[发明专利]一种基于共插层精确调控层间距的MXene膜制备方法在审
| 申请号： | 202110879117.1 | 申请日： | 2021-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN113457464A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 唐晓旻;向靖 | 申请（专利权）人： | 重庆工商大学 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D69/02;B01D71/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 400067 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于共插层精确调控层间距的MXene膜制备方法，该方法是以单层或少层MXene纳米片溶液为原料，氢氧化钠为插层剂，丁二酸为交联剂，尼龙膜（Nylon6）为基膜；先将一定体积和浓度的MXene纳米片溶液超声分散均匀，再将MXene纳米片溶液真空抽滤到聚多巴胺（PDA）涂覆的Nylon6基材（PDA/Nylon6）上即得MXene膜，然后将MXene膜在浓度为0.1~1.0mol/L的氢氧化钠和0.1~1.0mol/L丁二酸的混合溶液中浸泡0.5~1h，最后将MXene膜在70~80℃真空烘箱中加热1~2h，即得基于共插层精确调控层间距的MXene膜。本发明制备方法简单，所得的MXene膜的层间距在6Å左右，拥有扩大的纳米通道和抗溶胀的特点，且具有较高的截留率和稳定性，可以用于海水淡化、硬水软化、污水净化以及气体分离等领域，具有良好的应用潜力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 共插层 精确 调控 间距 mxene 制备 方法 | ||
【主权项】：
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