专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种不锈钢管内表面电化学抛光装置-CN00226324.6无效
  • 杨建桥;齐香君;杨建兵 - 西北轻工业学院
  • 2000-04-25 - 2001-02-14 - B23H3/00
  • 本实用新型涉及一种用于不锈钢管内表面电化学抛光装置。目前人们常用机械法和电化学法来解决用作输送管线的不锈钢管内表面粗糙问题,但存在着设备要求高、难度大、效果不佳等弊端,本实用新型由内装电解液的电解槽、电化学抛光电源、辅助阳极、辅助阴极和不锈钢管(即工件)构成,辅助阳极的一端连接电化学抛光电源,另一端设置在电解液中,辅助阴极的一端连接着电化学抛光电源,另一端设置在不锈钢管内。当接通电源后,即可实现只对工件的内表面进行抛光,简易、安全、快速、可靠。
  • 一种不锈钢管表面电化学抛光装置
  • [发明专利]一种取代铜酸洗工艺的处理铜及铜合金表面的抛光-CN201610893118.0在审
  • 王薇 - 王薇
  • 2016-10-13 - 2017-02-08 - C23F3/06
  • 本发明提供了一种取代铜酸洗工艺的处理铜及铜合金表面的抛光液,按质量百分比计,所述抛光液由下列组分组成过硫酸盐 5~10%,植酸 1~5%,碘酸钾1~3%,分子量为2000~10000聚丙烯酰胺 0.01~2%,油酸三乙醇胺0.5~2%,四甲基氢氧化铵 3~10%,表面活性剂0.1~1%,络合剂 0.1~3%,光亮剂 0.5~1%,余量为去离子水;本发明是一种不含有硫酸、铬酸、硝酸、盐酸的化学抛光液,通过化学抛光对铜及铜合金表面进行平滑化,同时对化学抛光面赋予充分的光泽。而且所以在化学抛光过程中不会由于硝酸的分解而产生有害的氮氧化物及酸雾而造成污染环境,而能够安全地进行化学抛光
  • 一种取代酸洗工艺处理铜合金表面抛光
  • [发明专利]两用抛光-CN202210608758.8在审
  • 向城;刁宇新;叶知春 - 东莞市金太阳精密技术有限责任公司
  • 2022-05-31 - 2022-08-12 - B24B27/00
  • 本发明涉及抛光机技术领域,尤其是指一种两用抛光机,其包括电化学抛光装置和打磨抛光装置,所述电化学抛光装置包括储液盒、转动机构和工件定位机构,所述储液盒设置有开口,所述转动机构包括第一转轴、第一转轴座和翻转座,所述工件定位机构安装在所述翻转座,所述工件定位机构包括工件放置台,所述翻转座能够带动所述工件放置台由水平状态翻转至竖直状态,所述打磨抛光装置包括磨头安装位,所述电化学抛光装置和所述打磨抛光装置的相对位置能够改变将工件放置到所述工件放置台上,所述工件放置台将工件先进行电化学抛光后直接进行机械式抛光,两种抛光作业连续完成,工件无需转移更换设备,有效保证抛光质量,同时提升效率。
  • 两用抛光机
  • [实用新型]两用抛光-CN202221350280.5有效
  • 向城;刁宇新;叶知春 - 东莞市金太阳精密技术有限责任公司
  • 2022-05-31 - 2022-10-04 - B24B27/00
  • 本实用新型涉及抛光机技术领域,尤其是指一种两用抛光机,其包括电化学抛光装置和打磨抛光装置,所述电化学抛光装置包括储液盒、转动机构和工件定位机构,所述储液盒设置有开口,所述转动机构包括第一转轴、第一转轴座和翻转座,所述工件定位机构安装在所述翻转座,所述工件定位机构包括工件放置台,所述翻转座能够带动所述工件放置台由水平状态翻转至竖直状态,所述打磨抛光装置包括磨头安装位,所述电化学抛光装置和所述打磨抛光装置的相对位置能够改变将工件放置到所述工件放置台上,所述工件放置台将工件先进行电化学抛光后直接进行机械式抛光,两种抛光作业连续完成,工件无需转移更换设备,有效保证抛光质量,同时提升效率。
  • 两用抛光机
  • [发明专利]一种电化学抛光方法及石墨烯薄膜制备方法-CN201710118005.8在审
  • 张志勇;陈诚;闫军锋;赵武;许曼章;王英楠;刘成 - 西北大学
  • 2017-03-01 - 2017-09-01 - C25F7/00
  • 本发明公开了一种电化学抛光方法,包括以待抛光衬底为阳极,以不溶性金属为阴极,通电搅拌进行电解,电解采用的电解液包括磷酸、硫酸、去离子水和聚乙二醇的混合液。本发明还提供一种电化学抛光平台,包括直流电源、电解容器及搅拌器;本发明的电化学抛光方法,采用了一种全新的电解液,使用磷酸、硫酸系电解液为基础,使得在电化学抛光阶段电解液对衬底的腐蚀更加均匀,在抛光过程中电解液对衬底的抛光处理可重复性高,不产生气泡,尤其在本发明的工艺下抛光铜和镍衬底时,能够有效改善衬底表面形貌,能从根本上除去细小的划痕,基本消除衬底表面缺陷。
  • 一种电化学抛光方法石墨薄膜制备
  • [实用新型]可旋转的电化学抛光装置-CN202223089851.7有效
  • 蔡蒙;欧志龙;蒋飞 - 常州英诺激光科技有限公司
  • 2022-11-21 - 2023-06-06 - C25F3/16
  • 本实用新型涉及电化学抛光领域,具体涉及一种可旋转的电化学抛光装置,包括:转动机构,夹持承载杆的杆体部;供电机构,与转动机构相连,将阳极电流从承载杆导入电解液中;其中所述承载杆的杆体部适于套设待抛光物,以及位于杆体部下端设有用于支撑待抛光物的圆盘部;本实用新型的可旋转的电化学抛光装置通过电机转动实现抛光液的流动更换,同时承载杆和顶针与待抛光物间形成多点接触,避免因单点接触出现接触不良及过腐蚀的情况,并且承载杆在转动下提高了阳极离子的流动性,提高了电化学抛光的效率
  • 旋转电化学抛光装置

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