[发明专利]一种高精度电容薄膜真空计在审

专利信息
申请号: 202310841082.1 申请日: 2023-07-11
公开(公告)号: CN116878725A 公开(公告)日: 2023-10-13
发明(设计)人: 林玉哲;陶继方;陈公贤 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: G01L21/00 分类号: G01L21/00;G01L9/12
代理公司: 青岛华慧泽专利代理事务所(普通合伙) 37247 代理人: 刘娜
地址: 266200 山*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种高精度电容薄膜真空计,包括上壳体和下壳体,上壳体的下表面固定有第一膜片,第一膜片与上壳体之间形成第一测量腔;下壳体的上表面固定有第二膜片,第二膜片与下壳体之间形成第二测量腔;上壳体的下表面和下壳体的上表面之间通过密封外壳连接,第一膜片和第二膜片与密封外壳之间形成真空参考腔;上壳体和下壳体的侧壁均开设导通槽,上壳体的上表面和下壳体的下表面通过连通外壳连接,密封外壳和连通外壳之间形成连通腔,第一测量腔和第二测量腔通过导通槽和连通腔连接;下壳体底部固定有连接管,第二测量腔通过连接管与待测真空腔体连接。本发明所公开的真空计电容变化量更大,反应更加灵敏,有利于提高电容检测的精度。
搜索关键词: 一种 高精度 电容 薄膜 真空计
【主权项】:
暂无信息
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