[实用新型]一种填充6有效

专利信息
申请号: 202120300363.2 申请日: 2021-02-03
公开(公告)号: CN213905378U 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 叶鑫;邹继军;朱志甫;陈大洪;周青 申请(专利权)人: 东华理工大学
主分类号: H01L31/115 分类号: H01L31/115;H01L31/118;H01L31/18
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人: 施秀瑾
地址: 330013 江西省南昌市青山*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 一种填充6LiF的半绝缘GaAs微沟槽中子探测器,该探测器包括半绝缘GaAs衬底、SiO2钝化层、微沟槽、正面肖特基金属电极及背面欧姆金属电极,并在微沟槽内填充6LiF中子转换材料,中子入射面为正面。本实用新型在半绝缘GaAs衬底表面刻蚀微沟槽,有效增加中子转换材料及转换材料与半导体材料的接触面积,当中子照射6LiF后发生核反应产生α粒子,α粒子进入半绝缘GaAs衬底电离GaAs产生电子‑空穴对,在外加偏压产生的电场作用下电子‑空穴分别向两端定向运动,进而增加电子‑空穴对的收集效率,有效提高中子探测器的探测效率。
搜索关键词: 一种 填充 base sup
【主权项】:
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