专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]用于L包机的机构-CN202020317595.4有效
  • 封其柱 - 苏州嘉达禾机械有限公司
  • 2020-03-13 - 2020-11-13 - B65B41/16
  • 本实用新型公开了一种用于L包机的机构,包括龙门架,所述龙门架上固接有一对支撑板,一对所述支撑板共同设有用于支撑卷料的托辊组件。所述龙门架上还设有用于将上卷料放卷的包装牵引至封机构的牵引辊组件。所述托辊组件、牵引辊组件之间设有张力调节组件,所述张力调节组件包括平行设置在支撑板的一号导辊、二号导辊,所述一号导辊、二号导辊的下方设有能自由摆动的张力调节辊,所述张力调节辊的一侧与固接在支撑板的摆动部连接包装从托辊组件放卷后依次绕过一号导辊、张力调节辊、二号导辊后经牵引辊组件牵引进入到封机构内。本实用新型的机构实现了对包装张力的自调节,保证了包装输送的稳定性。
  • 用于包机上送膜机构
  • [发明专利]机的控制方法及-CN201410693212.2有效
  • 邱建国;罗凌哲;何春彬;苏庆;周晶 - 广州达意隆包装机械股份有限公司
  • 2014-11-25 - 2015-04-22 - B65B41/02
  • 本发明涉及机的控制方法和机,其中,机的控制方法包括以下步骤:根据包装对象的同步长度、机进行模的长度和模高速比例与模机的曲线点之间的转换关系建立上曲线点计算模型;其中,所述同步长度、长度由包装对象的尺寸确定,所述模高速比例用于调整模速度;获取当前包装对象的同步长度值,所需模的长度值和模高速比例值,根据所述曲线点计算模型计算当前模所需的曲线点值;根据所述曲线点值控制机对所述包装对象进行
  • 上膜机控制方法
  • [实用新型]具有易于排气纹路的离-CN202123384729.8有效
  • 彭权;韩英俊 - 东莞市鑫玺源新材料科技有限公司
  • 2021-12-29 - 2022-07-12 - B32B3/30
  • 本实用新型属于离膜技术领域,尤其涉及一种具有易于排气纹路的离,第一离层、第二离层和第三离层;第二离层的侧面和下侧面分别与第一离层的下侧面和第三离层的侧面粘接;第二离层的侧面和下侧面均设有第一波浪形凹凸部,第一离层的下侧面和第三离层的侧面均设有第二波浪形凹凸部,第一波浪形凹凸部的凸起和凹槽分别与第二波浪形凹凸部的凹槽和凸起适配嵌接;第一离层的侧面凹设有多条排气纹路,在离贴附在产品时,离与产品之间的气泡能通过多条排气纹路排到离和产品外,离与产品之间不会出现气泡,提高产品贴合度,且不易出现离脱落或分层现象,使用效果好。
  • 具有易于排气纹路离型膜
  • [实用新型]一种OCA专用涂硅面防静电重离-CN202020515035.X有效
  • 白有洵 - 思立科(江西)新材料有限公司
  • 2020-04-09 - 2020-12-29 - C09J7/40
  • 本实用新型公开了一种OCA专用涂硅面防静电重离,涉及离膜技术领域,包括离本体,离本体包括离层,离层包括层和下离层,层和下离层的内部均内嵌安装有若干拉伸线;下离层的下表面粘接有黏贴层,所述黏贴层的下表面均匀设置有黏贴条;设置包括层和下离层的离层,并在上离层和下离层的内部内嵌拉伸线,并使拉伸线相互交叉编织成正六边形网孔的拉伸网,从而提高离的抗拉伸力,防止离被拉扯变形;通过设置有黏贴层以及黏贴条,黏贴条呈网状排列,且在黏贴条均匀设置有黏性颗粒,使得黏贴层在保持黏性的前提下易于撕取。
  • 一种oca专用涂硅面防静电重离型膜
  • [实用新型]一种磨砂PET离-CN202220049522.0有效
  • 朱海娟;洪丹燕 - 深圳市盛达宝包装材料有限公司
  • 2022-01-10 - 2022-05-31 - C09J7/29
  • 本实用新型涉及PET膜技术领域,具体涉及一种磨砂PET离,包括底,所述底上层设有离主体层,所述离主体层设有耐磨层,所述耐磨层设有磨砂涂层,所述离主体层包括两层PET基材层,两层所述PET基材层之间设有离层;通过将离主体层设置为两层PET基材层夹持离层的形式,能够提升离主体层的整体性,降低了离在使用时出现开裂现象的发生,通过在离主体层设有耐磨层,能够提升离的耐磨性能;在耐磨层设有磨砂涂层,能够起到防刮花、耐脏污性能,降低了离留下的水渍、指纹等痕迹,通过耐磨层和磨砂涂层的共同作用,能够提升PET离耐磨性。
  • 一种磨砂pet离型膜
  • [实用新型]背胶组合结构-CN201220514829.X有效
  • 胡荣;胡宏宇;陈进财 - 苏州达翔新材料有限公司
  • 2012-10-09 - 2013-04-24 - C09J7/02
  • 本实用新型公开了一种背胶组合结构,其特征在于:其包括保护、离或第二保护、背胶单品和底层离,所述底层离贴附有若干个间隔分布的背胶单品,每一所述背胶单品贴附有一尺寸更大的离或第二保护,若干个所述离或第二保护相互间隔,所述保护贴附在所述若干个离或第二保护,所述保护设有用于使所述离或第二保护与保护不完全接触的衬垫或油墨。本实用新型改善了保护与背胶单品的离或第二保护的剥离状况,使保护剥离时,单个背胶产品或第二保护不被带走、离或第二保护及背胶单品不脱落,同时提升了组装的良率及精度。
  • 组合结构
  • [实用新型]一种PE硅油膜-CN201921089943.0有效
  • 刘佳泰 - 湖北舰海新兴材料股份有限公司
  • 2019-07-12 - 2020-06-30 - C09J7/40
  • 本实用新型涉及硅油膜技术领域,具体涉及一种PE硅油膜,包括自下而上依次为层、层、增强层、下离层和下层,所述增强层夹持在所述层与所述下离层之间,所述层外侧设有层,所述下离层外侧设有下层本实用新型设置有层、层、增强层、下离层和下层,层和下层起润滑、耐高温、抗低温、耐老化作用,层和下离层起防水作用,绝缘性好,增强层起强度好,不易变形。
  • 一种pe硅油
  • [实用新型]一种易拉胶-CN202220983245.0有效
  • 纪生;匡汇鹏;周胜吉 - 东莞爵士先进电子应用材料有限公司
  • 2022-04-26 - 2022-11-22 - C09J7/10
  • 包括离、胶膜、中部拉带,拉带置于胶膜中部,离对应置于胶膜两侧,离和拉带连接,离包括、下离,胶膜包括胶膜、下胶膜,胶膜对应贴合置于下胶膜盖合置于胶膜,下离盖合置于下胶膜底部,拉带至上胶膜、下胶膜之间,拉带上设置有粘合槽,胶膜、下胶膜通过粘合槽对应粘合,拉带两侧设置有侧切槽,胶膜、下胶膜的边缘通过侧切槽粘合,拉带上对称设置有切割翼,切割翼为侧切槽端部设置有凸出结构,、下离为一体结构,拉带通过连接部和离连接,采用拉带,配合为了进行快速分离,重新定位安装。
  • 一种易拉胶
  • [实用新型]一种固定长度可调厚加热器-CN201720211970.5有效
  • 吴鹿生;董志超;钱建伟;谢江西 - 浙江安扬新能源科技有限公司
  • 2017-03-06 - 2017-09-26 - H05B3/20
  • 本实用新型公开了一种固定长度可调厚加热器,包括厚加热器与下U盖板,厚加热器包括加热板与下厚加热板,加热板设置在下厚加热板,下U盖板设有U盖板,加热板与下厚加热板的一端为自由端,加热板与下厚加热板的另一端设置在下U盖板与U盖板的端部之间,下U盖板与U盖板的端部设有侧盖板;U盖板与下U盖板之间设有引线板;引线板的端部与加热板连接,加热板与下厚加热板通过导线串联;加热板与下厚加热板之间设有绝缘片。
  • 一种固定长度可调加热器
  • [实用新型]背胶组合结构-CN201220515091.9有效
  • 胡荣;胡宏宇;陈进财 - 苏州达翔新材料有限公司
  • 2012-10-09 - 2013-04-24 - B32B7/12
  • 本实用新型公开了一种背胶组合结构,其特征在于:其包括保护、离或第二保护、背胶单品和底层离,所述底层离贴附有若干个间隔分布的背胶单品,每一所述背胶单品贴附有一尺寸更大的离或第二保护,若干个所述离或第二保护相互间隔,所述保护贴附在所述若干个离或第二保护,所述保护开设有用于使所述离或第二保护与保护不完全贴附的孔或无胶区。本实用新型改善了保护与背胶单品的离或第二保护的剥离状况,使保护剥离时,单个背胶产品或第二保护不被带走、离或第二保护及背胶单品不脱落,同时提升了组装的良率及精度。
  • 组合结构
  • [实用新型]OCA光学胶-CN201620407883.2有效
  • 王鑫海;刘庆声;杨勇;王明军 - 东莞市钛科光电科技有限公司
  • 2016-05-06 - 2016-09-28 - C09J7/00
  • 本实用新型公开一种OCA光学胶,包括从上到下依次设有重离、光学胶膜、轻离,所述重离四个L角分别设有一MARK点。本实用新型结构简单,通过在加工时使重离尺寸大于光学胶膜尺寸,同时在重离增加MARK定位标示,另将轻离同时加大,并大于重离,这样可以确保光学胶膜始终处于轻离和重离之间保持较好的剥离效果,光学胶膜边缘与轻离和重离的离面始终接触不发生粘连,重离的MARK点可精准解决TP贴合时定位异常的问题。
  • oca光学
  • [发明专利]锗硅生长后氮化掩层的去除方法-CN201811630059.3有效
  • 陆连;朱轶铮 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2018-12-29 - 2020-11-24 - H01L21/28
  • 本发明提供一种锗硅生长后氮化掩层的去除方法,在氧化侧壁上形成氮化侧墙;将光刻胶覆盖氮化层和氧化上表面;利用N、P多晶硅栅极的高度差,使N多晶硅栅极的氧化层和氮化层露出,而P多晶硅栅极氧化表面仍被光刻胶覆盖;将N多晶硅栅极的氧化以及氧化层去除至露出氮化层;P多晶硅栅极的氧化仍被光刻胶覆盖;光刻胶剥离后去除氮化掩层和氮化侧墙。由于N多晶硅栅极氧化掩层已经被单独刻蚀,所以DHF刻蚀时间可以大大缩短,P多晶硅氧化不会过度消耗,有利于保护P多晶硅栅极,同时可以增加磷酸刻蚀时间,避免N氮化掩层残留。
  • 生长氮化掩膜层去除方法

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