[发明专利]基于相位型全息的纳米印刷角度复用方法及系统在审
| 申请号： | 202211104716.7 | 申请日： | 2022-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN116125775A | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 郑国兴;陈奎先;管志强 | 申请（专利权）人： | 武汉量子技术研究院 |
| 主分类号： | G03H1/08 | 分类号： | G03H1/08;G03H1/10;G02B1/00 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 许美红 |
| 地址： | 430206 湖北省武汉市东湖新技术开发区*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于相位型全息的纳米印刷角度复用方法，包括以下步骤：S1、获取不同的目标灰度图像并对图像强度进行相应的补偿；S2、将补偿后的灰度图像的物光振幅分布与预设的周期相位分布分别组合为不同的物光，再分别与预设的参考光进行干涉叠加，得到相应的相位型全息相位分布；S3、将每一个相位型全息相位分布二次编码到选定的复用角度内，得到最终的印刷角度复用相位分布，每个复用角度对应一个观察角度；S4、根据最终的印刷角度复用相位分布确定纳米砖的转角排布。本发明使得不同的观察角度对应不同的图像，实现通过信息通道的变换(即观测角度的变换)进行显示图像的切换。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 相位 全息 纳米 印刷 角度 方法 系统 | ||
【主权项】：
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