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- [发明专利]图案化雾面转印膜结构-CN201010549857.0无效
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韩久康
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琨诘电子(昆山)有限公司
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2010-11-19
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2011-04-13
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B41M5/44
- 本发明涉及一种图案化雾面转印膜结构,包括:一基底薄膜层,包括由微粒子构成的抗眩光剂;一遮蔽层,覆盖于基底薄膜层上表面的局部区域;一离型层,设置于基底薄膜层以及遮蔽层的上表面;一第一硬化膜层,设置于离型层的上表面;一饰纹层,设置于第一硬化膜层的上表面;一第二硬化膜层,设置于饰纹层的上表面;以及一黏着膜层,设置于第二硬化膜层的上表面。本发明在具有凹凸粗糙上表面的基底薄膜层上方设置遮蔽层,以于基底薄膜层上方形成一光面图案,从而使得间隔离型层邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面,上方并分布有光面图案,而于转印膜应用时达到图案化雾面效果,以满足多样化的产品外观设计需求。
- 图案化雾面转印膜结构
- [实用新型]图案化雾面转印膜结构-CN201020613801.2无效
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韩久康
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琨诘电子(昆山)有限公司
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2010-11-19
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2011-08-31
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B41M5/44
- 本实用新型涉及一种图案化雾面转印膜结构,包括:一基底薄膜层,包括由微粒子构成的抗眩光剂;一遮蔽层,覆盖于基底薄膜层上表面的局部区域;一离型层,设置于基底薄膜层以及遮蔽层的上表面;一第一硬化膜层,设置于离型层的上表面;一饰纹层,设置于第一硬化膜层的上表面;一第二硬化膜层,设置于饰纹层的上表面;以及一黏着膜层,设置于第二硬化膜层的上表面。本实用新型在具有凹凸粗糙上表面的基底薄膜层上方设置遮蔽层,以于基底薄膜层上方形成一光面图案,从而使得间隔离型层邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面,上方并分布有光面图案,而于转印膜应用时达到图案化雾面效果,以满足多样化的产品外观设计需求。
- 图案化雾面转印膜结构
- [发明专利]图案化雾面转印膜结构-CN201010549859.X无效
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韩久康
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琨诘电子(昆山)有限公司
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2010-11-19
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2011-04-13
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B41M5/44
- 本发明涉及图案化雾面转印膜结构,其特征在于包括:一基底薄膜层,包括由微粒子构成的抗眩光剂,使基底薄膜层具有凹凸粗糙的上表面;一遮蔽层,覆盖基底薄膜层的上表面的局部区域,具有光滑的上表面;一离型层,设置于基底薄膜层及该遮蔽层的上表面;一硬化膜层,设置于离型层的上表面;一饰纹层,设置于硬化膜层的上表面;以及一黏着膜层,设置于饰纹层的上表面。本发明的基底薄膜层的上方具有凹凸粗糙上表面,在基底薄膜层上方形成光面图案,因此邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面,上方并分布有光面图案,在转印膜应用时达到图案化雾面效果,满足多样化的产品外观设计需求
- 图案化雾面转印膜结构
- [发明专利]膜电极组件及其制备方法和应用-CN202111419142.8在审
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晁威;陈雪松;李奇
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未势能源科技有限公司
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2021-11-26
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2023-05-30
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H01M8/1004
- 本发明公开了一种膜电极组件及其制备方法和应用,该方法包括:(1)将具有第一催化剂层的转印膜置于第一保护膜上;(2)将第一垫片置于所述第一保护膜上;(3)将质子交换膜置于所述具有第一催化剂层的转印膜上,然后将具有第二催化剂层的转印膜置于质子交换膜上远离所述具有第一催化剂层的转印膜的一侧;(4)将第二垫片置于所述质子交换膜上,然后将第二保护膜置于所述具有第二催化剂层的转印膜上后进行热压转印;(5)去除所述第一垫片和所述第二垫片,然后去除所述第一保护膜和所述第二保护膜,最后剥离所述具有第一催化剂层的转印膜上的转印膜和所述具有第二催化剂层的转印膜上的转印膜,以便得到膜电极组件。
- 电极组件及其制备方法应用
- [发明专利]文字防伪烫金膜及其制作工艺-CN201110441328.3有效
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李峰
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李峰
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2011-12-26
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2012-07-11
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B41M5/42
- 本发明公开了一种文字防伪烫金膜及其制作工艺,该烫金膜依次包括转移胶层、铝层保护层、铝层、文字信息层、离型层及基材介质层,所述转移胶层为热熔胶,所述铝层保护层为保护铝层,防止铝层氧化及脱落,所述铝层为镀铝在膜上镀层薄薄的铝层,所述文字信息层包括印刷的基本信息部分以及喷印的文字防伪特征部分,所述离型层包括普通转移涂料及镭射模压涂料;制作工艺,其包括:在PET膜上涂布转移材料,形成离型层;用喷印工艺在膜的离型层上喷印防伪信息;最后涂布转移胶粘层。本发明利用烫金膜的优点,并结合了文字防伪技术,赋予了每一个标签生命力,让产品包装的一体化得以实现。
- 文字防伪烫金及其制作工艺
- [发明专利]转印产品的制造方法及转印产品-CN202210597827.X在审
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江进胜;江金航;王显玲
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惠州市柯梦科技有限公司
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2022-05-30
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2022-08-09
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G03G15/18
- 本发明揭示了一种转印产品的制造方法及转印产品,其中,转印产品的制造方法包括以下步骤:获得碳粉激光打印膜;其中,碳粉激光打印膜包括基材层以及图案层,图案层形成于基材层上,图案层的原材料为碳粉;预设待转印产品和碳粉激光打印膜;将碳粉激光打印膜具有图案层的一面贴附到待转印产品表面;撕下基材层,碳粉激光打印膜的图案层转印至待转印产品表面,获得预转印产品;对预转印产品进行加热处理,获得转印产品。本申请通过采用碳粉作为图案层的原材料,使得图案层可以直接转印在产品的表面,且转印后的图案较为稳定,不易发生升华,从而无需先在产品表面涂覆隔离层,就可以在产品表面转印得到稳定的图案,节约了成本。
- 产品制造方法
- [实用新型]一种满尘烫印膜-CN202220159370.X有效
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鄂忠春
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苏州施尔斯电器材料有限公司
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2022-01-20
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2022-09-06
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B41M5/025
- 本实用新型公开了一种满尘烫印膜,涉及到满尘烫印膜领域,包括烫印膜,所述烫印膜包括基底层,所述基底层的上表面固定连接有离型层,所述离型层的上表面固定连接有成像层,所述成像层的上表面固定连接有反射层,所述基底层的粘贴有胶层,所述胶层的下表面粘贴有多个凸起胶垫,多个所述凸起胶垫的下表面均粘贴有连接胶片。本实用新型能够满足烫印膜正常使用效果,并且能够在烫印膜与物体连接的时候,通过多个连接的凸起胶垫和相应的连接胶片将烫印膜表面与物体表面多点连接,使得物体表面的防尘无法影响到烫印膜与物体连接,增加了烫印膜的使用效果
- 一种满尘烫印膜
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