽宇;李瑶;樊泽洲
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深圳市好奇心探索科技有限公司
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2023-05-20
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2023-10-27
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A47L11/24
- 本实用新型适用于清洁设备领域,公开了一种清洁装置,包括主机架、主清洁带构件和导入构件;主清洁带构件安装于主机架上以用于清洁待清洁面和传送垃圾;导入构件与主清洁带构件或主机架连接,且导入构件沿清洁装置的移动方向设于主清洁带构件的前方,以用于将待清洁面上的垃圾导送至主清洁带构件;主清洁带构件具有与导入构件相邻设置的第一侧部,导入构件具有与主清洁带构件相邻并与第一侧部相对设置的第二侧部,第一侧部和第二侧部都呈倾斜设置,且第一侧部和第二侧部用于配合传送垃圾本实用新型提供的清洁装置,能够省去抽风机,在无抽风机驱动的情形下清除待清洁面上的垃圾,在实现清扫垃圾的同时,有效降低清洁装置的噪音、耗电和成本。
- 清洁装置
- [实用新型]清洁装置-CN202321254732.4有效
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樊泽宇;李瑶;樊泽洲
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深圳市好奇心探索科技有限公司
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2023-05-20
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2023-10-27
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A47L11/24
- 本实用新型适用于清洁设备领域,公开了一种清洁装置,其包括主清洁带构件,主清洁带构件的底部形成有用于抵接于待清洁面的第一平面,且主清洁带构件的底部在待清洁面上的正投影面积大于主清洁带构件的顶部在待清洁面上的正投影面积本实用新型通过在主清洁带构件的底部形成有用于抵接于待清洁面上的第一平面,利于增大主清洁带构件与待接触面的接触面积,进而利于提高清洁效果和效率。将主清洁带构件的底部在待清洁面上的正投影面积设为大于主清洁带构件的顶部在待清洁面上的正投影面积,从而可使得主清洁带构件顶部的体积较小,进而利于提高清洁装置的结构紧凑性,最终利于减小清洁装置的体积。
- 清洁装置
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