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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基底表面的表面增强纸浆纤维-CN201580020488.7有效
发明人： B·马尔科恰;H·潘德;R·M·威廉姆斯 -专利权人：同拓纸业有限责任公司
申请日： 2015-02-20 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： D21H11/16 文献下载
摘要：这通过形成纤维基底，并且施加包含水性组合物的表面处理来实现。显著地，所述水性组合物包括表面增强纸浆纤维，所述表面增强纸浆纤维的放置优化其功能性，通过使用造纸机施胶压榨的表面放置理想地利于典型淀粉使用的减少。本方法包括提供包含纤维素纤维和水的掺合物的含水浆料并且为纤维素纤维和水的所述含水浆料脱水以形成纤维基底的步骤。
表面增强纸浆纤维水性组合物纤维素纤维含水浆料纤维基造纸机表面放置基底表面印刷特征掺合物纸产品压榨施胶淀粉脱水施加优化制造

[发明专利]异形基底表面脱模方法-CN202310013174.0在审
发明人：张冕;刘旭;汪洋;宋延林;殷文钢 -专利权人：北京中科纳通电子技术有限公司;中国科学院化学研究所
申请日： 2023-01-05 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： B29C33/58 文献下载
摘要：本发明涉及橡胶制件脱模领域，具体涉及一种异形基底表面脱模方法。该方法包括：将含氟水性脱模剂在模具的内表面上进行第一涂覆并进行第一烘干，得到在内表面上具有脱模层的模具A；在所述模具A的脱模层的内表面上将气相增强剂进行第二涂覆并进行第二烘干，得到具有脱模涂层的模具B；本发明提供的方法具有优异的脱模性，通过将含氟水性脱模剂和气相增强剂结合使用，使其可固化在模具表面形成半永久式涂层，该方法脱模耐久性良好，脱模容易，得到的制件完整性高，特别适用于精细电子零部件的加工脱模。
异形基底表面脱模方法

[发明专利]处理基底表面的方法-CN201080016086.7有效
发明人： P.塔尼;H.科索南 -专利权人：芬欧汇川集团公司
申请日： 2010-04-09 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： D21H17/13 文献下载
摘要：本发明涉及处理基底表面的方法，所述的方法包括将功能化学品施加到该基底表面上，来提高硅到所述基底的附着性。该方法进一步包含通过使用蒸气施涂束来将所述的功能化学品以至少5mg/m2的量施加到该基底的表面上，来在该基底上形成功能化学品层，该功能化学品包含双键，氢化硅烷，或者乙烯基硅烷反应性基团，或者低聚物烃或者聚合物烃或者聚硅氧烷化合物
处理基底表面方法

[发明专利]基底表面亲水处理方法及具有亲水改性表面的基底-CN202210356791.6在审
发明人：张忠杰;邱昱诚;陈艾菲;卢冠廷 -专利权人：颖利科技股份有限公司
申请日： 2022-03-31 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C08J7/12 文献下载
摘要：一种基底表面亲水处理的方法，包括：将亲水聚合物覆于具有活性基团的基底表面；以及使该亲水聚合物与该活性基团进行交联反应，以获得具有亲水性的基底表面；其中，该亲水聚合物包含源自N‑羟甲基丙烯酰胺的单元及源自经亲水性基团取代的烯烃的单元本发明进一步提供一种以如上所述的方法制得的基底。通过本发明的方法，能有效提升其表面的亲水性，且较现有改性技术更具持久性及耐水洗性，具有应用前景。
基底表面水处理方法具有改性

[发明专利]具有非平面基底表面的基底处理方法-CN201080023330.2有效
发明人：乔治·D·帕帕守尔艾迪斯;维克拉姆·辛;尹赫云 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2010-04-23 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种保形地处理具有非平面表面的基底的技术。所述技术包含若干阶段。在第一阶段中，有效地处理所述基底的某些表面。在第二阶段期间，这些表面经处置以限制或消除对这些表面的进一步处理。在第三阶段期间，处理所述基底的其他表面。在某些应用中，在所述第一及第二阶段中处理垂直于或实质上垂直于粒子流的表面，而在所述第三阶段中处理其他表面。在某些实施例中，所述第二阶段包含在所述基底上沉积膜。
具有平面基底表面处理方法

[发明专利]用于涂覆基底表面的涂层剂和涂覆基底表面的方法-CN00815788.X无效
发明人： A·凯勒;T·格鲁伯;K·霍尔迪克;W·夏尔 -专利权人：勃姆巴迪尔运输有限公司
申请日： 2000-11-14 - 公布日： 2003-01-08 - 主分类号： B29C37/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于涂覆基底表面的箔状涂层剂,其具有外遮盖层、发色中间层和可硬化的内载体层。根据本发明内载体层是用于将该箔粘结在基底表面上和用于遮盖基底表面的凹凸不平的可流动和硬化的粘结和填平层,并且具有柔韧、可硬化的外遮盖层。此外本发明还涉及使用这类涂层剂涂覆基底表面的方法。
用于基底表面涂层方法

[发明专利]表面增强拉曼散射基底-CN201710637488.2有效
发明人：朱圣清;周健;杨润苗;周仕龙 -专利权人：江苏理工学院
申请日： 2015-04-15 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： G01N21/65 文献下载
摘要：本发明公开了一种表面增强拉曼散射基底，基底包括导电衬底、二维贵金属微纳结构阵列和金纳米星；各阵列单元为星形贵金属薄膜，每一个星形贵金属薄膜单元的尺寸为150nm～1000nm，相邻的两个单元之间的间距为本发明的表面增强拉曼散射基底一方面由于金纳米星颗粒自身增强电场，另一方面由于二维微纳结构阵列中各星形单元的尖端与金纳米星颗粒尖端进一步耦合，极大地提高了附近区域的电场强度，因此获得高灵敏度表面增强拉曼散射基底
表面增强散射基底

[发明专利]玻璃基底表面的保护方法-CN00102329.2无效
发明人： A·维贝尔;R·毛赫;R·比尔克勒;A·贝恩德特;D·施拉特尔贝克;M·瓦特尔 -专利权人：肖特玻璃制造厂
申请日： 2000-02-16 - 公布日： 2000-10-04 - 主分类号： C03C17/32 文献下载
摘要：一种保护玻璃基底表面的方法,该方法在玻璃基底或玻璃陶瓷上涂敷至少一层聚合物保护层。该层可在加工和运输过程中保护表面不产生会导致产品破裂的划痕,并能确保表面不受到不可接受的表面损伤,因此无需二次抛光。本方法可用以生产高质玻璃基底,特别是显象玻璃、具有该显象玻璃的电子设备和由该玻璃和玻璃陶瓷制成的硬盘基底。
玻璃基底表面保护方法

[发明专利]玻璃基底表面的保护方法-CN200510062628.5无效
发明人： A·维贝尔;R·毛赫;R·比尔克勒;A·贝恩德特;D·施拉特尔贝克;M·瓦特尔;I·汉兹 -专利权人：肖特玻璃制造厂
申请日： 2000-02-16 - 公布日： 2005-09-21 - 主分类号： C03C17/28 文献下载
摘要：一种保护玻璃基底表面的方法，该方法在玻璃基底上涂敷至少一层可去除的聚合物保护层。该层可在加工和运输过程中保护表面不产生会导致产品破裂的划痕，并能确保表面不受到不可接受的表面损伤，因此无需二次抛光。本方法可用以生产高质玻璃基底，特别是显象玻璃、具有该显象玻璃的电子设备和由该玻璃和玻璃陶瓷制成的硬盘基底。
玻璃基底表面保护方法

[实用新型]表面增强拉曼散射基底-CN201220016722.2有效
发明人：温晓镭;王沛;张斗国;鲁拥华;明海 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2012-01-13 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： G01N21/65 文献下载
摘要：本实用新型公布了一种表面增强拉曼散射基底，涉及分子探测与识别技术和金属微纳结构制备方法。该类表面增强拉曼散射基底由具有纳米级间隙的金属微纳结构组成，在间隙内存在表面等离子体激元局域场耦合效应；具体形式包括：Ag纳米颗粒与Ag膜耦合体系、Ag纳米颗粒与Ag纳米小孔阵列耦合体系、Ag纳米球帽与本实用新型该类表面增强拉曼散射基底的制备方法安全简便，不需要复杂的设备，成本低，结构稳定可控，重复率高，同时能提供高增强因子。
表面增强散射基底

[发明专利]控制基底表面能的方法-CN201580008266.3有效
发明人： C.纳瓦罗;C.尼科利特;X.希瓦利埃 -专利权人：阿科玛法国公司
申请日： 2015-02-06 - 公布日： 2018-12-25 - 主分类号： C09D153/00 文献下载
摘要：本发明涉及控制基底的表面能以可获得随后沉积在所述表面上的嵌段共聚物膜的纳米畴的特定取向的方法，所述方法特征在于，其包括下列步骤：制备聚合物的共混物，聚合物各自包括至少一个容许将其接枝到所述基底的表面或在所述基底的表面上进行交联的官能团，将由此制备的共混物沉积到所述基底的表面上，实施如下处理：其导致所述共混物的各聚合物接枝到所述基底的表面或者在所述基底的表面上进行交联。
控制基底表面方法

[发明专利]具有弯曲基底表面的熨斗-CN01810492.4无效
发明人：巴苏基·穆尔亚迪 -专利权人：巴苏基·穆尔亚迪
申请日： 2001-03-22 - 公布日： 2003-08-27 - 主分类号： D06F75/38 文献下载
摘要：用于熨烫服装的熨斗(1)，包括弯曲的基底表面(2)，其中弯曲基底表面(2)的剖面在纵向和/或横向基本上是半椭圆形的。熨斗(1)包括手柄(5)，该手柄允许熨斗在横跨表面的所有方向移动。
具有弯曲基底表面熨斗

[发明专利]涂敷金属基底表面的方法-CN01803877.8无效
发明人： O·蒂勒;F·齐默曼 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 2001-01-16 - 公布日： 2003-02-05 - 主分类号： B05D3/02 文献下载
摘要：金属表面用高能NIR辐射预处理、然后涂敷以一种粉末或液体涂料组合物、接着再使该涂料混合物固化或干燥。如此处理的金属表面呈现出较好的涂层附着力以及改善的外观与性能。此法的成本效果甚佳。
金属基底表面方法

[发明专利]用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置-CN202180070405.0在审
发明人：安德烈亚斯·格莱斯纳;U·辛德勒 -专利权人：塞姆西斯科有限责任公司
申请日： 2021-10-12 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置，一种用于固持基底以对基底进行表面处理的夹持模块，以及一种组装用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置的方法。所述用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置包括：夹持支架和驱动单元。从横截面看，所述夹持支架包括：第一臂和第二臂。第一臂可相对于第二臂移动至基底的接收位置且第一臂与第二臂之间保持接收距离。第一臂可相对于第二臂移动至基底的固定位置且第一臂与第二臂之间保持固定距离。所述固定距离小于接收距离。所述驱动单元至少部分地被所述夹持支架包围。
用于固定基底进行表面处理夹持装置

[发明专利]基底抛光系统及基底抛光方法-CN201710691541.7有效
发明人：赵玹辰;裴俊和;秋秉权;姜秉薰;千俊赫;崔贞惠;丁荣镐;曹雨辰 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2017-08-14 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本公开提供了一种基底抛光系统和使用该基底抛光系统的基底抛光方法，该基底抛光系统包括：抛光机和基底输送器。抛光机包括：下表面板，安装有基底；以及上表面板，面对下表面板并且与下表面板协作抛光基底，上表面板具有比安装在下表面板上的基底的面积大的面积。基底输送器与抛光机相邻，并且在第一方向上将基底输送到抛光机并从抛光机输送基底，基底输送器在抛光基底之前将基底附着到下表面板，并且在抛光基底之后将基底与下表面板分离。
基底抛光系统方法

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