[发明专利]一种PT对称耦合微腔和磁微腔复合结构及其应用在审

专利信息
申请号: 202110796175.8 申请日: 2021-07-14
公开(公告)号: CN113608372A 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 黄琦涛;方云团 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: G02F1/09 分类号: G02F1/09
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212013 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种PT对称耦合微腔和磁微腔复合结构,整体为左右对称结构,包括设置在左右两侧的P层以及设置在中间的G层和L层,P层、G层及L层两两之间间隔设置;所述P层为耦合棱镜,G层和L层均为由具有磁光效应的介质层形成的耦合微腔,其中G层为增益介质层,而L层则为损耗介质层。此结构处于PT对称的极点状态时,具有极大的透射率,其透射率数值高达数千,能够将输入的弱光放大数千倍后透射出去,并且透射率大小还受所施加磁场的磁感应强度线性调控;可用于对光强或光信号的放大功能,或者用于通过弱磁场信号对强光场的信号调制功能。
搜索关键词: 一种 pt 对称 耦合 磁微腔 复合 结构 及其 应用
【主权项】:
暂无信息
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