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- [实用新型]用于L型膜包机的上送膜机构-CN202020317595.4有效
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封其柱
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苏州嘉达禾机械有限公司
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2020-03-13
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2020-11-13
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B65B41/16
- 本实用新型公开了一种用于L型膜包机的上送膜机构,包括龙门架,所述龙门架上固接有一对支撑板,一对所述支撑板上共同设有用于支撑上膜卷料的托辊组件。所述龙门架上还设有用于将上膜卷料放卷的包装膜牵引至封膜机构的牵引辊组件。所述托辊组件、牵引辊组件之间设有张力调节组件,所述张力调节组件包括平行设置在支撑板上的一号导辊、二号导辊,所述一号导辊、二号导辊的下方设有能自由摆动的张力调节辊,所述张力调节辊的一侧与固接在支撑板上的摆动部连接包装膜从托辊组件上放卷后依次绕过一号导辊、张力调节辊、二号导辊后经牵引辊组件牵引进入到封膜机构内。本实用新型的上送膜机构实现了对包装膜张力的自调节,保证了包装膜输送的稳定性。
- 用于包机上送膜机构
- [实用新型]具有易于排气纹路的离型膜-CN202123384729.8有效
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彭权;韩英俊
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东莞市鑫玺源新材料科技有限公司
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2021-12-29
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2022-07-12
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B32B3/30
- 本实用新型属于离型膜技术领域,尤其涉及一种具有易于排气纹路的离型膜,第一离型膜层、第二离型膜层和第三离型膜层;第二离型膜层的上侧面和下侧面分别与第一离型膜层的下侧面和第三离型膜层的上侧面粘接;第二离型膜层的上侧面和下侧面均设有第一波浪形凹凸部,第一离型膜层的下侧面和第三离型膜层的上侧面均设有第二波浪形凹凸部,第一波浪形凹凸部的凸起和凹槽分别与第二波浪形凹凸部的凹槽和凸起适配嵌接;第一离型膜层的上侧面凹设有多条排气纹路,在离型膜贴附在产品上时,离型膜与产品之间的气泡能通过多条排气纹路排到离型膜和产品外,离型膜与产品之间不会出现气泡,提高产品贴合度,且不易出现离型膜脱落或分层现象,使用效果好。
- 具有易于排气纹路离型膜
- [实用新型]一种磨砂PET离型膜-CN202220049522.0有效
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朱海娟;洪丹燕
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深圳市盛达宝包装材料有限公司
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2022-01-10
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2022-05-31
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C09J7/29
- 本实用新型涉及PET膜技术领域,具体涉及一种磨砂PET离型膜,包括底膜,所述底膜上层设有离型膜主体层,所述离型膜主体层上设有耐磨层,所述耐磨层上设有磨砂涂层,所述离型膜主体层包括两层PET基材层,两层所述PET基材层之间设有离型膜层;通过将离型膜主体层设置为两层PET基材层夹持离型膜层的形式,能够提升离型膜主体层的整体性,降低了离型膜在使用时出现开裂现象的发生,通过在离型膜主体层上设有耐磨层,能够提升离型膜的耐磨性能;在耐磨层上设有磨砂涂层,能够起到防刮花、耐脏污性能,降低了离型膜上留下的水渍、指纹等痕迹,通过耐磨层和磨砂涂层的共同作用,能够提升PET离型膜耐磨性。
- 一种磨砂pet离型膜
- [实用新型]背胶组合结构-CN201220514829.X有效
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胡荣;胡宏宇;陈进财
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苏州达翔新材料有限公司
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2012-10-09
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2013-04-24
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C09J7/02
- 本实用新型公开了一种背胶组合结构,其特征在于:其包括保护膜、离型膜或第二保护膜、背胶单品和底层离型膜,所述底层离型膜上贴附有若干个间隔分布的背胶单品,每一所述背胶单品上贴附有一尺寸更大的离型膜或第二保护膜,若干个所述离型膜或第二保护膜相互间隔,所述保护膜贴附在所述若干个离型膜或第二保护膜上,所述保护膜上设有用于使所述离型膜或第二保护膜与保护膜不完全接触的衬垫或油墨。本实用新型改善了保护膜与背胶单品上的离型膜或第二保护膜的剥离状况,使保护膜剥离时,单个背胶产品上离型膜或第二保护膜不被带走、离型膜或第二保护膜及背胶单品不脱落,同时提升了组装的良率及精度。
- 组合结构
- [实用新型]一种易拉胶-CN202220983245.0有效
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纪生;匡汇鹏;周胜吉
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东莞爵士先进电子应用材料有限公司
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2022-04-26
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2022-11-22
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C09J7/10
- 包括离型膜、胶膜、中部拉带,拉带置于胶膜中部,离型膜对应置于胶膜两侧,离型膜和拉带连接,离型膜包括上离型膜、下离型膜,胶膜包括上胶膜、下胶膜,上胶膜对应贴合置于下胶膜上,上离型膜盖合置于上胶膜上,下离型膜盖合置于下胶膜底部,拉带至上胶膜、下胶膜之间,拉带上设置有粘合槽,上胶膜、下胶膜通过粘合槽对应粘合,拉带两侧设置有侧切槽,上胶膜、下胶膜的边缘通过侧切槽粘合,拉带上对称设置有切割翼,切割翼为侧切槽端部设置有凸出结构,上离型膜、下离型膜为一体结构,拉带通过连接部和离型膜连接,采用拉带,配合为了进行快速分离,重新定位安装。
- 一种易拉胶
- [实用新型]背胶组合结构-CN201220515091.9有效
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胡荣;胡宏宇;陈进财
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苏州达翔新材料有限公司
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2012-10-09
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2013-04-24
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B32B7/12
- 本实用新型公开了一种背胶组合结构,其特征在于:其包括保护膜、离型膜或第二保护膜、背胶单品和底层离型膜,所述底层离型膜上贴附有若干个间隔分布的背胶单品,每一所述背胶单品上贴附有一尺寸更大的离型膜或第二保护膜,若干个所述离型膜或第二保护膜相互间隔,所述保护膜贴附在所述若干个离型膜或第二保护膜上,所述保护膜上开设有用于使所述离型膜或第二保护膜与保护膜不完全贴附的孔或无胶区。本实用新型改善了保护膜与背胶单品上的离型膜或第二保护膜的剥离状况,使保护膜剥离时,单个背胶产品上离型膜或第二保护膜不被带走、离型膜或第二保护膜及背胶单品不脱落,同时提升了组装的良率及精度。
- 组合结构
- [实用新型]OCA光学胶-CN201620407883.2有效
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王鑫海;刘庆声;杨勇;王明军
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东莞市钛科光电科技有限公司
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2016-05-06
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2016-09-28
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C09J7/00
- 本实用新型公开一种OCA光学胶,包括从上到下依次设有重离型膜、光学胶膜、轻离型膜,所述重离型膜四个L角上分别设有一MARK点。本实用新型结构简单,通过在加工时使重离型膜尺寸大于光学胶膜尺寸,同时在重离型膜上增加MARK定位标示,另将轻离型膜同时加大,并大于重离型膜,这样可以确保光学胶膜始终处于轻离型膜和重离型膜之间保持较好的剥离效果,光学胶膜边缘与轻离型膜和重离型膜的离型面始终接触不发生粘连,重离型膜上的MARK点可精准解决TP贴合时定位异常的问题。
- oca光学
- [发明专利]锗硅生长后氮化掩膜层的去除方法-CN201811630059.3有效
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陆连;朱轶铮
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上海华力集成电路制造有限公司
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2018-12-29
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2020-11-24
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H01L21/28
- 本发明提供一种锗硅生长后氮化掩膜层的去除方法,在氧化膜侧壁上形成氮化膜侧墙;将光刻胶覆盖氮化膜掩膜层和氧化膜上表面;利用N型、P型多晶硅栅极的高度差,使N型多晶硅栅极上的氧化膜掩膜层和氮化膜掩膜层露出,而P型多晶硅栅极上氧化膜表面仍被光刻胶覆盖;将N型多晶硅栅极上的氧化膜以及氧化膜掩膜层去除至露出氮化膜掩膜层;P型多晶硅栅极上的氧化膜仍被光刻胶覆盖;光刻胶剥离后去除氮化掩膜层和氮化膜侧墙。由于N型多晶硅栅极氧化掩膜层已经被单独刻蚀,所以DHF刻蚀时间可以大大缩短,P型多晶硅氧化膜不会过度消耗,有利于保护P型多晶硅栅极,同时可以增加磷酸刻蚀时间,避免N型氮化掩膜层残留。
- 生长氮化掩膜层去除方法
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