专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种电解氧化还原的方法-CN201210128182.1在审
  • 刘志强;邱显扬;郭秋松;朱薇 - 广州有色金属研究院
  • 2012-04-26 - 2012-08-15 - C25B1/00
  • 一种电解氧化还原的方法。其特征是以钛基涂钌和铱金属板或网为阳极,金属钛板或网为阴极,阴极液为含有三离子的稀土氯化物溶液,阳极液为含二离子的氯化亚溶液,阳极室和阴极室之间采用阴离子交换膜隔开,阴极室和阳极室分别进行三的还原和二的氧化本发明将还原与氧化合并在同一设备中完成,在三离子还原的同时,氧化二离子,节约三离子还原和二离子氧化所需的化学原料及设备,并且无氯气排放,不污染环境。
  • 一种电解氧化还原方法
  • [发明专利]短波受激发射激光晶体-CN200510017134.5无效
  • 石春山;闫景辉 - 石春山;闫景辉
  • 2005-09-14 - 2006-04-26 - C30B29/12
  • 本发明涉及一种短波受激发射激光晶体,属于信息功能材料领域中的激光晶体,在氟化镁钾基质中掺入激活剂三氟化后,三氟化中的三离子全部转换成了二离子并占据氟化镁钾中的一钾离子;这些晶体包括二离子激活的氟化镁钾晶体、二离子激活的三铈离子敏化的氟化镁钾晶体及二离子激活的三钆离子敏化的氟化镁钾晶体。三离子的掺杂浓度x=0.002-0.0029,三铈离子的掺杂浓度y=0.002-0.0029,三钆离子掺杂浓度z=0.002-0.0029,其中x、y和z均为摩尔量。晶体受激发射波长为360nm;其净光学增益系数:掺的氟化镁钾晶体为每厘米11.4±3.2;双掺和铈的氟化镁钾晶体为每厘米14.5±6.5;双掺和钆的氟化镁钾晶体为每厘米20.2±3.6。
  • 短波受激发射激光晶体

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