专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]涂敷装置-CN201410150413.8无效
  • 末田哲也;木林茂树;林洋志 - 佳能机械株式会社
  • 2010-10-27 - 2014-07-23 - B05C5/00
  • 本发明提供一种能够实现生产性的提高,并且装置整体也不大型化且能够实现低成本化的涂敷装置。涂敷装置具备用于将糊剂状的涂敷剂(P)向被涂敷(20)涂敷的一对转印针(21、22)。第一状态中,第一转印针(21)与积存糊剂状的涂敷剂(P)的涂敷剂积存的上方对应且第二转印针(22)与被涂敷(20)的上方对应,第二状态中,第二转印针(22)与积存糊剂状的涂敷剂(P)的涂敷剂积存的上方对应且第一转印针(21)与被涂敷(20)的上方对应。
  • 装置
  • [发明专利]糊剂涂敷方法及糊剂涂敷装置-CN201210298578.0有效
  • 三井信治;宫本芳次;山本英明;中村秀男;石田茂 - 株式会社日立工业设备技术
  • 2012-08-21 - 2013-04-03 - B05C5/00
  • 本发明提供一种能够吸收由管嘴的移动方向的不同产生的涂敷高度的不同,确保玻璃糊剂的涂敷高度的精度的糊剂涂敷方法及糊剂涂敷装置。本发明的糊剂涂敷方法,为使管嘴(55a)沿蒸镀了有机EL元件的基片(8)的蒸镀(A1)的周围移动,在基片(8)的蒸镀(A1)的周围涂敷玻璃糊剂的糊剂涂敷方法;其特征在于:具有准备工序和涂敷工序;在该准备工序中,对管嘴(55a)沿蒸镀(A1)的周围移动时的各移动方向设定对管嘴(55a)移动时的管嘴高度进行修正的管嘴修正量;在该涂敷工序中,对各移动方向以管嘴修正量修正管嘴高度,使管嘴(55a)沿蒸镀(A1)的周围移动,涂敷玻璃糊剂。另外,本发明的糊剂涂敷装置,为按该糊剂涂敷方法在基片(8)上涂敷玻璃糊剂的糊剂涂敷装置(100)。
  • 糊剂涂敷方法装置
  • [发明专利]螺旋涂敷装置以及螺旋涂敷方法-CN201210209256.4有效
  • 大城健一;佐藤强 - 株式会社东芝
  • 2012-06-20 - 2012-12-26 - B05B13/02
  • 一种螺旋涂敷装置,具有工作台、旋转机构、涂敷喷嘴、移动机构、喷嘴位置检测以及位置调整部。工作台具有载置涂敷对象物的载置面。旋转机构使上述工作台在沿着上述载置面的旋转方向上旋转。涂敷喷嘴对工作台上的上述涂敷对象物喷出材料而进行涂敷。移动机构使上述工作台和上述涂敷喷嘴在与上述旋转方向相交的交差方向上沿着上述载置面相对移动,并使上述工作台和上述涂敷喷嘴能够在上述旋转的轴方向上相对移动。喷嘴位置检测检测上述旋转的轴方向上的上述涂敷喷嘴的底面的位置信息。位置调整部根据上述涂敷喷嘴的位置信息,进行上述涂敷喷嘴与上述载置面在上述轴方向的位置调整。
  • 螺旋装置以及方法
  • [发明专利]涂敷装置及涂敷方法-CN201210348068.X有效
  • 能条和彦;大岛笃;城正树;坂本孝博 - 富士胶片株式会社
  • 2012-09-18 - 2013-04-03 - B05C11/02
  • 本发明提供一种涂敷装置及涂敷方法,在行进的片材上涂敷涂敷液之际,能够通过吸嘴比现有技术更为有效地吸引厚涂,因此,能够使吸引压力比较小,从而消除行进的片材发生抖动等的不良状况。在涂敷装置(10)具有吸嘴(15),在行进的带状的片材(18)上涂敷涂敷液之际,该吸嘴对形成在涂敷宽度方向两端且比目标涂敷膜厚d厚的厚涂(43)进行吸引,吸嘴(15)的涂敷宽度方向上的吸引面宽度Do及吸引口宽度Di在将厚涂(43)的涂敷宽度方向上的宽度为W及高度为H、片材(18)与吸引面(54)之间的间隙为L时,满足下述的式1及式2。
  • 装置方法
  • [发明专利]涂敷装置及杆涂敷方法-CN201010214121.8有效
  • 三田俊哉;横山广树;浜本伸夫 - 富士胶片株式会社
  • 2010-06-24 - 2011-01-05 - B05C1/08
  • 本发明提供一种能够防止涂敷膜的厚度在宽度方向的端变厚的杆涂敷装置及杆涂敷方法。该涂敷装置具备:杆(11),其与行进的带状体(40)接触的同时进行旋转;堰(28),其相对于杆(11)设置在带状体的行进方向上游侧,形成向带状体(40)及杆(11)供给涂敷液的液体积存(26);涂敷液减量构件(50),其设置在带状体(40)的宽度方向的堰(28)的两外侧,刮除涂敷在带状体(40)的宽度方向两端涂敷液。
  • 杆涂敷装置方法
  • [发明专利]包覆光纤的制造方法和包覆光纤制造装置-CN202180021498.8在审
  • 竿本建次郎;荒木竜弥;藤原雄基 - 日东电工株式会社
  • 2021-03-16 - 2022-11-01 - G02B6/44
  • 在本发明的包覆光纤的制造方法中使用涂敷模具(Y),该涂敷模具(Y)具有:储液室(21);插入孔(23),其与该储液室(21)连通;以及涂敷(24),其与储液室(21)连通,并且,隔着储液室(21)与插入孔(23)相对配置。本制造方法包括:在涂敷模具(Y)中,向涂敷(24)供给储液室(21)内的包覆材料(C),同时使光纤(F)以插入孔(23)、储液室(21)以及涂敷(24)的顺序通过,从而利用包覆材料(C)包覆光纤(F)的周侧面,储液室(21)内的包覆材料(C)的粘度μ(Pa·s)和涂敷(24)的延伸方向的长度L(mm)满足μL≥1.5。
  • 光纤制造方法装置
  • [发明专利]电极箔的运送装置和叠层电池的制造装置-CN201110215481.4有效
  • 伊藤史朗 - CKD株式会社
  • 2011-07-25 - 2012-10-17 - B65H3/08
  • 在台座部(18)上,按照未涂敷(8)全部位于相同侧的方式叠置电极箔(6)。首先,通过多级波纹管吸着垫(36),吸着最顶层的电极箔(6)的未涂敷(8),使其上升。另外,此时,从未涂敷(8)一侧的鼓风喷嘴(42)喷射压缩空气。届时,使得最顶层的电极箔(6)的涂敷(7)的端缘从其正底层的电极箔(6)的涂敷(7)的端缘分离,然后使电极箔(6)整体上升。优先将厚度小于涂敷(7)的没有紧贴的未涂敷(8)上抬,最顶层的电极箔(6)的涂敷(7)的端缘容易从其正下层的电极箔(6)的涂敷(7)的端缘分离,可更加确实地仅将最顶层的电极箔(6)上抬。
  • 电极运送装置电池制造
  • [发明专利]糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法-CN201210298580.8有效
  • 三井信治;宫本芳次;山本英明;中村秀男;石田茂 - 株式会社日立工业设备技术
  • 2012-08-21 - 2013-04-03 - B05C5/00
  • 本发明以提供一种能够将玻璃糊剂的涂敷高度恰当地维持在规定的误差范围的糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法为课题。本发明的糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法的特征在于,在形成从喷嘴(55a)的始点(Ps)开始的始端(101S)的部分,使喷嘴高度(Nh)比基准涂敷高度(StdH)低,喷嘴(55a)移动,在形成到喷嘴(55a)的终点(Pe)为止的终端(101E)的部分,使喷嘴高度(Nh)比基准涂敷高度(StdH)高,喷嘴(55a)移动,在形成始端(101S)的部分以及形成终端(101E)的部分以外的部分,将喷嘴高度(Nh)作为基准涂敷高度(StdH),喷嘴(55a)移动,再有,在始端(101S)和终端(101E)的至少一分,喷嘴(55a)以玻璃糊剂(Gp)被重叠地涂敷的方式移动。
  • 糊剂涂敷装置以及方法
  • [发明专利]基片处理方法和基片处理装置-CN202010293846.4在审
  • 高桥哲平 - 东京毅力科创株式会社
  • 2020-04-15 - 2020-10-27 - H01L21/67
  • 处理基片的基片处理方法包括:(a)通过旋涂法在基片的表面涂敷涂敷液来形成涂敷膜的步骤;(b)对在上述(a)步骤中形成于基片的表面周缘的上述涂敷膜的凸,供给上述涂敷液的溶剂的步骤;和(c)在停止供给上述溶剂的状态下,使基片旋转,使上述凸的顶点向基片的径向外侧移动的步骤,反复进行上述(b)步骤和上述(c)步骤。本发明能够除去形成在基片的表面周缘涂敷膜的凸,使该涂敷膜在基片面内均匀地形成。
  • 处理方法装置

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