专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]新型超低损耗G.654E光纤及其制作方法-CN202010651138.3有效
  • 陈炳炎;王秋萍;陈宏达;龚成 - 普天线缆集团有限公司
  • 2020-07-08 - 2022-06-28 - G02B6/036
  • 本发明公开了一种新型超低损耗G.654E光纤及其制作方法,用VAD法制作纤,用OVD法在纤上制作氟内包层,用OVD法制作氟斜坡型折射率环沟型下陷包层,沉积纯SiO2外包层多孔,烧成一,光纤拉丝;的折射率大于氟的环沟型下陷内包层的折射率,氟的环沟型下陷内包层界面形成的全内反射的第一导光界面,斜坡型下陷包层的内径处,折射率由内向外由大减小通过上述方式,本发明新型超低损耗G.654E光纤及其制作方法,能够达到纤和包层粘度匹配,同时不会增加纤因组份起伏引起的瑞利散射损耗。
  • 新型损耗654光纤及其制作方法
  • [发明专利]低损耗G.652.D光纤及其制作方法-CN202010794339.9有效
  • 陈炳炎;王秋萍;龚成 - 普天线缆集团有限公司
  • 2020-08-10 - 2022-11-04 - G02B6/036
  • 本发明公开了一种低损耗G.652.D光纤,用VAD法制作,用OVD法在纤上制作氟的内包层,用POVD法制作氟的斜坡下陥包层和外包层,在线拉丝;氟的内包层的粘度匹配,降低因/包粘度失配引起导光界面的应力而产生的光纤附加损耗,不会增加纤因组份起伏引起的瑞利散射损耗,和内包层界面形成光纤的导光界面结构,斜坡型下陷包层的内径处,折射率由内向外由大减小,形成第二导光界面,下陷包层折射率分布处的折射率呈现斜坡型,与外包层形成梯度差本发明低损耗G.652.D光纤及其制作方法,能够达到纤和包层粘度匹配,同时不会增加纤因组份起伏引起的瑞利散射损耗。
  • 损耗652.光纤及其制作方法
  • [发明专利]低衰减单模光纤及其制备方法-CN201710538634.6在审
  • 陈刚;朱继红;黄利伟;雷汉林;冯正鹏;汪洪海;王瑞春 - 长飞光纤光缆股份有限公司
  • 2017-07-04 - 2017-10-13 - G02B6/036
  • 本发明涉及一种低衰减单模光纤及其制备方法,包括有层和包层,其特征在于所述的层半径r1为3.5~4.0μm,相对折射率差△1为0.33~0.36%,层外从内向外依次包覆内包层和外包层,所述的内包层半径通过VAD工艺制造棒得到锗和、内包层氟和的玻璃棒,将此棒套入纯二氧化硅外套管,或通过OVD工艺在此棒外面沉积外包层,得到可供拉丝的预制棒,将此预制棒在1500~3300m/min的拉丝速度下进行拉丝形成光纤本发明通过减少锗量和改善包层粘度匹配实现光纤的低衰减,该光纤制备工艺较为简单,制作成本低,且工艺稳定,产出合格率高。
  • 衰减单模光纤及其制备方法
  • [发明专利]一种光纤及其制造方法-CN201210138617.0有效
  • 熊良明;杨晨;罗杰;童维军;李江;王聍;曹蓓蓓 - 长飞光纤光缆有限公司
  • 2012-05-08 - 2012-09-05 - G02B6/02
  • 本发明涉及一种光纤及其制造方法,包括有层和包层,其特征在于所述的层平均折射率n1、包层折射率n2和纯二氧化硅折射率n0,满足n1=(0.997~1.0012)*n0,n2=n1-(0.0025~0.0045)*n0;所述的层为碱金属离子层或非碱金属离子层,所述的包层由氟、和含羟基的二氧化硅基材料构成;并且包层和层材料氟浓度差△[F]、层和包层材料羟基浓度差△[OH]、层和包层材料浓度差△[Cl]和层材料碱金属离子浓度之和[M],满足本发明通过掺杂组分和浓度差的控制使得光纤层和包层材料的高温粘度匹配,获得瑞利散射衰减降低的单模光纤,光纤的散射系数
  • 一种光纤及其制造方法
  • [发明专利]单模光纤及其制备方法-CN202010600926.X有效
  • 秦钰;丁杰;葛一凡;陈京京;钱宜刚;沈一春 - 中天科技精密材料有限公司
  • 2020-06-28 - 2023-08-08 - G02B6/036
  • 该单模光纤包括裸光纤和包覆在裸光纤外的涂覆层,裸光纤包括同轴设置的氟和碱金属共二氧化硅的层、氟二氧化硅的下陷内包层、氟二氧化硅的辅助内包层和低二氧化硅的外包层,下陷内包层的外表层区域形成高羟基含量层通过合理设计剖面折射率分布,增大了光纤有效面积;采用在纯二氧化硅的碱金属和氟,在下陷内包层外形成高羟基层,低纯二氧化硅的外包层等设计,改善光纤内外部的粘度匹配,减少光纤制备过程中缺陷,降低了光纤的衰减参数;在层外直接设置下陷内包层,确保了光纤具有良好的弯曲性能。
  • 单模光纤及其制备方法
  • [发明专利]超低损耗G.654E光纤及其制作方法-CN202010651146.8有效
  • 陈炳炎;王秋萍;陈宏达;龚成 - 普天线缆集团有限公司
  • 2020-07-08 - 2022-11-04 - G02B6/036
  • 本发明公开了一种超低损耗G.654E光纤及其制备方法,用PCVD法制作的梯度型折射率剖面分布纤及纯SiO2内包层,用POVD法制作氟斜坡下陷包层及纯SiO2外包层,最后拉丝,纤和纯SiO2内包层界面两侧的折射率相同,和纯SiO2内包层的界面形成全内反射的第一导光界面,氟斜坡型折射率环沟型下陷包层的内径处,折射率由内向外由大减小,形成第二导光界面,氟斜坡型折射率环沟型下陷包层折射率分布处的折射率呈现斜坡型与外包层形成一定的梯度差通过上述方式,本发明超低损耗G.654E光纤及其制作方法,能够避免界面的粘度失配,同时不会增加纤因组份起伏引起的瑞利散射损耗。
  • 损耗654光纤及其制作方法

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