专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]限位装置和衣物处理组件-CN202120942748.9有效
  • 钱伟;周宁波;吴华杰 - 湖北美的洗衣机有限公司
  • 2021-04-30 - 2022-06-07 - D06F39/00
  • 本实用新型公开了种限位装置和衣物处理组件,限位装置应用于衣物处理设备,衣物处理设备包括门体、第单元和第二单元,第单元设在第二单元的上侧,门体可运动地设在第单元的轴向端以打开或关闭第单元,限位装置包括限位件,限位件适于止抵在第单元和门体之间。根据本实用新型的限位装置,可以提升衣物处理设备的运输适用性,方便衣物处理设备的运输、搬运。
  • 限位装置衣物处理组件
  • [实用新型]种非连续微蚀槽-CN201922243721.6有效
  • 王虎;郭继鹏;周俊杰;刘友祥 - 信泰电子(西安)有限公司
  • 2019-12-12 - 2020-07-07 - H05K3/00
  • 本实用新型涉及种非连续微蚀槽,其包括药水箱,所述药水箱连接有第槽,所述药水箱与所述第槽之间设置有第阀门与抽吸泵,所述第槽于所述药水箱连接位置设置有进药口,所述第槽连接有溢水管,所述溢水管连接有第二槽,所述第二槽远离所述溢水管侧设置有排水口,所述第二槽的最高水位低于所述第槽的最高水位,所述第槽与所述第二槽内均设置有超声波发生器。
  • 一种连续微蚀槽
  • [发明专利]种污水处理系统-CN202010937292.7在审
  • 丛琳 - 北京清源汇环境技术有限公司
  • 2020-09-08 - 2020-12-11 - C02F9/14
  • 本发明提出了种污水处理系统。本发明涉及环保设备领域。本发明的方案:包括第单元、第二单元、第三单元和第四单元,第单元、第二单元、第三单元和第四单元依次连接,第单元包括厌氧池,第二单元包括好氧池,第三单元包括转鼓式格栅,第四单元包括阶梯式格栅。
  • 一种污水处理系统
  • [实用新型]种快速锻件热处理装置-CN202122046287.X有效
  • 申峻辰 - 沈阳升腾机械制造有限公司
  • 2021-08-27 - 2022-01-18 - C21D1/00
  • 本实用新型公开了种快速锻件热处理装置,涉及锻件热处理领域。本实用新型包括第仓和第二仓,第仓位于第二仓的侧面,第仓内部开设有淬火槽,第二仓内部开设有冷却槽,第侧面和第二侧面均固定连接有安装柱,两安装柱上表面均固定连接有立柱本实用新型通过设置体化的两个处理区,并且在第仓与第二仓之间设置立柱与横梁,将用于抓取锻件的滑动块设在横梁上,能够凭借滚轮快速的在第仓与第二仓之间进行移动抓取,能够快速的进行退火、回火、淬火等热处理措施。
  • 一种快速锻件热处理装置
  • [发明专利]种支持双网数据传输的终端及其实现方法-CN201610186818.6有效
  • 李春林 - 努比亚技术有限公司
  • 2016-03-28 - 2019-02-15 - G06F13/40
  • 本发明公开了种支持双网数据传输的终端及方法,其中,所述终端包括:第器、第二器、电源管理集成电路(PMIC);其中,所述第器支持设置为通用串行总线主设备(USB host)和/或通用串行总线驱动设备(USB device),所述第二器支持设置为USB device,其中,所述第器用于在触发第器与所述第二器间的通信后,采用USB方式进行USB通信;PMIC,用于通过与所述第器间建立的通信通道传输控制命令和/或状态信息,以触发第器与所述第二器间的通信、及USB充电的通信和/或USB正常的通信。
  • 一种支持数据传输终端及其实现方法
  • [发明专利]半导体生产设备及晶圆背面清洁方法-CN201910213176.8在审
  • 宋祖坤;顾婷婷 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2019-03-20 - 2020-09-29 - H01L21/67
  • 本发明提供种半导体生产设备及晶圆背面清洁方法,半导体生产设备包括第机台、第二机台、第机械手臂及风刀;第二机台位于第机台侧,且与第机台相邻接,第二机台与第机台的邻接设有密封门,第机械手臂位于第机台内,风刀位于第机台内,且位于密封门外侧下方及第机械手臂的下方。本发明的半导体生产设备通过在第二机台的外侧设置风刀,可以在晶圆传送至第二机台内之前对晶圆的背面使用干燥气体进行吹扫清洁,以去除晶圆背面的微粒,从而减少甚至避免缺陷的产生,提高产品的良率。
  • 半导体生产设备背面清洁方法
  • [发明专利]种可高效处理餐厨垃圾的处理设备-CN202010551971.0在审
  • 王家玉 - 王家玉
  • 2020-06-17 - 2020-10-27 - B09B3/00
  • 本发明公开了种可高效处理餐厨垃圾的处理设备,针对现有的处理设备工作性能不佳的问题,现提出如下方案,其包括处理箱体,所述处理箱体自左向右依次开设有第腔、第二腔和第三腔,所述第腔的内部设有第机构,所述第二腔的内部设有第二机构,所述第三腔的内部设有第三机构。通过第腔、第二腔和第三腔的配合工作,可高效的对餐厨垃圾进行处理,且可对餐厨垃圾中的固态和液态垃圾进行分类处理,提高处理设备的处理效率。
  • 一种高效处理垃圾设备
  • [发明专利]便携终端的状态控制方法及便携终端-CN200910086632.3有效
  • 黄晓兵;林松涛;陈德铭 - 联想(北京)有限公司
  • 2009-06-16 - 2010-11-17 - H04M1/725
  • 本发明公开了种便携终端的状态控制方法及便携终端,所述便携终端包含第器和第二器的,所述方法包括:第二器检测所述终端的第应用的状态变化值,其中,所述第应用为低及时性应用;当所述第应用的状态变化值超过预先设置的阈值时,获取所述第器的状态;当所述第器处于第状态时,将所述状态变化值通知所述第器,当所述第器处于第二状态时,维持所述第器的第二状态,所述第器在所述第状态时的功耗大于在所述第二状态时的功耗本发明当便携终端在移动过程中,如果第器未处于工作状态,则无需根据无线信号的频繁变化进行更新,因此节约了便携终端的功耗。
  • 便携终端状态控制方法
  • [实用新型]种化学合成类制药废水的处理系统-CN202220229313.4有效
  • 王珊;张建国 - 山东交通学院
  • 2022-01-27 - 2022-06-28 - C02F9/14
  • 本实用新型公开了种化学合成类制药废水的处理系统,包括高浓度废水预处理区、废水调节槽、生化反应区和污泥槽;生化反应区包括第单元、第二单元和第三单元,第单元包括相串联的A池和O池,第二单元包括相串联的LSP池和沉淀池,第三单元为MBR池,第单元和第二单元并联接入第三单元,第二单元和第单元之间连接有由第二单元出水口接入第单元进水口的旁通管路。本实用新型的LSP池和AO池系统可并联运行,也可串联运行,并通过合理的组合减少剩余污泥产量、保障出水水质,满足化学合成类制药废水生化处理需求。
  • 一种化学合成制药废水处理系统
  • [实用新型]种喷漆废水处理-CN202021495527.3有效
  • 秦伟 - 佰展诺机械五金工业(昆山)有限公司
  • 2020-07-24 - 2021-05-04 - C02F9/02
  • 本实用新型公开了种喷漆废水处理箱,包括工作台,第箱,第二箱,回收水箱和入料连接管,工作台上安装有第箱,第二箱和回收水箱,该第箱和第二箱连接有入料连接管,该第箱和第二箱连接有回收水箱,该第箱和第二箱上设有盖板,该盖板上设有搅拌气缸,该搅拌气缸上设有搅拌杆,该搅拌下端设有破碎刀,入料连接管上设有动力泵,本实用新型通过动力泵将废水送入到第箱和第二箱内进行沉淀后,通过搅拌杆上的破碎刀将沉淀的漆进行搅拌防止漆体凝固,然后将废水通过管道送到回收水箱内,然后将漆体推出处理箱外,方便漆体和水进行分离,同时处理箱内的漆体方便清理,不会凝固在处理箱内。
  • 一种喷漆废水处理
  • [实用新型]种基板的干燥装置-CN201621220651.2有效
  • 于洪禄;陈国;张万鹏;程鹏;戴俊奕 - 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
  • 2016-11-11 - 2017-05-10 - F26B21/00
  • 本实用新型公开了种基板的干燥装置,包括用于对基板进行干燥处理的干燥单元、与干燥单元连接的控制单元以及分别与控制单元连接的第单元和第二单元;控制单元用于控制第单元或第二单元与干燥单元连通,第单元用于在与干燥单元连通时对干燥单元进行清洗,第二单元用于在与干燥单元连通时且在第单元对干燥单元进行清洗后对干燥单元进行干燥;这样,在干燥单元被污染后,可以利用控制单元控制第单元与干燥单元连通,利用第单元对干燥单元进行清洗,之后利用控制单元控制第二单元与干燥单元连通,利用第二单元对干燥单元进行干燥,从而提供了种自带清洁功能的干燥装置。
  • 一种干燥装置

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