[发明专利]基于F-DMAS和伪彩色的超声相控阵缺陷成像方法有效
| 申请号： | 202210131398.7 | 申请日： | 2022-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN114187291B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 李雄兵;禹利达;李海宁;宋永锋;杨占锋 | 申请（专利权）人： | 中南大学 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T7/12;G06T7/13;G06T7/136;G06T5/10;G06T5/30;G01N29/44 |
| 代理公司： | 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 | 代理人： | 马家骏 |
| 地址： | 410000 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于滤波延迟乘累加(F‑DMAS)和CMYK伪彩色的超声相控阵缺陷成像方法，并引入了自动彩色图像分割技术来检测强衰减材料中的缺陷。首先，采用F‑DMAS算法对全矩阵捕捉(FMC)数据进行后处理。然后，分析了频率成分的选择对F‑DMAS成像的影响，讨论了衰减对缺陷回波的影响。接着，利用伪彩色技术对信号的频率分量进行分离，生成具有频率和强度信息的彩色图像，以提高超声图像的信息量和缺陷的表达效果。最后，对伪彩色成像结果进行彩色图像分割和边缘检测，实现缺陷轮廓的自动提取。与线性全聚焦成像方法相比，本发明的方法在缺陷的信噪比，检测能力和表达效果等方面具有显著优势。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 dmas 彩色 超声 相控阵 缺陷 成像 方法 | ||
【主权项】：
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