[发明专利]一种二维斜交光栅结构的X射线散射场计算方法和装置在审
| 申请号： | 202210369982.6 | 申请日： | 2022-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN114705705A | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 陈修国;杨天娟;张家豪;马健源;刘世元 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01N23/201 | 分类号： | G01N23/201;G06F30/25;G06F111/10 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 尹丽媛 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种二维斜交光栅结构的X射线散射场计算方法和装置，属于小角散射技术领域，所述方法包括：S1：确定二维斜交光栅结构的第一斜交方向、第二斜交方向及结构特征参数；第一斜交方向和第二斜交方向上均存在周期排列的相同光栅单元；S2：以其中一个光栅单元中心为坐标原点、第二斜交方向为x轴建立直角坐标系；获取第一斜交方向与坐标系上y轴的夹角；S3：基于小角X射线散射原理和二维斜交光栅结构的分布特征构建二维斜交光栅结构对应的通用X射线散射场计算模型；将结构特征参数和夹角输入通用X射线散射场计算模型得到二维斜交光栅结构的散射强度。本发明能够提高二维斜交光栅结构散射强度的计算准确率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二维 光栅 结构 射线 散射 计算方法 装置 | ||
【主权项】：
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