专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于处理材料的设备-CN201580023354.0有效
  • 瓦特尔·克里斯蒂;赫尔曼·施瓦茨 - 西门子公司
  • 2015-03-26 - 2019-01-18 - D21B1/32
  • 本发明涉及一种用于处理材料、特别是造纸用的原材料的设备(1)和方法,优选地具有碎浆机或打浆滚筒,具有能围绕轴线转动的处理容器(M,M1,M2),其中处理容器(M,M1,M2)具有至少一个驱动环(3),其中驱动环(3)固定地与处理容器(M,M1,M2)连接,其中驱动环(3)设置为与至少一个定子元件(11,11’)共同作用以用于转动运动,其中定子元件(11,11’)具有电磁体(13),其中电磁体(13)设置用于产生处理容器为了产生作用在处理容器(M,M1,M2)上的转动力矩,驱动环(3)要么具有驱动磁体(7)、特别是永磁体,要么具有留空部(9)。当驱动环(3)具有永磁体时,驱动单元对应同步电机。有利地能改变处理容器(M,M1,M2)的位置和/或取向。另外有利地,与驱动相关的参量、如处理容器(M,M1,M2)的转动力矩、转速、位置和/或取向能借助于控制装置(25)控制或调节。
  • 用于处理材料设备
  • [发明专利]自动材料处理系统-CN200680010374.5有效
  • 村田正直 - 亚仕帝科技股份有限公司
  • 2006-03-27 - 2008-03-26 - B65G1/00
  • 以低成本、简单并具有高度可靠性地管理被输送物体,该被输送物体在至少一个存储单元和多个制造设备之间根据控制器的指令由多个输送设备输送。具有无线通信功能的ID卡20安装在所有载体18上,并且ID读/写单元25安装在一些输送设备10中。此外,相对于ID卡20,载体ID根据连接到ID读/写单元25的MCS4的指令被读或写,以便通过载体ID管理单元4a管理载体ID。
  • 自动材料处理系统
  • [发明专利]表面处理金属材料-CN200680008507.5有效
  • 佐藤裕之;中山隆臣;相岛敏行 - 日本帕卡濑精株式会社
  • 2006-03-15 - 2008-03-12 - B32B15/01
  • 本发明的课题在于提供在金属材料表面具有表面处理被膜的金属材料,所述表面处理被膜具有等同于或优于现有技术的磷酸锌处理、铬酸盐处理被膜的涂装后耐腐蚀性和未涂装耐腐蚀性,而且不产生淤渣,不含对环境有害的成分,解决手段为一种表面处理金属材料,所述表面处理金属材料是金属材料表面具有表面处理被膜层的表面处理金属材料,所述表面处理被膜层含有下述成分(A)和(B):(A)选自Ti、Zr和Hf中的至少一种金属元素的氧化物和/或氢氧化物、(B)Al元素,在上述表面处理被膜层中,上述成分(B)Al元素的附着量B相对于上述成分(A)的上述金属元素的总附着量A的质量比K1=B/A满足0.001≤K
  • 表面处理金属材料
  • [发明专利]材料处理方法及装置-CN02823856.7有效
  • D·J·弗雷;R·C·克浦卡特 - 剑桥大学技术服务有限公司
  • 2002-12-02 - 2005-03-16 - C22B34/12
  • 将包括一种在金属或者半金属(M1)中的非金属物种(X)的固溶体,或者一种该非金属物种和金属或半金属的化合物的固态材料(M1X)(6)浸入在熔融盐(M在这种材料上施加一个阴极电势,通过电脱氧将非金属物种的一部分去除。由于随着反应的进行,效率降低,为了在较低的浓度下去除非金属物种,将一种活性金属源(M3)浸入到熔融盐中,并使其要么通过盐的电传导,要么通过一个外部电路,与上述材料电连接。在该材料和活性金属上发生反应,非金属物种溶解在盐中,上述活性金属与溶解在盐中的非金属物种反应生成一种比该非金属物种和金属或者半金属(M1)之间的化合物更加稳定的反应产物。这样,就去除了所述固态材料中的非金属物种。
  • 材料处理方法装置
  • [发明专利]微波和射频材料处理-CN201180030330.X无效
  • 菲利普·约瑟夫·诺顿 - 量子波有限公司
  • 2011-04-27 - 2013-02-27 - H05B6/80
  • 一种用于材料处理的设备,该设备包括:一个用于在处理过程中容纳所述材料的隔室,所述隔室具有至少一个壁、一个用于接收有待处理材料的入口、以及一个使材料处理后退出该隔室的出口;以及一个辐射源以用于将电磁辐射穿透该隔室壁的一部分而引导至该隔室中,该隔室壁的该部分是至少部分地对该辐射是透明的,该辐射为微波或射频(RF)电磁辐射;其中该设备被配置为用于将该隔室中的材料的至少一部分放置成与该隔室壁的、该辐射进入到该隔室中时所穿透的这个至少部分透明的部分相接触
  • 微波射频材料处理

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