专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]反渗透膜及使用方法-CN201780078729.2有效
  • 王焕庭;金昇柱 - 莫纳什大学
  • 2017-12-14 - 2022-06-24 - B01D69/12
  • 本发明涉及膜和制造用于反渗透的膜的方法,所述膜具有(i)多孔基材和(ii)与所述多孔基材相邻并包含片材料和交联聚合物的层。所述片材料优选选自包括以下的石墨烯氧化物:还原的石墨烯氧化物、多孔石墨烯、多孔石墨烯氧化物、层压的石墨烯氧化物和多孔还原的石墨烯氧化物。
  • 反渗透使用方法
  • [发明专利]一种连续制备薄膜的装置-CN201210126021.9无效
  • 徐明生;黄文符;钟明轶 - 徐明生;黄文符;钟明轶
  • 2012-04-27 - 2012-08-01 - C23C14/06
  • 本发明公开了一种连续制备薄膜的设备,其特征在于在生产线上依次设置有进料腔室、第一处理腔室、第一平衡腔室、薄膜制备腔室、第平衡腔室、第处理腔室和出料腔室;进料腔室、第一处理腔室、薄膜制备腔室、第处理腔室和出料腔室中至少一个腔室设有加热装置;各腔室之间设有阀门、真空系统和气体管道,样品通过样品传送装置在各腔室之间传输;薄膜制备腔室设有薄膜沉积系统。本发明结构简单、工作可靠,可连续大面积地制备均匀的石墨烯、过镀金属硫化物、硅烯、锗烯或氮化硼等薄膜,适应于产业化制备薄膜。
  • 一种连续制备二维纳米薄膜装置
  • [发明专利]一种插层-剥离勃姆石制备片的方法-CN202310629558.5在审
  • 白鹏;赵振祥;吴萍萍;吴安;谢威龙;阎子峰 - 中国石油大学(华东)
  • 2023-05-30 - 2023-10-03 - C01F7/02
  • 本发明涉及一种插层‑剥离勃姆石制备片的方法,具有大孔容高比表面积的勃姆石技术领域,提供了一种低成本合成兼具大孔容高比表面积的勃姆石纳米片的方法。本发明以无机小分子对勃姆石进行插层,并削弱层间作用力,从而剥离出勃姆石纳米片层。所得纳米片增加了勃姆石的比表面积,而纳米片组装形成的孔道提升了勃姆石的孔体积。本发明提供的制备方法具有合成成本低、操作简单、采用工业原料合成、不使用任何有机模板剂、适合工业化生产等优势;本发明制备的勃姆石纳米片孔容高达2.43cm3/g,比表面积高达542.3m2/g,由长度超过20nm厚度约为2nm的片组装而成。
  • 一种剥离勃姆石制备二维纳米方法
  • [发明专利]一种制备非层状硫化镉晶体材料的方法及产品-CN201711358841.X有效
  • 张骐;金宝;周兴;翟天佑 - 华中科技大学
  • 2017-12-17 - 2019-07-23 - C30B25/00
  • 本发明属于硫化镉晶体材料领域,并公开了一种制备非层状硫化镉晶体材料的方法及产品。该方法包括下列步骤:(a)选取反应容器,将其划分为上游区域、中心区域和下游区域,选取Cd源和S源,将者分开独立置于上游区域;(b)选取In化合物作为表面抑制剂置于中心区域,选取云母作为衬底置于下游区域;(c)在反应容器中通入惰性气体隔离氧气反应,反应后在云母衬底上形成单所需非层状硫化镉晶体材料。通过本发明,满足大批量CdS晶体材料的制备需求,产物晶面表面平整、形貌均一、元素分布均匀,且原料丰富、价格低廉、制备方法简单、便于推广以及大规模生产。
  • 一种制备层状二维纳米硫化晶体材料方法产品

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