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[发明专利]一种具有金属纹理的抛釉砖及其制备方法-CN202111141211.3在审
发明人：谢志军;赵存河;刘忠良;卢洋华 -专利权人：蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明公开一种具有金属纹理的抛釉砖及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在砖坯表面施底釉；在施底釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案；在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施全抛釉；在施全抛釉后的砖坯表面丝网印刷金属干粒釉；将丝网印刷金属干粒釉后的砖坯经过烧成并抛光，得到所述具有金属纹理的抛釉砖。所述制备方法在烧成后金属干粒牢固地嵌入全抛釉中，尤其是金属干粒的底部下陷到全抛釉中且顶部浮出全抛釉层的表面，浮凸在全抛釉层的金属干粒经过抛光形成金属颜色和金属光泽，获得的抛釉砖中金属干粒和釉面结合紧密，
一种具有金属纹理抛釉砖及其制备方法

[发明专利]一种具有颗粒状闪光装饰的全抛釉陶瓷砖及其制备方法-CN201910736009.1在审
发明人：盛正强;曹端旭;黄道聪;李艳君;邱欣 -专利权人：东莞市唯美陶瓷工业园有限公司;东莞市唯美装饰材料有限公司;江西和美陶瓷有限公司;重庆唯美陶瓷有限公司
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2019-10-22 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明公开一种具有颗粒状闪光装饰的全抛釉陶瓷砖及其制备方法，其包括将坯料压制成型，并置于辊道窑中进行干燥，形成陶瓷砖坯体；在陶瓷砖坯体表面通过3D喷墨印刷、平板印刷或辊筒印刷进行表面装饰，形成图案装饰层；在图案装饰层表面施加金砂干粒釉，形成金砂干粒釉层；在金砂干粒釉层上施加全抛釉，形成全抛釉层；入窑烧制成型，获得具有颗粒状闪光装饰的全抛釉陶瓷砖坯体；将全抛釉陶瓷砖坯体进行抛光，获得具有颗粒状闪光装饰的全抛釉陶瓷砖；其中，陶瓷砖坯体设置为与图案装饰层色调一致彩色颗粒斑点陶瓷砖坯体；金砂干粒釉层中添加有按重量比为5‑30％的金砂干粒。使得全抛釉陶瓷砖同时具备颗粒状反光效果和高釉面光泽度。
陶瓷砖坯体颗粒状金砂闪光装饰干粒釉瓷砖图案装饰层制备成型表面施加表面装饰彩色颗粒反光效果辊筒印刷坯料压制平板印刷入窑烧制斑点抛光光泽度辊道窑抛釉层重量比干粒高釉色调施加

[发明专利]一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺-CN202111508838.8在审
发明人：曾权;谢穗;管霞菲;曾立华;张巧燕;李刚 -专利权人：佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
申请日： 2021-12-10 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺，一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖的制备工艺，包括以下步骤：制坯；打印颜色墨水；打印下陷墨水；打印精雕墨水；淋涂耐磨干粒抛釉：将抛釉、悬浮剂和耐磨干粒混合均匀得到耐磨干粒抛釉，在精雕墨水层的表面淋涂耐磨干粒抛釉，形成凹陷纹理层；且所述耐磨干粒的始融温度高于所述抛釉的始融温度；烧成。本技术方案提出的一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺，在釉面砖可满足全抛光要求的前提下，有利于使产品的装饰效果更加丰富和立体，还能使产品具有良好的发色效果和耐磨性能，解决现有全抛光釉面砖的凹陷效果和发色
一种具有粗细凹陷纹理抛光釉面砖及其制备工艺

[发明专利]一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法-CN202210582004.X在审
发明人：刘一军;汪庆刚;庞伟科;杨元东;邓来福;潘岳 -专利权人：蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： C03C8/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法，属于陶瓷建材领域。所述低温快烧全抛结晶釉的原料组成包括：以质量百分比计，结晶抛釉90‑99%，引晶干粒0.5‑5.0%，熔块0.5‑5.0%；所述引晶干粒的化学组成包括：以质量百分比计，Na2
一种低温快烧全抛结晶包含艺术制备方法

[发明专利]一种干粒柔抛瓷砖生产工艺-CN201810542478.5在审
发明人：韦世归 -专利权人：佛山唯思创意产品策划股份有限公司
申请日： 2018-05-30 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明提供一种干粒柔抛瓷砖生产工艺，涉及瓷砖生产技术领域，工艺流程：刷坯、喷水（8‑10克／盘）、喷底釉（1.35比重100克／盘）、喷面釉（1.45比重40克／盘、喷墨印花、喷保护层（1.15比重30克／盘）、高压喷枪喷干粒（1.22比重105克／盘）、干燥、入窑烧结。本发明通过特定的配方工艺和抛光工艺，干粒柔抛工艺产品平均光度只有15度，解决了视觉不舒适的问题，抛光后期不需要打蜡，节省成本。干粒釉耐磨性能优于全抛釉，应用上也具备优势。柔抛产品表面手感更细腻柔，防污性能比半抛更好。
干粒瓷砖生产打蜡产品表面防污性能高压喷枪工艺产品耐磨性能抛光工艺配方工艺喷墨印花烧结工艺流程保护层干粒釉抛光手感底釉光度面釉入窑视觉应用

[发明专利]一种具有钻石光泽效果的干粒釉-CN201710027931.4有效
发明人：余水林;赵秀娟;曾青蓉 -专利权人：佛山市道氏科技有限公司
申请日： 2017-01-16 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： C03C8/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有钻石光泽效果的干粒釉，由高温亚光干粒、低温亚光干粒、钻石光泽砂、保护釉浆和印油组成。本发明的干粒釉布施在瓷砖表面干粒分布均匀，与坯体的结合性良好，烧成后通过柔抛、半抛、全抛或者不抛的任意一种工艺加工后，得到的最终产品在灯光下呈现出独特的钻石的高光泽立体感，带给消费者一种震撼的感官视觉冲击；同时其不同耐火度、不同折射率的干粒组合搭配，增强了瓷砖表面的摩擦系数，增强了防滑、耐磨和防污的效果。
一种具有钻石光泽效果干粒釉

[发明专利]纳米星光感全抛砖及其制备方法-CN202310198458.1在审
发明人：张松竹;杨晓峰;喻杰;杨飞;杜玲;熊瑶;艾梁军;杜召贤;胡丽章;刘星强 -专利权人：高安市蒙娜丽莎新材料有限公司;蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明公开一种纳米星光感全抛砖及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在砖坯表面施面釉；在施面釉后的砖坯表面喷墨打印图案；在喷墨打印图案后的砖坯表面施星光抛釉；星光抛釉包括透明抛釉和星光干粒，其中透明抛釉和星光干粒的质量比为0.9～1.1：0.04～0.06；星光干粒的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：43～49％、Al2O32O：0.5～0.9％、ZnO：6.2～8.5％、SrO：3～6.8％、BaO：0.1～2％、Na2O：3～6％；将施星光抛釉后的砖坯烧成并抛光，得到纳米星光感全抛砖。
纳米星光感全抛砖及其制备方法

[发明专利]具有晕彩釉面效果的陶瓷产品及其制备方法-CN202310283126.3在审
发明人：萧礼标;赵存河;刘忠良;李春光;周腾飞;卢洋华 -专利权人：蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请日： 2023-03-21 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C03C8/00 文献下载
摘要：所述制备方法包括以下步骤：在坯体表面施底釉；在施底釉后的坯体表面施晕彩釉；晕彩釉的基础釉的原料组成包括：以质量百分比计，拉长石干粒15～25％，透明干粒15～25％和悬浮剂40～60％；在施晕彩釉后的坯体表面施全抛釉；将施全抛釉后的坯体烧成并抛光，获得具有晕彩釉面效果的陶瓷产品。所述方法使用以透明干粒和拉长石干粒为主要原料组成的晕彩釉，避免拉长石干粒在烧成过程中分解熔融，并将其以颗粒形式保留，呈现自然立体的效果，同时由于拉长石干粒的晶相结构特点，产品表面具有强烈的晕彩效果。
具有彩釉效果陶瓷产品及其制备方法

[发明专利]一种耐磨抛釉砖及其制备方法-CN202211033475.1有效
发明人：罗强;钟保民;陈世清;曾权;徐瑜 -专利权人：佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明公开了一种耐磨抛釉砖及其制备方法，涉及建筑陶瓷技术领域。耐磨抛釉砖的制备方法包括以下步骤：将耐磨干粒和悬浮剂混合后，得到干粒耐磨釉，其中，耐磨干粒的原料包括高岭土、单晶氧化铝、烧滑石、硅灰石、钾长石、硝酸钾和六氟铝酸钠；将耐磨干粒和抛釉料混合后球磨，得到防污保护釉；在坯体的表面依次施面釉、喷墨印花后，在喷墨层的表面施抛釉料，得到抛釉层；在抛釉层的表面布施干粒耐磨釉，得到耐磨干粒层；在耐磨干粒层的表面布施防污保护釉，得到防污保护层；将上述制得的坯体烘干后烧成，抛光，得到耐磨抛釉砖。采用本发明的方法制备耐磨抛釉砖，能够有效提高耐磨抛釉砖的釉面硬度和耐磨性，同时能降低水波纹等瓷砖缺陷的产生。
一种耐磨抛釉砖及其制备方法

[发明专利]双面装饰陶瓷板及其制备方法-CN202010032597.3在审
发明人：林克辉;余海龙;刘学斌;姚策文 -专利权人：东莞市唯美陶瓷工业园有限公司;江西和美陶瓷有限公司;重庆唯美陶瓷有限公司
申请日： 2020-01-13 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： B28B3/00 文献下载
摘要：双面装饰陶瓷板由自下而上的全抛釉层、印花装饰层、底釉层、坯体层、底釉层、印花装饰层、干粒层构成复合层结构。制备方法流程：压坯‑干燥‑施底釉‑印花装饰‑施全抛釉‑烧成‑烧成砖背面施化妆土‑背面印花装饰‑背面施干粒‑烧成‑双面抛光‑打包。本发明可替代方案包括，将陶瓷板竖起来进行施釉和印花装饰，将陶瓷板竖起来进行烧成的技术，则一次烧成制备双面装饰陶瓷板。
双面装饰陶瓷及其制备方法

[发明专利]一种干粒釉、干粒釉浆及干粒釉瓷质砖-CN202210232385.9有效
发明人：李森林;刘晶;陈奕 -专利权人：佛山市道氏科技有限公司
申请日： 2022-03-10 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： C03C8/14 文献下载
摘要：本发明属于陶瓷领域，公开了一种干粒釉、干粒釉浆及干粒釉瓷质砖。干粒釉由质量比为(10～30)：100熔块和生料组成，其中，熔块的化学组成为Al2O3、SiO2<该干粒釉可以直接制成釉浆施用，有利于简化工艺要求，降低生产难度；烧成时间为50～60分钟，烧成温度较低，其生产工艺与全抛釉类似，对设备的要求更低，能耗也更低；配方更加稳定，适应不同工艺条件和窑炉温度。与普通干粒釉瓷质砖或具有干粒效果瓷砖相比，简化了生产要求，降低了生产成本，打破了干粒+胶水/悬浮剂的繁杂工艺，将干粒釉的生产工艺与全抛釉的工艺同步。
一种干粒釉干粒釉浆干粒釉瓷质砖

[发明专利]一种珠光干粒陶瓷砖及其制备方法-CN202310027840.6在审
发明人：黄宝达 -专利权人：黄宝达
申请日： 2023-01-09 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明涉及陶瓷砖技术领域，提供了一种珠光干粒陶瓷砖及其制备方法，包括银灰色通体胚体、色釉和珠光干粒釉，色釉包括以下重量比的成分：所述全抛原釉为140‑160份、银灰色料1.6‑1.8份、锰红色料0.4‑0.6份、钒黄色料0.9‑1.1份和金棕色料0.07‑0.09份，珠光干粒釉包括以下重量比的成分：悬浮剂100份和珠光干粒20份，珠光干粒釉的干粒目数为325目‑450目，将按照全抛原釉为140‑160份、银灰色料1.6‑1.8份、锰红色料0.4‑0.6份、钒黄色料0.9‑1.1份和金棕色料0.07‑0.09份配制而成的银灰色的色釉淋在银灰色通体胚体表面，然后将按照100份的悬浮剂、20份的珠光干粒配制而成的珠光干粒釉喷在银灰色的色釉表面，按照以上方法加工而成的珠光干粒陶瓷砖，其表面呈现出一种带有表面金属的质感和效果。
一种珠光陶瓷砖及其制备方法

[发明专利]一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法-CN202210849753.4在审
发明人：曾权;曾立华;谢穗 -专利权人：佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
申请日： 2022-07-20 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明涉及陶瓷砖技术领域，公开了一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法，包括由上至下依次分布的磨砂干粒釉层、抛釉层、图案层、底釉层和砖坯体；磨砂干粒釉层包括均匀分布于抛釉层表面的磨砂干粒，磨砂干粒的底部与抛釉层熔接为一体，磨砂干粒的顶部突出于抛釉层表面；柔光耐磨防滑釉面砖的光泽度跟随磨砂干粒釉的施釉量的增加而降低；磨砂干粒釉的化学成分包括SiO2、Al2干粒釉和抛釉分两次喷施的工艺，使用较少的磨砂干粒就可将釉面的光泽度降低至5‑40°，可通过调整磨砂干粒釉的施釉量来调节制品的光泽度。
一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法

[发明专利]一种用于陶瓷砖全抛釉的干粒添加剂及其制备方法-CN201410612481.1有效
发明人：于庆九;谢景春 -专利权人：佛山市高明区海帝陶瓷原料有限公司
申请日： 2014-10-31 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： C04B41/86 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于陶瓷砖全抛釉的干粒添加剂及其制备方法，该干粒添加剂中含有以重量百分比计的以下成分：Li₂O 0.3-0.6％；Na₂O 1-2％；BaO33-40％；Al₂O₃20-25％；SiO₂35-42％；MgO 4-6％，通过混合、熔化、水淬、烘干、打干粒等步骤制备而成。本发明所述的干粒添加剂加入到瓷质砖全抛釉中以提高全抛釉瓷砖的硬度与耐磨性能。本发明所述的制备方法，通过水淬工艺，将玻璃液冲碎成透明颗粒既避免了玻璃水的二次污染，又为后续的烘干和打碎节省了能耗。
一种用于陶瓷砖全抛釉添加剂及其制备方法

[发明专利]一种湿法干粒抛晶砖的制备方法及抛晶砖-CN201911322935.0有效
发明人：张良;刘俊荣 -专利权人：佛山欧神诺陶瓷有限公司
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C03C8/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种湿法干粒抛晶砖的制备方法及抛晶砖，所述制备方法包括：制备砖坯；第一次干燥；布施面釉；喷墨印花；布施干粒保护釉；第二次干燥；烧制成型；所述湿法干粒抛晶砖从下至上依次为：砖坯层、面釉层、印花层、干粒保护釉层；通过控制生产过程参数以及合适的成分及配比的干粒及干粒保护釉，制备性能优良的抛晶砖；本发明能够适用于现有生产设备，无需改造生产线；采用的淋釉工艺，釉层更加均匀，采用钟罩淋釉，调节釉量更加方便，易于回收；所需釉层更薄，仅为干法干粒用量的五分之一，用量更低，烧成周期更短，不仅降低了生产成本低，而且提高了生产效率；同时相较于干法釉层气泡、针孔等缺陷较少，发色更为细腻丰富。
一种湿法干粒抛晶砖制备方法抛晶砖

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