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[发明专利]一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖及其制造方法-CN201611234973.7有效
发明人：叶德林;洪卫;李辉;黄诗程;段佑平;谢石长 -专利权人：佛山市三水新明珠建陶工业有限公司;广东新明珠陶瓷集团有限公司
申请日： 2016-12-28 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： C04B35/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖及其制造方法，所述制造方法包括以下步骤：(1)制备素坯；(2)施底釉；(3)施面釉；(4)淋施莹光干粒釉浆，以制成陶瓷釉面砖初产品；(5)对步骤(4)获得的陶瓷釉面砖初产品进行釉烧，以制成陶瓷釉面砖半成品；(6)对步骤(5)获得的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理，即得具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖。所获得的半抛陶瓷釉面砖莹光质感强且产品质量稳定。
一种具有效果陶瓷釉面砖及其制造方法

[发明专利]一种高硬度超耐磨全抛大理石瓷砖及其制备方法-CN202111136549.X有效
发明人：易仕伟 -专利权人：山东狮王陶瓷有限公司
申请日： 2021-09-27 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： C04B35/19 文献下载
摘要：本发明具体涉及一种高硬度超耐磨全抛大理石瓷砖及其制备方法，该全抛大理石瓷砖由下至上依次包括：坯体层、面釉层和高硬度超耐磨抛釉层；高硬度超耐磨抛釉层中分布有透明刚玉颗粒和石英颗粒；面釉层设置有图案纹理。其制备方法包括步骤：坯体的制备、面釉浆料的制备、抛釉浆料的制备、高硬度超耐磨抛釉浆料的制备、图案纹理的制备和烧制。本发明高硬度超耐磨全抛大理石瓷砖的釉面在高温熔融状态下与刚玉颗粒和石英颗粒完美结合，使整个釉面完全融为一体，因为釉料有了刚玉颗粒和石英颗粒高硬度材料的支撑，形成一种高硬釉，产品釉面维氏硬度可以达到HV800以上，且釉面透度好。
一种硬度耐磨大理石瓷砖及其制备方法

[实用新型]一种防静电全抛釉瓷砖-CN201520395144.1有效
发明人：赵清林 -专利权人：赵清林
申请日： 2015-06-09 - 公布日： 2015-10-21 - 主分类号： E04F15/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种防静电全抛釉瓷砖，属于防静电地面领域。该防静电全抛釉瓷砖，包括全瓷坯体、复合在所述全瓷坯体上表面的防静电全抛釉面层，复合在所述全瓷坯体下表面和侧面的防静电釉层；所述防静电全抛釉面层和所述防静电釉层相连通；所述防静电全抛釉面层和所述防静电釉层内均分布有粒径为本实用新型提供的防静电全抛釉瓷砖在干燥环境中电阻值可达1×10⁶Ω～1×10⁹Ω，具有优异的防静电性能。此外，由于该瓷砖的面层为防静电全抛釉面层，使得该瓷砖具有耐磨性好、吸水率低、平整度高、花色丰富等优点。
一种静电全抛釉瓷砖

[发明专利]一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺-CN202111508838.8在审
发明人：曾权;谢穗;管霞菲;曾立华;张巧燕;李刚 -专利权人：佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
申请日： 2021-12-10 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺，一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖的制备工艺，包括以下步骤：制坯；打印颜色墨水；打印下陷墨水；打印精雕墨水；淋涂耐磨干粒抛釉：将抛釉、悬浮剂和耐磨干粒混合均匀得到耐磨干粒抛釉，在精雕墨水层的表面淋涂耐磨干粒抛釉，形成凹陷纹理层；且所述耐磨干粒的始融温度高于所述抛釉的始融温度；烧成。本技术方案提出的一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺，在釉面砖可满足全抛光要求的前提下，有利于使产品的装饰效果更加丰富和立体，还能使产品具有良好的发色效果和耐磨性能，解决现有全抛光釉面砖的凹陷效果和发色
一种具有粗细凹陷纹理抛光釉面砖及其制备工艺

[实用新型]一种抗摔击高强度抛釉陶瓷-CN201920552086.7有效
发明人：叶俊华;曾劲龙;曾文昌 -专利权人：福建省德化县全丰陶瓷有限公司
申请日： 2019-04-22 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： A47G19/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抗摔击高强度抛釉陶瓷，包括陶瓷胚体、全抛釉面和底边，陶瓷胚体的正面紧密贴合有全抛釉面，陶瓷胚体的底部固定连接有底边，在陶瓷产品色釉图案之上施加一层耐磨透明的全抛釉，全抛釉采用粉料制成，在粉料的内部添加有减水剂，能够减少粉料能的含水量，间接的提高釉面的成色率，烧制后将釉面进行抛光就能够使色釉图案能够长期保持，陶瓷胚体添加有竹炭纤维和氮化铝陶瓷颗粒，能够增大陶瓷胚体本身的韧性，同时在内部的空隙和缝隙中设有缓冲层
陶瓷胚体粉料缓冲层抛釉面色釉本实用新型氮化铝陶瓷图案紧密贴合使用寿命陶瓷产品陶瓷制品有机胶水竹炭纤维抛光减水剂透明的抗摔耐磨釉面固化烧制陶瓷施加

[发明专利]超耐磨抛釉砖釉料及其制备方法、抛釉砖及其制备方法-CN202211033471.3有效
发明人：罗强;钟保民;陈世清;曾权;徐瑜 -专利权人：佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C03C8/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种超耐磨抛釉砖釉料及其制备方法、抛釉砖及其制备方法，涉及建筑陶瓷技术领域。本发明超耐磨抛釉砖釉料包括生料组合物和耐磨熔块，生料组合物包括高岭土、煅烧高岭土、刚玉粉、石英、白云石、烧滑石、氧化锌、碳酸锶、硅灰石、钾长石和钠长石；耐磨熔块的原料包括高岭土、刚玉、石英、锆英粉、烧滑石本发明的超耐磨抛釉砖釉料，能显著提升抛釉砖的硬度和耐磨度，同时不影响釉面的透明度和发色，解决了现有抛釉砖由于抛后釉面硬度低和耐磨性差，导致抛釉砖容易刮花的问题，同时本发明的超耐磨抛釉砖釉料能使抛釉砖抛光前釉面平整度得到有效提升
耐磨抛釉砖釉料及其制备方法

[发明专利]引入超细氧化铝或超细氢氧化铝提高釉面耐磨性的抛釉砖及其制法-CN201610560399.8在审
发明人：胡晓洪;詹长春;柯美云 -专利权人：佛山科学技术学院;佛山市科捷制釉有限公司
申请日： 2016-07-14 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： C03C8/14 文献下载
摘要：本发明属于建筑陶瓷生产技术领域，具体涉及一种引入超细氧化铝或超细氢氧化铝提高釉面耐磨性的抛釉砖及其制法。按质量百分比计，该抛釉砖釉面由以下原料烧制而成：0～100％的生料釉和0～100％的熔块组成的基础釉，基础釉质量0.1～15％的超细氧化铝或超细氢氧化铝，以及釉料性质调节剂。本发明利用建筑陶瓷厂的现有施釉工艺、现有烧成工艺，具有原料来源广泛，配方组成微调变化，烧制得的抛釉砖釉面光滑平整，釉面具有基本能与瓷质抛光砖耐磨性相媲美的高耐磨、高硬度，保持原有颜色流变多彩，有利于工业化生产等优点，是大规模生产抛釉砖的重要途径。
引入氧化铝氢氧化铝提高釉面耐磨性抛釉砖及其制法

[发明专利]一种超平厚抛釉及超平厚抛釉瓷质砖的制造方法-CN201410185336.X有效
发明人：陈奕;饶培文;梁志雄;程科恺 -专利权人：广东道氏技术股份有限公司
申请日： 2014-05-05 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： C04B41/86 文献下载
摘要：本发明公开了一种超平厚抛釉，釉由熔块和生料组成，熔块与生料的质量比为(10～30)：100。本发明的超平厚抛釉由高温流动性好的熔块和部分生料组成，使釉面在高温下快速地流平，熔融性能良好；再通过不同材料的搭配，使得釉面高温粘度小，便于釉层气体排出，保证釉面的平滑效果和釉层气泡较小较少。检测结果显示，使用本发明超平厚釉制造得到的超平厚抛釉瓷质砖，1.6mm直径视域内气泡个数仅为1～3个，气泡直径仅为0.02mm～0.06mm，气泡少且小，釉层通透感更好；超平厚抛釉抛光后光泽度可达105度～110度，高于普通全抛釉的95度～100度。
一种超平厚抛釉超平厚抛釉瓷质砖制造方法

[发明专利]一种引入超细氧化物提高釉面硬度的抛釉砖及其制备方法-CN201610560398.3在审
发明人：胡晓洪;詹长春;柯美云 -专利权人：佛山科学技术学院;佛山市科捷制釉有限公司
申请日： 2016-07-14 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： C03C8/14 文献下载
摘要：本发明属于建筑陶瓷生产技术领域，具体涉及一种引入超细氧化物提高釉面硬度的抛釉砖及其制备方法。按质量百分比计，该抛釉砖釉面由以下原料烧制而成：0～100％的生料釉和0～100％的熔块组成的基础釉，基础釉质量0.1～15％的超细氧化铝或超细氢氧化铝，基础釉质量0.1～10％的超细氧化硅或超细氧化硅前驱物本发明通过引入超细氧化物或超细氧化物前驱物(氢氧化物)生产出高硬度釉面且同样具备有色彩多样特征的抛釉砖。根据本发明配方，建筑陶瓷厂不需对设备进行更新改造，改变釉料配比即可生产高硬度釉面的抛釉砖。
一种引入氧化物提高釉面硬度抛釉砖及其制备方法

[发明专利]一种具有抗菌功能的抛釉砖及其制备方法、以及全抛釉-CN202010457250.3有效
发明人：刘一军;杨元东;杨倩;张克林;郑贵友;王贤超 -专利权人：蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请日： 2020-05-26 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明提供一种具有抗菌功能的抛釉砖及其制备方法、以及全抛釉，抛釉砖的釉面层具有凹坑，凹坑中填充有超洁亮蜡和纳米银颗粒，釉面层使用全抛釉制得，所述全抛釉的原料配方包括：按质量计，茶晶长石22～30%，氧化锌将纳米银颗粒混入超洁亮蜡中填充于釉面中，修补了抛光表面的气孔和微裂隙，形成连续、致密的光洁表面，降低砖表面的粗糙度，有效防止各种污物残留于砖表面和通过气孔和微裂隙进入砖体内部，同时赋予产品良好的防污性能
一种具有抗菌功能抛釉砖及其制备方法以及全抛釉

[发明专利]一种高硬抛釉料及其制备方法和使用方法-CN202111138673.X在审
发明人：易仕伟 -专利权人：山东狮王陶瓷有限公司
申请日： 2021-09-27 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： C03C8/00 文献下载
摘要：本发明具体涉及一种高硬抛釉料及其制备方法和使用方法，该高硬抛釉料包括如下重量份的组分：钠长石30‑50份、硅灰石5‑15份、方解石5‑15份、白玉石5‑15、氧化锌5‑10份、氧化铝1‑8份、霞石2‑8份、碳酸钡1‑8份、滑石1‑5份；其制备方法为：按抛釉料组成配方称取对应数量的原料，投入到球磨机中进行球磨，制得抛釉料，过筛；其使用方法包括步骤：加入水制得抛釉浆料；在抛釉浆料中添加透明刚玉颗粒和透明石英颗粒，搅拌均匀得到改性后高硬抛釉浆料；烧结。本发明在高温熔融状态下与刚玉颗粒和石英颗粒完美结合，使整个釉面完全融为一体，因为釉料有了刚玉颗粒和石英颗粒高硬度材料的支撑，形成一种高硬釉，产品釉面维氏硬度可以达到HV800以上，且釉面透度好。
一种高硬抛釉料及其制备方法使用方法

[发明专利]一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法-CN202210849753.4在审
发明人：曾权;曾立华;谢穗 -专利权人：佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
申请日： 2022-07-20 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明涉及陶瓷砖技术领域，公开了一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法，包括由上至下依次分布的磨砂干粒釉层、抛釉层、图案层、底釉层和砖坯体；磨砂干粒釉层包括均匀分布于抛釉层表面的磨砂干粒，磨砂干粒的底部与抛釉层熔接为一体，磨砂干粒的顶部突出于抛釉层表面；柔光耐磨防滑釉面砖的光泽度跟随磨砂干粒釉的施釉量的增加而降低；磨砂干粒釉的化学成分包括SiO2、Al2釉面砖的制备方法，采用磨砂干粒釉和抛釉分两次喷施的工艺，使用较少的磨砂干粒就可将釉面的光泽度降低至5‑40°，可通过调整磨砂干粒釉的施釉量来调节制品的光泽度。
一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法

[发明专利]一种镁铝尖晶石耐磨全抛釉陶瓷砖及其制备方法-CN202011107546.9有效
发明人：潘利敏;况学成;邓来福;郑贵友;陈鹏程 -专利权人：蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请日： 2020-10-16 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明公开一种镁铝尖晶石耐磨全抛釉陶瓷砖及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在砖坯表面施耐磨全抛釉；在施耐磨全抛釉后的砖坯表面施耐磨印刷釉；以及将施耐磨印刷釉后的砖坯烧成并抛光，获得镁铝尖晶石耐磨全抛釉陶瓷砖；其中，耐磨印刷釉的镁铝尖晶石含量比耐磨全抛釉高10～45%，耐磨印刷釉的碱土金属氧化物含量比耐磨全抛釉低4～15%。本发明采用渐变梯度施釉工艺，在保证釉面透感和发色的同时，使抛光后的釉面具有很好的耐磨和硬度。
一种尖晶石耐磨釉陶瓷砖及其制备方法

[发明专利]一种釉面上光机-CN200810198722.7有效
发明人：沈慧萍;丘兆才 -专利权人：广东科达机电股份有限公司
申请日： 2008-09-24 - 公布日： 2009-02-11 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种釉面上光机，包括瓷砖输送装置，还包括沿着输送装置延伸方向设置的抛光装置，所述抛光装置包括摆动磨台装置，以及置于摆动磨台装置上的磨头装置，所述磨头装置上还设置有冷却系统。该釉面上光机是在精抛机精抛基础上，继续进行釉面抛光。最大程度地消除切削痕迹，达到市场需求的表面光泽度，该釉面上光机以其抛光效率高，抛光面广，有效地提高瓷砖产品的表面质量，满足消费者对高品质砖的需求。
一种釉面上光

[实用新型]一种釉面上光机-CN200820200965.5无效
发明人：沈慧萍;丘兆才 -专利权人：广东科达机电股份有限公司
申请日： 2008-09-24 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种釉面上光机，包括瓷砖输送装置，还包括沿着输送装置延伸方向设置的抛光装置，所述抛光装置包括摆动磨台装置，以及置于摆动磨台装置上的磨头装置，所述磨头装置上还设置有冷却系统。该釉面上光机是在精抛机精抛基础上，继续进行釉面抛光。最大程度地消除切削痕迹，达到市场需求的表面光泽度，该釉面上光机以其抛光效率高，抛光面广，有效地提高瓷砖产品的表面质量，满足消费者对高品质砖的需求。
一种釉面上光

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