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- [发明专利]基片上微粒高度测量方法-CN200810052669.X无效
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李恩邦
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天津大学
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2008-04-09
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2008-08-27
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G01B11/02
- 本发明公开了一种基片上微粒高度测量方法。该方法采用包括微位移平台、带有CCD摄像机的光学显微镜、计算机和平行光光源所构成装置。测量基片上微粒高度过程包括:将一束平行光以与基片上表面成第一固定角度θ1照射基片表面微粒,获第一幅数字图像;移动微位移平台一已知距离,获第二幅数字图像;将一束平行光以与基片上表面成第二固定角度θ2照射基片表面微粒,获第三幅数字图像。再由微位移平台移动的已知距离计算光学显微成像系统的放大率β;由第二幅数字图像和第三幅数字图像测得它们之间的位移L,由L/[β(ctg θ2-ctg θ1)]计算出微粒距基片表面的高度值
- 基片上微粒高度测量方法
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