[其他]带无机物层离子膜的制备及其电解应用无效
| 申请号： | 85102088 | 申请日： | 1985-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN85102088B | 公开（公告）日： | 1988-12-07 |
| 发明（设计）人： | 李家麟;王慧中;宁远谋 | 申请（专利权）人： | 华中师范学院 |
| 主分类号： | C25B13/00 | 分类号： | C25B13/00;C25B1/46 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 中国湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供的制备带无机物层的离子膜的方法是一种电化学沉积方法。根据本方法，当离子膜上发生水分裂现象时，电解液中的钛等无机物以难溶物的形式均匀、牢固地沉积于离子膜表面上，特别是离子膜的向阴极面上。在工业电解过程中，特别是在氯碱电槽中，上述表面可以和阴极和阳极相紧贴，实现“零极距”电解，使槽电压有较大辐度的降低。 | ||
| 搜索关键词： | 无机物 离子 制备 及其 电解 应用 | ||
【主权项】：
1.一种表面带有无机物层的、适用于“零极距”电解工艺的离子交换膜的制备方法，其特征在于采用电解沉积技术，其步骤为：将一种耐氧化的含氟树脂离子交换膜夹入电解沉积槽，该膜将电解沉积槽分为阳极室和阴极室，在阳极室插入阳极并注入阳极液，在阴极室插入阴极并注入阴极液，在电解液(阳极液和/或阴极液)中存在一种可络合被沉积金属离子的络合剂，被沉积的元素为钛、锆、锑、钨和钍中的任一种，它可以以阳离子、含氧阴离子、络离子(荷正电或负电)或胶体中的任一种形式存在于电解液中，电解沉积过程的电流密度为0.05-100A/dm2，温度为25°-95℃。
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